Система циркуляции и термостатиро-ВАНия PACTBOPOB Советский патент 1981 года по МПК G03D3/02 

Изобретение относится к полиграфической промышленности и может быть использовано в установках для проявления, фиксирования, промывки и сушки фотопленок. Известна установка для подачи воды в термостатирующее устройство, ко торая осуществляется снизу. Вода омывает электронагреватель без образования застойных зон и с полным и равномерным термостатированием всей поступающей воды ЕО Однако при аварийной ситуации вод из термостатирующего устройства полностью выливается, оголяет электронагреватель, что приводит его к выводу из строя. Известна также система циркуляции и термостатирования растворов, содержап1ая ванну с промьюочной водой, ванны с растворами, терморегули рующую ванну с электронагревателем, расположенным под уровнем водм, напорную магистраль, насос и нагнетательную магистраль 2}. Недостатком известной системы является то, что контроль за уровнем воды в дополнительной емкости устанавливается визуальный, что не исключает аварийной ситуации. Цель изобретения - повышение надежности работы системы. Указанная цель достигается тем, что в системе циркуляции и термостатирования растворов содержащей ванну с промывочной водой, ванны с растворами, терморегулирующую ванну с электронагревателем, расположенным под уровнем воды, напорную магистраль, насос и нагнетательную магистраль, промывная и термостатирующая ванны выполнены в виде сообщающихся сосудов, а нагнетательная магистраль связана с термостатирующей ванной посредством сифона, колено которого расположено выше электронагревателе и снабжено отверстиями, площадь ко- 3 торых менее площади проходного сечения сифона в 15-20 раз. На чертеже представлена предлагае мая схема системы. Система циркуляции и термостатироваяия включает ванну 1 с промывочной водой, ванну 2, Где с помощью змеевика 3 и электронагревателя 4 те мостатируется находящаяся в ванне вода. Вода поддерживает необходимую температуру раствора проявителя и фи сажа соответственно в ваннах 5 и 6. Магистраль 7 для подачи водопроводной воды в систему подсоединена к ванне 1 которая образует с ванной 2 при помощи трубопровода 8 сообщающиеся сосуды. Вода в ванне 2 циркулирует по зам нутой системе: ванна, магистраль S, насос 10, нагнетательная магистраль 11, ванна 2. В ванну 2 вода подается снизу через сифон 12, установленный таким образом, что его колено располагается выше электронагревателя 4. В колене имеются отверстия, сообщающие полость сифона с атмосферой в сл чае аварии. Площадь отверстия в колене сифона менее площади проходного сечения сифона в 15-20 раз. Трубка 13 предназначена для отвод воздуха и паров из ванны 2. Система работает следующим образом. Устано вку подключают к водопроводной магистрали 7. Вода заполняет ванну 2, проходя через ванну 1. Наличие воды в ванне сигнализирует о полном заполнении ван1Й 2, что гаран тирует нормальную работу системы цир куляции и термостатирования. Кроме того, вода в ванне 1 постоянно компенсирует и мелкие утечки в ванне 2 трубопроводах 9 и 11, насосе 10. Через всасывающую магистраль 9 в из ванны 2 подается насосом 10 через нагнетательную магистраль 11 и сифон 12 в нижнюю часть ванны 2 для более полного ом:лвания испарителя 3 и электронагревателя 4. Равномерно термостатированная вода попадает в верхнюю часть ванны 2, где происходит теплообмен с обрабатывающими растворами. Отработанная вода через всасывающую магистраль 9 снова подается на циркуляцию. Предлагаемая конструкция позволяет обеспечить надежную работу системы путем предотвращения аварии от снижения уровня воды ниже допустимого для электронагревателя. Формула изобретения Система циркуляции и термостатирования растворов преимущественно в установках для обработки фотопленок, содержащая ванну с промывочной водой, ванны с растворами, терморегулирующую ванну с электронагревателем, расположенным под уровнем воды, напорную магистраль, насос и нагнетательную магистраль, отличающаяся тем, что, с целью повышения надеж ности работы, промывная и термостатирующая ванны выполнены в виде сообщающихся сосудов, а нагнетательная магистраль связана с термостатирующей ванной посредством сифона,колено которого расположено выше электронагревателя и снабжено отверстиями, площадь которых менее площади проходного сечения сифона в 5-20 раз. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1 . Техническая документация установки для обработки фотопленки РП1 70М, Одесский завод Полиграфмащ. 2. Техническая документация установки для обработки фотопленки 2РПУ 50 производства Одесского завода Полиграфмаш (прототип).

Г

модели f

I aSitfffm j