У////////////М
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Высокочастотный источник ионов | 1981 |
|
SU1144160A2 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВЫСОКОСКОРОСТНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ | 2006 |
|
RU2311492C1 |
Газоразрядное распылительное устройство на основе планарного магнетрона с ионным источником | 2020 |
|
RU2752334C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НА ИЗДЕЛИЯ МЕТОДОМ ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1992 |
|
RU2037559C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК | 2022 |
|
RU2797582C1 |
ИМПУЛЬСНЫЙ УСКОРИТЕЛЬ ИОНОВ МЕТАЛЛОВ | 1987 |
|
SU1544164A1 |
МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО | 2018 |
|
RU2747487C2 |
ПЛАЗМЕННЫЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК | 1998 |
|
RU2147387C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ АЛМАЗОПОДОБНОГО УГЛЕРОДА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2013 |
|
RU2567770C2 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ УПРОЧНЯЮЩЕЙ ПОВЕРХНОСТНОЙ ОБРАБОТКИ | 1992 |
|
RU2037561C1 |
ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ИСТОЧНИК ИОНОВ ТУГОПЛАВКИХ МЕТАЛЛОВ,' содержащий диэлектрическую копбу, охватывающий ее иидуктор, ионно-оптическуюсистему, образованную анодом и катодом со сквозным каналом, систему напуска ппазмообразующего газа и распыляемый . эпектрод, от пичающийся тем, что, с цепью повышения ресурса источника и плотности тока пучка, в колбе ио- точника со стороны, противоположной ионно-оптической системе, установлены дополнительный катод в охватываюший е'го дополнительный анод, при этом дополН1н- тельный -катод содержит полость, в которой располох<ен распыляемый электрод.
Авторы
Даты
1983-10-23—Публикация
1978-09-04—Подача