1
Изобретение относится к составакГ для удаления органических покрытий, в частности пленок фотореэисторов на основе поливинилового спирта (ПВО) с металлических поверхностей, содержащих железо, как то: нержавеющие стали, кавар, пермалой и т.п.
Известна композиция для удаления органических загрязнений с металлических поверхностей, содержащих железо, включающая гидрат щелочного металла, перманганат щелочного металла в качестве окислителя и неорганический восстановитель, выбранный из группы металлощелочных сульфидов, . сульфитов, бисульфитов, пиросульфитой, фосфитов и гипофосфитов 1} .
Этот состав может быть применен для удаления фоторезиста на основе ПВС, однако скорость снятия пленки невелика, что не позволяет использовать его в оборудовании при производстве некоторых изделий электронной техники.
Известен состав для удаления пленок фоторезистов на основе ПВС, включающий 10-12%-ный раствор соляной кислоты на 12-15%-ный раствор перекиси. Однако и данный состав не обеспечивает быстрого удаления пленки 2J
Прототипом изобретения является состав для удаления покрытий с металлов, содержащий гидроокись щелочного металла, нитрит щелочного металла, различные эмульгаторы и воду З.
Однако такой состав обладает незначительной активностью в отношении воздействия на органические покрытия. Указанный состав используют преимущественно для обезжиривания и слабого травления поверхности алюминиевых сплавов, при использовании его для удаления пленок из задубленного ПВС требуется длительное время его воздействия.
Длительное воздействие щелочного состава на материал матрицы, содержащий железо, вызывает образование трудно удаляемых окислов сЦветами побежалости.
Целью изобретения является повышение скорости удаления покрытия на основе задубленного поливинилового спирта.
Это достигается тем, что состав для удаления органических покрытий с металлов, включающий гидрат окиси ще лочнОго металла, нитрит щелочного ме талла и воду, дополнительно содержит нитрат щелочного металла и борйгид
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ СУХОГО ТРАВЛЕНИЯ ПЛЕНОК ДИОКСИДА КРЕМНИЯ В ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОМ ПРОЦЕССЕ | 2013 |
|
RU2524344C1 |
Раствор для удаления защитного слоя фоторезиста | 1977 |
|
SU732788A1 |
СОСТАВ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ПОЗИТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА | 1990 |
|
SU1734487A1 |
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЧЕРНОЙ МАТРИЦЫ НА ЭКРАНЕ ЦВЕТНОГО КИНЕСКОПА | 1992 |
|
RU2054731C1 |
КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ С ПЕЧАТНЫХ ФОРМ ФОТОХИМИЧЕСКИ ЗАДУБЛЕННЫХ СЛОЕВ НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛОВОГО СПИРТА | 2006 |
|
RU2316032C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОЛИМЕРНЫХ НАНОКОМПОЗИЦИЙ ДЛЯ СВЕРХПЛОТНОЙ МАГНИТНОЙ ЗАПИСИ ИНФОРМАЦИИ | 2012 |
|
RU2520239C1 |
СОСТАВ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ЛАКОКРАСОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ | 2004 |
|
RU2276173C1 |
СОСТАВ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ПОЗИТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА | 1989 |
|
SU1653442A1 |
СОСТАВ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ЛАКОКРАСОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ | 2004 |
|
RU2276172C1 |
СЛОСОБ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА | 1973 |
|
SU399089A1 |
Авторы
Даты
1978-11-25—Публикация
1977-01-17—Подача