На фиг. 1 показаны температурные зависимости эллипсометрического угла А для образца GaAs/111/B для трех углов падения светового пучка на поверхность образца при длине волны ,6328 мкм: экспериментальные кривые, измеренные при углах падения 65° и 77°40 соответственно; кривая, рассчитанная для этого же образца для угла падения . Расчет проводился на вычислительной машине по точным уравнениям Друде для следующей модели отражающей поверхности образца: поглощающая подложка (GaAs) - поглоо
щающая пленка, толщиной 60 А, исходя из температурных зависимостей оптических констант GaAs и пленки, оцененных из двух угловых измерений (при и (р 77°40); на фиг. 2 представлены зависимости изменения эллипсометрического угла А, 6А при увеличении Т от комнатной до 420°С от угла падения светового пучка на поверхность образца GaAs /111/S, вычисленные по точным уравнениям Друде для разных состояний поверхности образца: кривая 1 - GaAs без поверхностной пленки , кривые 2 и 3 -GaAs+прозрачная окисная пленка с показателем преломления
О
,65 с толщинами 40 и 100 А соответственно, кривая 4 - GaAs+поглощающая пленка с ,65 и показателем поглощеО
ния и 0,27, толщиной 60 А. Как видно, зависимости 5А(ф) проходят через максимум при , больщем главного угла,
который для GaAs для А равен ,5°С. Оцененная из приведенных на фиг. 2 результатов точность измерения Г
(при ) в зависимости от состояния поверхности образца, равна 1-2°.
Настоящее изобретение имеет преимущество в точности бесконтактного измерения 5 Т полупроводников. Использование изобретения в технологии позволяет проводить технологические процессы в строго заданном температурном интервале, диктуемом условиями используемой технологии, что 1; повышает качество продуктов технологического процесса.
Формула изобретения
Бесконтактный способ измерения температуры полупроводников, включающий измерения эллипсометрического угла при отражении монохроматического поляризованного излучения от поверхности полупроводника при температуре Ть близкой к
0 комнатной, и при более высокой температуре Т2 и определение температуры полупроводника по отклонению величины эллипсометрического угла от величины угла, измеренной при температуре Tj, отличаю щ и и с я тем, что, с целью повышения точности измерения температуры, измеряют изменение эллипсометрического угла А в интервале температур Т и Т, определяемого относительной разностью фаз компонентов отраженного поляризованного излучения с электрическим вектором, параллельным и перпендикулярным плоскости падения соответственно, при таком угле падения, большем главного, при котором
5 угол А имеет наибольший температурный коэффициент, причем этот угол предварительно определяют экспериментальным или расчетным путем.
о100200300ifOO500 гС
(риг.1
S3
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКОГО ИССЛЕДОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ПЛОСКИХ ПОДЛОЖКАХ | 1997 |
|
RU2133956C1 |
Способ профилирования состава при эпитаксиальном формировании полупроводниковой структуры на основе твердых растворов | 2019 |
|
RU2717359C1 |
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ВЫСОТЫ СТУПЕНЕК В ПРОИЗВОЛЬНЫХ МНОГОСЛОЙНЫХ СТРУКТУРАХ | 2003 |
|
RU2270437C2 |
СПОСОБ ОПТИЧЕСКИХ ИЗМЕРЕНИЙ ДЛЯ МАТЕРИАЛА | 2009 |
|
RU2423684C2 |
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ | 2007 |
|
RU2350928C1 |
Способ определения линейного коэффициента теплового расширения тонкой прозрачной пленки | 2018 |
|
RU2683879C1 |
ПОКРЫТИЯ, СПОСОБЫ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ УМЕНЬШЕНИЯ ОТРАЖЕНИЯ ОТ ОПТИЧЕСКИХ ПОДЛОЖЕК | 1997 |
|
RU2204153C2 |
СПОСОБ БЕСКОНТАКТНОГО ИЗМЕРЕНИЯ ТЕМПЕРАТУРЫ IN SITU | 2017 |
|
RU2660765C1 |
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ МАГНИТООПТИЧЕСКИХ ЭФФЕКТОВ in situ | 2014 |
|
RU2560148C1 |
Способ определения толщины пленки | 2021 |
|
RU2787807C1 |
Авторы
Даты
1979-10-30—Публикация
1978-05-19—Подача