(54) ПОЛУПРОВОДНИКОВОЕ УСТРОЙСТВО
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ПЕРЕКЛЮЧАТЕЛЬ НА ОРГАНИЧЕСКОЙ ПЛЕНКЕ | 1991 |
|
RU2013822C1 |
СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ РАБОТОЙ МЕМРИСТИВНОЙ КОНДЕНСАТОРНОЙ СТРУКТУРЫ МЕТАЛЛ-ДИЭЛЕКТРИК-ПОЛУПРОВОДНИК | 2018 |
|
RU2706197C1 |
Оптоэлектронный коррелятор изображения | 1979 |
|
SU943725A1 |
Полупроводниковое запоминающее устройство | 1980 |
|
SU1005223A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ БИПОЛЯРНЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ С ПОЛИКРЕМНИЕВЫМ РЕЗИСТОРОМ | 1990 |
|
SU1819070A1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ ИНТЕГРАЛЬНАЯ СХЕМА (ВАРИАНТЫ) | 2008 |
|
RU2400864C2 |
Кристалл униполярно-биполярного силового высоковольтного гиперскоростного арсенид-галлиевого диода с гетеропереходами с фотонными и фотовольтаидными свойствами | 2022 |
|
RU2791861C1 |
Способ изготовления интегральной схемы | 1976 |
|
SU594838A1 |
Полупроводниковое запоминающее устройство | 1979 |
|
SU789018A1 |
Электрически перепрограммируемый запоминающий прибор | 2016 |
|
RU2618959C2 |
Изобретение относится к .вычислительной технике и автоматике и может быть использовано при создании запоминающих устройств.
Известны устройства на основе гетероперехода, состоящего из низкоомного слоя, например Si-p-типа и высокоомного слоя, например ZnTe Ц. При подаче положительного токового импульса амплитудой, более чем пороговый S, , происходит переход из низкоомного в высокоомное состояние. Обратное переключение из высокоомного состояния в низкоомное осуществляется подачей отрицательного импульса напряжения с порогом V. При использовании инжектируквдего контакта реализуется биполярная схема.
Недостатками таких переключателей являются технологическая трудность изготовления тонких слоев бинарных соединений, невоспроизводимость параметров переключения, связанная, повидимому, с невоспроизводимостью свойств пленок. Такие материалы не используются для изготовления как . пассивных, так и активных элементов интегральных схем.
Известны полупроводниковые устройства на основе гетероперехода монокристаллический |Кремний - пленка двуокиси олова .
У такого прибора отсутствуют два устойчивых состояния - низкоолиое
и высокоомное, бистабильность переключения, запоминание при отключенном питающем напряжении.
Цель изобретения - обеспечение биполярности переключения, запоминания и сохранения памяти при отключенном питающем напряжении.
Это достигается тем, что пленка Sj, имеет дефекты с концентрацией не менее 5. создающими глубокие
энергетические уровни в заприценной зоне .
Эти уровни создаются либо диффузией соответствующих атомов примеси (например. Аи, Zn и т.д.), либо за
счет дефектов кристаллической решетки SnO (получение SnOj. методом ионоплазменного распыления олова в атмосфере кислорода).
В исходном состоянии элемент обладает высоким сопротивлением- ЮОм. При приложении напряжения (на двуокиси олова), превышающего пороговую величину (л-З-Б в), элемент переключается в состояние с малым сопротивлением . Это состояние запоминается и сохраняется при отключении питания. При смене полярности напряжения и после достижения порогового тока (1МА) элемент переключается вновь в высокоомное состояние .-10 Ол,которое сохраняется при отключении питания. Для неразрушающего считывания информации можно использовать импульсы тока или напряжения, амплитуды которых не превосходят пороговых ве личин. Время хранения информации при отключенном питании превосходит 3 месяца. Число обратных переключений элемента гфевосходит lot
Указанный SnO/2 бистабильный запоминающийся элемент легко изготавливают в интегральном виде ло существуклцей кремниевой Планерной технологии .
Использование пленки двуокиси олова позволяет по одной технологии в едином цикле создавать в интегральном исполнении как бистабильные запоминающиеся устройства, так и резисторы, Шотки-диоды, конденсаторы на использовании емкости области пространственного заряда Шотки-диода и полевые транзисторы с Шотки-затвором.
Формула изобретения
Полупроводниковое устройство на основе гетероперехода монокристаллический кремний-пленка двуокиси олова, отличающееся тем, что, с целью обеспечения биполярности переключения, запоминания и сохранения папяти при отключенном питаквдем напряжении, пленка имеет дефекты с концентрацией не менее 5«10 см, создающими глубокие энергетические уровни в запрещенной зоне.
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
l.Newbary D.M. and оthe гs iееtгiса1 . Beha.viour of p GenZnSe he tero j unc t i ous Electr.Lettl 1972, 8, № 1, p.104-105.
Авторы
Даты
1980-10-07—Публикация
1977-07-12—Подача