Устройство для дозировки и выдачи фоторезиста Советский патент 1978 года по МПК G01F13/00 

Описание патента на изобретение SU627331A1

1

Изобретение относится к дозирующим устройствам, преимущественно в области микроэлектроники, и предназначено для использования в установках нанесения фоторезиста при проведении процессов фотолитографии.

Для нанесения заданной порции фоторезиста на полупроводниковые и другие пластины обычно применяются устройства для дозирования жидкости Известно большое количество конструкций устройств для дозирования жидкости, при помощи которых решаются задачи дозирования фоторезиста , 2J, 3j 4 . Однако применение этих устройств в системах дозирования фоторезиста ограничено, так как после выдачи дозы на поверхностях дозирующих элементов застывает пленка фоторезиста. Эта пленка частично смывается последующей дозой и попадает на подложку, в результате чего ухудшаются маскирующие свойства фоторезистивного покрытия.

Из известных устройств наиболее близким по технической сущности к предлагаемому является дозирующее устройство, содержащее корпус, разделенный при помощи первого тарельчатого подпружиненного клапана на две полости - расходную идозирующую, и второй тарельчатый клапан, соединенный с первым при помощи штока 5J .

Но такое устройство не обеспечивает высокого качества получаемого фоторезистивного покрытия.

Цель изобретения - повышение качества фоторезистивного покрытия путем самоочищения устройства от сгустков фоторезиста.

Указанная цель достира«тся тем, что второй тарельчатый клапан образован нижней частью корпуса и торцовой частью цилиндрического стакана, установленного с возможностью перемещения аксиально корпусу и снабженного сквозным каналом в боковой стенке, во внутренней полости стакана установлена втулка, а шток выполнен из двух разъемных частей, одна из которых установлена во втулке и подпружинена, а во второй выполнен канал, сообщающий дозирующую полость с атмосферой, при этом устройство снабжено нагнетателем, включенным между расходной полостБю и скбрзньм каналом в боковой стенке цилиндрического стакана.

Изобретение показано на чертеже. На фиг. 1 - схема устройства в режиме циркуляции фоторезиста; на фиг. 2устройство в момент ввдаачи дозы фоторезиста.

Устройство содержит корпус 1, кс/торый разделен на. две полости; расходную 2 и дозирующую 3 при помощи первого тарельчатого клапана 4, закрьюающегося под действием пружины 5. Дозирующая полость 3 имеет боковое сливное отверстие 6. Второй тарельчатый клапан образован нижней частью корпуса 1 и торцовой частью цилиндрического стакана 7, установленного аксиально корпусу 1 и снабженного каналом 8 в боковой стенке. Во внутренней полости стакана 7 установлена втулка 9. Шток, связывающий два клапана, состоит из двух разъемных частей: верхняя часть 10 выполнена заодно с тарелкой первого клапана 4 и имеет канал 1.1, а нижняя часть 12 установлена во втулке 9 и при помощи пружины 13 связана со стаканом 7. Перемещение цилиндрического стакана осуществляется при помощи пневмо.ци™ линдра 14.

Устройство включает в себя расходный резервуар 15, нагнетатель 16, фильтр 17 и трубопроводы 18, 19, 20, 21. Вся конструкция пред.пагаемого устройства закреплена в усгановке нанесения фоторезиста с центрифугой 22.

Устройство работает следующим образом.

В исходном состоянии, т.е. в промежутке мекуду выдачей, доз фоторезиста, устройство работает в режиме п,ирку.пяции фоторезиста. При этом поршень пневмоцилиндра 14 находится в к верхнем положении - второй тарельчатый клапан герметично закрЕг1т. Нижняя 1часть штока 12, сжав пружину 13, упирается в плоскость А- втулки 9. Верхняя часть штока 10 упирается в нижнюю часть 12, а тарелка первого клапана 4 сжимая пружину 5, находится в верхнем положении. При таком положении указанных деталей расходная полость 2 сообщается с дозирующей полостью 3 и далее - через сливное отверстие б, полость стакана 7, канал 8 в стенке стакана 7, трубопровод 18 - с расход ным резервуаром 15. образом, в исходном состоянии фоторезист постоянно поступает при помощи нагнетателя 16 через фильтр 17 в расходную полость 2 и возвращается в расходный резервуар 15, при этом происходит непрерывная промывка дозирующей полос ти 3 и сливного отверстия 6, т.е. фоторезисту придается дополнительна функция промьшочной жидкости.

