Распределительное устройство для нанесения фоторезистивных покрытий Советский патент 1977 года по МПК H01L21/00 

1

Изобретение относится к распределитепьтным и дозирующим устройствам для нанесения фоторезиста и может найти применение в попупроводниковом и микроэпектронном произ-. водстве,5

Известно дозирующее устройство, содержащее корпус, запорную иглу и капилляр подачи фоторезиста на подложку LlJ .

Недостатками устройства являются скапливание в дозирующих отверстиях и кашишя- 10 pea. остатков фоторезиста, загрязнение наносимого покрытия полимеризованиым фоторезистом.

Известно также распределительное устрой-jg ство для нанесения.покрытий, содержащее трубопровод с дозирующими отверстиями, расцо.ложен 1ыми по его длине, и механизм их запирания с приводом 2 .

Недостатком известного распределителя о является низкая надежность работы пэ-за полимеризации фоторезиста па поверхностях в зазоре между трубами.

Целью изобретения является повышение надежности запирания дозируюищх отверстий. 25

, Поставленная дель достигается тем, что механизм запирания выпаднен в виде подпружинеииого поворотного рычага с кронштей.ном и шарнирныдм запираюи.1им элементом, закрепленным на кронштейне так., что ребро ег контактной Йлощадкн постоянно взаимодейст вует- с контактной площадкой трубопровода в зоне дозирующего отверстия.

Контактные площадки трубопровода парал-; лельны продольной оси трубопровода, ас осями дозирующих отверстий составляют угол равным 88-89°.

На фш.. 1 показано предооженное устройство в общем виде; на фиг. 2 - вид А на фиг. 1;на фиг. 3 - разрез по Б-Б на фиг. 1.

Распределительное устройство содержит трубопровод 1, в который через штуцер 2 подается фоторезист. Трубопровод закреютен в корпусе 3 вантами 4, По длине трубопровода выполнены дозирующие отверстия 5 и в месте их расположения контактные площадки б, .УголоС- ) образован:1ьп 1 контактной площадкой трубопровода и осью дозирующего oi верстпя, равен 88-89 , Каждое дозирующее отверстие 5 запирается своим механизмом

запирания, содержащим поворот1Ш1й рычш , один конец которого взаимодействует с npj жиной 8, закрепленной на стержне 9, а другой жестко связан винтами Юс кронштейном 11 и шарнирным запирающим апоментом 12, Элемент 12 закреплен на кронштейне 11 с помощью оси 13 так, что ребро 14 его контактной площадки действием пружины 16 постоянно взаимодействует с KOiiтактной площадкой 6 трубопровода 1, Пружи- )о на 16 закреплена на кронштейне 11 винтами 17, Для фиксации поворота шарнирного шемента 12 служит винт 18, Запирающий механизм закреплен на поворотной оси 19 штифтом 20, причем на каждую ось воздействует пневмоцилиндр 21 с помощью штока 22, Распределительное устройство работает следующим образом, В трубопровод 1 через штуцер 2 под пост янным давлением подаеахгя фоторезист, В мо мент подачи воздуха в каждый пневмоцщшндр 21 его щток 22 воздействует на поворотную ось 19, и она поворачивается на определе ный угол (, 2),:При этом поворачивается жестко связанный с ней поворотный рычш 7 который натачивает пружину 8, Кронштейн 11, поворачиваясь, отводит закрепленный в нем щарнир1 ьш запирающий элемент 12 от контактной площадки 6 трубопровода 1, а пружина 16 прижимает ребро 14 к контакэ ной площадке 6 и освобождает дозирующее отверстие 5, через которое выходит находящийся под давлением фоторезист. При прекращении подачи воздуха в пневмоцилиндры 21 их штоки 22 возвращаюч-сн в первоначальное положение, освобождая таким образом noBOpoTiibie оси 19, При этом каждая ось под действием пружины 8 поворачивается до тех пор, пока укрепленный в кро1Ш тейне 11 шарнирный э шмент 12 не упрется своей контактной площадкой 15 в контактную площадку 6, перекрыв дозирующее отверстие 5, Перед тем как шарнирный Элемент 12 своей контактной площадкой 15 установится на контактной площадке 6, его ребро 14, прижимаясь пружиной 16 к Kottтактной площадке 6, снимет с нее слой фоторезиста, который падает в сборник (нф показан) отходов фоторезиста.

Расположение элементов конструкции обеспечивает почти параллельное перемещение шарнирного элемента 12 относительно контактных плоскостей трубопровода и скольж ние его по ним с целью очистки от фоторе зиста.

При эксплуатации в производственных условияк устррйство оказалось надежным в работе с фоторезистами типа и ФП383, простым в обслуживании, профилактике, В дозирующих отверстиях не происходит скаиливания остатков фоторезиста и благодаря его постоянной циркуляции по трубе не о6 разуется осадка смолы и постоянно сохраняется вязкость по объему. Формула изобретения 1, Распределительное устройство для нааесения фоторезистивных покрытий, содержащее трубопровод с дозирующими отверстиями. расположенными по его длине, и механизм их запирания с приводом, отличающееся тем, что, с целью повыщения надежности запирания, механизм запирания выполнен Б виде подпружиненного noBOpOT taго рычага с кронштейном и шарнирным запирающим элементом, закрепленным на кро штейне так, что ребро его контактнойплощадки постоянно взаимодействует с контактной площадкой трубопровода в зоне дозирующего отверстия, 2,,Устройство по n,i, отличающееся тем, что контактные площадки трубопровода выполнены параллельно продольной оси трубопровода и под углом к осям дозирующих отверстий, равным 88-89 , Источники информации, принятые во BH Jманре при экспертизе: 1,Каталш фирмы AlEas HomJeE .t 1969, стр, 2-2О, 2.Патент США № 3282248,кл, 118-612. 1966.