Моющее средство для очистки радиоэлектронной аппаратуры Советский патент 1982 года по МПК C11D1/12 C11D3/04 

(54) МОЮЩЕЕ СРЕДСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ АППАРАТУРЫ РАДИОЭЛЕКТРОННОЙ

t

Изобретение относится к моющим средствам для очистки изделий радиоэпект ронной аппаратуры (РЭА) от канифольных флюсов и солевых загрязнений и может быть использовано в производстве плат печатного монтажа, а также в других областях техники в процессах удаления масел, смол и водорастворимых загрязнений.

Известно моющее средство в виде эмульсии для очистки канифольных и ионных загрязнений, содержащее 1, 1,2-триjjoiop - 1,2,2 трифторэтан, воду и нзопропиламмонийдодецилбензолсульфонат. Наличие воды, поверхностно-активного вещества (ПАВ) и глубоко проникающего растворителя позволяет одновременно удалять как гидрофильные, так и гидро фобные загрязнения ГЩ.

К не достаткам, змульсни. следует отнести свойство фреоновых эмульсий загрязнять плату остатком ПАВ, полное удаление которых с поверхности затруднено, их агрегативную неустойчивость.

необходимость регенерации растворителей и связанные с этим затраты на оборудование и электроэнергию.

Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому является состав 23для очистки печатных плат МЛ-52, содержащий смачиватель ДВ (продукт реакции 6-7 молей окиси этилена и смеси моно- и дитретичных бутилфенолов), ПАВ - алкилбензолсульфонат натрия (суль10фонол), соду кальцинированную, триполифосфат нагрия, саликат натрия при следующем соотношении компонентов, вес.%: Смачиватель ДБ8,2

Сода кальцинированная57,0

15

Сульфонол1,8

Триполифосфат натрия30,0

Силикат натрия1О,0

Для очистки применяется водный , содержащий 10-50 г/л моющего

20 средства МЛ-52.

Однако данный состав не удовлетворяет требованиям к чистоте прецизионньк печатных схем вследствие медленного Проявления моющего действия. Длительна выдержка в моющем растворе разрушает материал подложки - тонкий стеклотекстолит, что снижает механические и диэлектрические свойства печатной платы. Цель изобретения - повышение моющего действия средства. Поставленная цель достигается тем, что моющее средство для очистки радиоэлектронной аппаратуры на водной основе, содержащее алкилбензолсульфонат натрия, триполифосфат и силикат натрия, щелочный агент и смачиватель, содержит в качестве щелочного агента гидрат окиси калия, а в качестве смачивателя оно содержит динатрийметиленбиснафталинсул фонат при следующем соотношении компо нентов, вес, % Алкилбензолсульфонат 0,5 - О,8 натрия Динатрийметиленбисна1,5-2,0 фталинсульфонат О,8-1,О Гидрат окиси калия Триполифосфат на1,5-2,5 трия 0,37-1,2 Силикат натрия До 100 Оптимальным является использование алкилбензолсульфоната натрия с алкилом равным Ср- GI. Составы испытанньк образцов предлагаемого моющего средства представлены в табл. 1. Для сравнения испытывают также сре ство МЛ-51 (пример 4) и эмульсию, со держащую, вес, %: 1, 1, 2 - трихлор 1,2,2 -трифторэтан 94,5 изопропиламм нийдодецилбензолсульфонат 6 вода 2,5 (пример 5).

Алкилбензолсульфонат с

алкилом, равным

Динатрийметиленбиснаф-.

талинсульфонат

Гидрат окиси . Триполифосфат натрия

Силикат натрия.

Вода

0,65

0,8

1,75

2 1 0,9 2

2,5

0,8

1,2

До 100 о 100 Начальное количество загрязнений соответствует установленной норме расхода флюса на одну плату. В данном случае он составляет 5,93 г. В табл. 2 приведены полученные данные испытаний. Из данных таблицы следует, что известрное устройство - эмульсия на основе трихлортифторэтана эффективно удаляет канифольные и ионные загрязнения. Однако остатки ПАВ (изопропиламмонийдодецилбензолсульфонат), удаление которьрс с поверхности затруднено, снижают сопротивление изоляции диэлектрического основания печатной платы и кроме того, имеют ряд технологических несоверщенств, относящихся к системам эмульсионного характера. Моющее средство МЛ-52 является водно-щелочным детергентом, тем не менее имеет плохую растворяющую способность по отношению к канифоли и отрицательно влияет на материал основания платы (сопротивление изоляций понижается до ), Предлагаемое моющее средство обладает наиболее эффективным моющим действием. Оно наиболее полно по сравнению с известными составами удаляет канифольные и ионные загрязнения, не вызывает снижения сопротивления изоляции. Применение предлагаемого средства повышает надежность и долговечность изделий радиоэлектронной аппаратуры (РЭА) за счет повышения качества отмывки узлов и блоков РЭА от канифольных флюсов и солевьк загрязнений. Таблица