Устройство для вторичного охлаждения машины непрерывного литья заготовок Советский патент 1981 года по МПК B22D11/124 

1

Изобретение относится к непрерывному литью металла и может найти применение при вторичном охлаждении непрерывнолитого слитка.

Известно устройство для вторичного охлаждения непрерывного слитка, содержащее разделенные на секции форсунки и сетчатые распылители fl Недостаток известного устройства заключается в том, что при малой интенсивности охлаждения не обеспечивается его мягкость вследствие низкой дисперсности распыленной воды при снижении давления в системе, что приводит к ухудшению макроструктуры литого металла.

Цель изобретения - улучшение качества слитка за счет повышения равномерности и мягкости охлаждения.

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для вторичного охлаждения машины непрерывного литья заготовок, содержащем разделенные на секции форсунки, установленные на коллекторе, и сетчатые распылители, последние выполнены в виде соосно расположенных кольцевых экранов, причем отношение расстояния от форсунок до внешнего экрана к расстоянию между экранами составляет 0,2-1,0, а от-ношение расстояния от форсунок до внутреннего экрана к длине секции 0,3-2,0. О

Кроме того, экраны установлены с возможностью относительного перемещения вдоль их продольной оси.

На фиг.1 изображено устройство, общий вид, продольный разрез; на фиг.2 - разрез А-А на фиг.1.

10

На раме 1 закреплен коллектор 2 с форсунками 3. Вокруг слитка 4 соосно расположены по крайней мере два кольцеобразных сетчатых экрана 5 и 6 (внешний и внутренний), обра15зующие вокруг слитка замкнутую полость 7. Внешний и внутренний экраны установлены с возможностью внешнего перемещения вдоль их продольной оси при помощи крепежной арматуры 8.

20

Расстояние от форсунок ло охла кдаемого слитка а составляет 0,3-2,0 длины секции Ь, при этом отношение расстояний от внешнего экрана до форсунок С и слитка d составляет 0,2251,0, а отношение расстояния от форсунок до внешнего экрана С и расстояния между экранами 1 составляет 0,21,0.

При этом нижний предел обеспечивает равномерное охлаждение за счет

повышения дисперсности распыленной воды, а верхний предел обеспечивает равномерное охлаждение слитка за сче меньшения динамического давления факела распыленной воды на его поtepXHOCTb.

Отношение расстояния от форсунок ао внутреннего экрана к длине секции Ь составляет 0,3-2,0,

Нижний предел (0,3) обеспечивает равномерное охлаждение при минимальной скорости литья (0,2 м/мин) , а верхний предел обеспечиваетравномерное охлаждение при максимальной скорости литья (1,5 м/мин).

Устройство работает следующим образом.

Вода под давлением 3,0-6,0 атм подается по коллектору 2 к форсункам 3, которыми распыляется, и попадает на внешний экран 5, проходя через сетку которого дополнительно дробится, эмульгируется с воздухом и создает на внутреннем экране 6 равномерную водяную пленку, а в замкнутой полости 7 - мелкодисперсный водяной туман. При охлаждении слитка кольцеобразные экраны 5 и 6 удерживают отраженную и испаряющуюся воду и создают в полости 7 паровоздушную среду с мелкодисперсными каплями воды, благодаря чему и происходит равномерное охлаждение слитка при малой интенсивности охлаждения. Регулирование интенсивности охлаждения непрерывного слитка осуществляют путем взаимного перемещения внутреннего б и внешнего 5 экранов вдоль оси слитка при помощи крепежной арматуры 8. Смещение экранов 5 и 6 относительно друг друга вдоль продольной оси слитка обеспечивает непосредственный контакт распыленной воды со слитком и увеличивает- интенсивность охлаждения с сохранением его равномерности. Кроме того, интенсивность охлаждения можно регулировать путем изменения давления подаваемой воды в коллектор 2 в пределах 3,06,0 атм.

Давление воды перед форсункой, равное. 3,0 атм, минимально, при котором обеспечивается мелкодисперсное распыление воды и мягкое охлаждение, Максимальное давление 6,0 выбрано с учетом промышленных магистралей цехов. При превышении, этого давления увеличивается кинематическая энергия факела распыленной воды и утрачивается эффект равномерного охлаждения слитка.

Таким образом, предлагаемое устройство обеспечивает улучшение микроструктуры слитка путем равномерного охлаждения слитка при широком диапазоне регулирования.его интенсивности .

Формула изобретения

1,Устройство для вторичного охлаждения машины непрерывного литья заготовок, содержащее разделенную на секции группу форсунок, установленных на коллекторе, и сетчатые распылители, отличающееся.тем, что, с целью улучшения качества слитка за счет повышения равномерности и мягкости охлаждения, сетчатые распылители выполнены в виде концентрических кольцеобразных экранов , причем отношение расстояния от форсунок до внешнего экрана к расстоянию между экранами составляет 0,2-1,0, а отношение расстояния от форсунок до.внутреннего экрана к длине секций 0,3-2,0.

2,Устройство по п.1, отличающееся тем, что экраны установлены с возможностью относительного перемещения вдоль их продольной оси.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР по заявке 2573159,кл. В 22 D 11/124 , 1978.

-.гЬ у . л

. -V-N;

А

1. r

( .1Ш5 .

Фиг.2