Способ определения адгезии пленки к подложке Советский патент 1977 года по МПК G01N19/04 

Описание патента на изобретение SU580485A1

Изобретение относится к области ироизводства микроэлектронных приборов,, а именно к методам определения адгезионной связи пленки фоторезиста с подложкой.

Известен способ определения адгезии пленки к подложке, заключающийся в том, что воздействуют на прадицу пленка-подложка жидкой средой и по величине давления, при котором происходит отслаивание, судят об адгезии 1J.

Известный способ предусматривает предварительное изготовление отверстия в пленке, закрепление капилляра, через который подается поверхностно-активная жидкая среда.

Недостаток такого способа в низкой точности при определении адгезии фоторезиста к подложке. Это объясняется тем, что пленки фоторезиста имеют толщииу порядка 1 мкм и меньше. Кроме того, трудно осуществимо закрепление капилляра таким образом, чтобы его сцепление с периметром пленки было выще, чем нленки с подложкой. Для этого необходимо снаружи капилляра нанести каплю какого-нибудь клея, который склеил бы капилляр с пленкой фоторезиста.

11ри этом невозможно не изменить структуру и свойства очень тонкой пленки фоторезиста. Практически трудно подобрать размеры отверстия и капилляра и подогнать их друг к другу так, чтобы механически не повредить

пленку и чтобы клеящее вещество не попало на подложку. А все это искажает результаты измерений.

Известен также способ определения адгезии пленки к подложке, заключающийся в том, что воздействуют на границу пленка-подложка жидкой поверхностно-активной средой и судят об адгезии по времени до полного отслаивания пленки 2.

Известный способ предусматривает предварительное выполнение в подложке отверстия, через которое подается среда. Для нанесения пленки на подложку отверстие закрывают фторопластовой дро.бкой, т. е. известный способ предусматривает использование специальных образцов определенного вида.

Педостатком известного способа является невысокая его точность при определеиии адгезии фоторезиста к подложке, обуславливаемая тем, что при использовании образцов выщеуказанного вида происходит иредварительное формирование периметра испытуемого адгезионного соединения, в процессе которого неизбежно возникает зона с частично нарущенными адгезионными свойствами.

Величина этой зоны зависит от различных факторов, связанных с методом формирования периметра адгезионного соединения, и составляег от нескольких единиц до нескольких десятков мкм, что сравнимо с размерами элементов контролируемых приборов, например, интегральных схем.

Все это существенно снижает точность оценки адгезии между подложкой и участками фоторезиста, создающими защитную массу в процессе фотолитографии. Другим недостатком известного способа является применение поверхностно-активной жидкой среды, что отдаляет методику контроля адгезии от технологических условий реальных фотолитографических процессов. Это также снижает точность известного способа при определении адгезии фоторезиста к подложке.

Для повыщения точности определения адгезии фоторезиста к подложке в соответствии с предлагаемым способом воздействие осуществляют ламинарным потоком проявителя.

Благодаря этому адгезия может быть определена на образце, который изготовлен так же, как и в технологическом процессе фотолитографии, что устраняет указанные выще погрешности.

Способ осуществляется следующим образом.

Микроскоп МССО устанавливают на наклонную подставку. На столике микроскопа монтируют кассету для зажима образца и трубку для подачи проявителя.

Рисунок, образующий периметр адгезионного соединения получают методом фотогравировки, заключающимся в экспонировании и последующем проявлении рисунка контрольных элементов в ламинарном потоке проявителя. По окончании процесса проявления подложку с пленкой фоторезиста оставляют в потоке проявителя и фиксируют время отслаивания контрольных элементов, имеющих заданные размеры.

В данном способе жидкая среда имеет добавочную функцию - под ее воздействием в одном процессе с определением адгезии формируется рисунок, образующий периметр испытываемого адгезионного соединения.

Способ позволяет исключить влияние размера нарущенной зоны пленки по периметру адгезионного соединения на результат измерения, поскольку размер такой зоны при прочих равных условиях определяется самой адгезией пленки.

Ламинарность потока проявителя обеспечивает существенное повыщение точности определения момента разрушения испытываемых элементов за счет своевременного удаления продуктов их распада из зоны наблюдения.

Формула изобретения

Способ определения адгезии пленки к подложке, заключающийся в том, что воздействуют на границу- пленка-подложка жидкой средой и по времени до отслаивания пленки судят об адгезии, отличающийся тем, что, с целью повышения точности определения адгезии фоторезиста к подложке, воздействие осуществляют ламинарным потоком проявителя.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1.Санжаровский А. Т. Методы определения механических и адгезионных свойств полимерных покрытий. М., 1974, с. 109-110.

2.Авторское свидетельство № 263976, кл. G 01N 19/04, 1967.

Похожие патенты SU580485A1

название год авторы номер документа
СПОСОБ ФОТОЛИТОГРАФИИ 1996
  • Смолин В.К.
  • Донина М.М.
RU2096935C1
Способ контроля качества позитивных фоторезистов 1982
  • Максимова Людмила Ивановна
  • Кострова Ольга Станиславовна
  • Федоров Юрий Иванович
SU1027792A1
ФОРМИРОВАНИЕ РИСУНКА 2010
  • Зиррингхаус Хеннинг
  • Чан Цзуй-Фэнь
  • Гвиннер Михаэль
RU2518084C2
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННОГО УСТРОЙСТВА 2009
  • Бейкер Дин
  • Рамздейл Кэтрин
  • Льюис Мартин
  • Бхинтаде Рашми Сачин
RU2515340C2
ПОДЛОЖКА С НАНООТПЕЧАТКОМ 2017
  • Хань, Хуэй
  • Юань, Дацзюнь А.
  • Боуэн, М. Шейн
RU2748273C2
Тонкопленочный платиновый терморезистор на стеклянной подложке и способ его изготовления 2020
  • Гончар Игорь Иванович
  • Фюков Владимир Константинович
  • Кадина Лариса Евгеньевна
RU2736630C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РЕЛЬЕФА НА ПОВЕРХНОСТИ ФУНКЦИОНАЛЬНОГО СЛОЯ 1999
  • Раховский В.И.
RU2164707C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РЕЛЬЕФА ИЗ ЭЛЕКТРОННОГО ИЛИ ФОТОННОГО МАТЕРИАЛА 2009
  • Зиррингхаус Хеннинг
  • Чан Цзуй-Фэнь
RU2495515C2
ПОЗИТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ И СПОСОБ ЕГО ОБРАБОТКИ 1991
  • Фролов Владимир Михайлович
  • Селиванов Геннадий Константинович
  • Фирсов Рудольф Григорьевич
RU2012918C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РЕЛЬЕФА НА ПОВЕРХНОСТИ ФУНКЦИОНАЛЬНОГО СЛОЯ 1999
  • Раховский В.И.
RU2164706C1

Реферат патента 1977 года Способ определения адгезии пленки к подложке

Формула изобретения SU 580 485 A1

SU 580 485 A1

Авторы

Дроздова Татьяна Александровна

Селиванов Геннадий Константинович

Сиедин Виктор Александрович

Шмелев Николай Иванович

Штраусе Лидия Семеновна

Даты

1977-11-15Публикация

1976-11-09Подача