Непосредственно перед выдачей дозы фоторезиста выключается нагнетатель 16. Поршень пневмоцилиндра 14

перемещается в нижнее положение. Стакан 7 движется вниз, а первый клапан 4 закрывается под действием пружины 5. Во время движения стакана 7 нижняя часть 12 штока под действием пружины 13 упирается в верхнюю часть 10 штока, что задерживает сообщение с атмосферой дозирующей полости 3 через канал 11. Фоторезист удерживается в дозирующей полости 3 силой атмосферного давления до отхода стакана 7 в крайнее нижнее положение. При приближении стакана 7 к крайнему нижнему положению нижняя часть 12 штока упирается в плоскость Б втулки 9, отходит от верхней части 10 штока, канал 11 сообщается с атмосферой, и фоторезист под действием силы тяжести выливается на пластину.

После выдачи дозы фоторезиста ста кан- 7 возвращается в крайнее верхнее положение, и включается нагнетатель

Использование предлагаемого устройства позволяет снизить плотность проколов в пленке фоторезиста с 15 до .

Формула изобретения

Устройство для дозировки и- выдачи фоторезиста, содержащее корпус раздеЛенный при помощи- первого тарельчатого подпружиненного клапана на две полости - расходную и дозирую цуго, и второй тарельчатый клапан. Соединенный с первым при помощи штоKiif отличающееся тем, что, с целью повышения качества фоторезистивного покрытия путем само-, очищения устройства от сгустков фот торезиста, второй тарельчатый клапан образован нижней частью корпуса и торцовой частью цилиндрического стакна со сквозным каналом в боковой стенке, установленного с возможность перемещения аксиально корпусу, во внутренней полости стакана установлена втулка, а шток выполнен из двух разъемных частей, одна из которых установлена во втулке и подпружинена, а во второй выполнен канал, сообщшощий дозирующую полость с атмосферой, а между расходной полостью и сквозным каналом стакана включен нагнетатель.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

1.Патент cum №3213215, кл. 200-32 1965.

.2оПатент США №3171570, кл. 222-23 1965.

3.Патент Англии № 1270261, кл. В 8 М , 1972.

4.Авторское свидетельство СССР 328339, кл.С 01 Р 11/00, 1972.

5.Патент США № 3658216, нл. 222-453, 1972.

lit

«

Похожие патенты SU627331A1

название год авторы номер документа
Дозатор для однолинейной системы смазки 1976
  • Климов Борис Иванович
SU662778A1
ДОЗАТОР ОБЪЕМНОГО ТИПА ДЛЯ ЖИДКОСТЕЙ 2004
  • Гаранин Леонид Петрович
  • Брехов Геннадий Васильевич
  • Гатаулин Исак Гасинович
  • Бикбулатов Рауф Сибгатович
  • Куценко Геннадий Васильевич
  • Назаркин Владимир Алексеевич
  • Останкович Леонид Александрович
  • Пепеляев Юрий Константинович
  • Приходько Валерий Алексеевич
  • Сибгатуллин Равиль Габдрахманович
  • Гринберг Семен Ионович
  • Федченко Николай Николаевич
RU2274836C1
Устройство для дозированной подачи смазки 1982
  • Метелкин Анатолий Михайлович
  • Морозов Анатолий Павлович
SU1060877A1
РАЗЛИВОЧНАЯ МАШИНА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДОЗИРОВАНИЯ ЖИДКОСТИ 1999
  • Хохлов А.Л.
RU2161590C1
Распределительное устройство для нанесения фоторезистивных покрытий 1976
  • Введенский Лев Владимирович
  • Барышев Александр Владимирович
  • Каплин Лев Николаевич
SU579666A1
Дозатор Лесных 1987
  • Лесных Александр Иванович
SU1455239A1
Устройство для дозирования резиста 1981
  • Чернецов Игорь Данилович
  • Антипов Владимир Владимирович
SU983463A1
Дозатор жидких материалов 1989
  • Бойков Олег Васильевич
SU1700375A1
Дозатор жидкости 1978
  • Никулин Николай Иванович
  • Комаров Валерий Николаевич
SU742711A1
Устройство для дозирования жидкостей 1985
  • Федоров Александр Николаевич
SU1348653A1

Иллюстрации к изобретению SU 627 331 A1

Реферат патента 1978 года Устройство для дозировки и выдачи фоторезиста

Формула изобретения SU 627 331 A1

SU 627 331 A1

Авторы

Шмелев Николай Иванович

Штраусе Лилия Семеновна

Буравцев Анатолий Тихонович

Даты

1978-10-05Публикация

1975-08-21Подача