Способ нанесения фильтрующего слоя намывных фильтров Советский патент 1983 года по МПК B01D37/02 

1

Изобретение относится к очистке жидкости на намывных фильтрах и может быть использовано на электростанциях для очистки теплоносителя, а также в тех отраслях промышленности, где требуется очистка растворов от взвешенных и растворенныхпримесей.

Известен способ нанесения фильтрующего слоя намывных фильтров путем осаждения дисперсных частиц на поверхности патронов за счет пропускания суспензии фильтрующего материала через фильтр 1.

Недостаток его состоит в получении фильтрующего слоя неравномерной толщины по высоте патрона.

Неравномерность намыва приводит к быстрой выработке более тонких слоев и проскоку в фильтрат вещества, извлекаемого из раствора. Это вызывает необходимость отключения фильтра и замену фильтроматериала, хот:я сорбционная емкость значительной части фильтроматериала, в местах с большей толщиной слоя, еще далеко не исчерпана.

Целью изобретения является повыщение сорбционной емкости фильтрующего материала за счет образования равномерной толщины слоя по всей фильтрующей поверхности.

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу нанесения фильтрующего слоя намывных фильтров путем осаждения дисперсных частиц на поверхности патро10 нов при пропускании потока суспензии фильтрующего материала через фильтр, сдой формируют последовательно по высоте патрона сверху вниз, при этом в верхней части при скорости потока W М4р а в нижней части при скорости потока Wc Wcp,

где We - скорость потока в рабочем сечении фильтра (на уровне нижней кромки патронов);

Wcp -скорость срыва частиц с поверх20ности патронов;

Wb - скорость витания частиц фильтрующего материала.

Примеры осуществления способа 11риведены в таблице.

Экономический эффект внедрения на АЭС предложенного способа складывается из экономии расхода фильтроматериала и уменьшения расходов на захоронение отработанного и загрязненного радиоактивными элементами материала.

Формула изобретения

Способ нанесения фильтрующего слоя намывных фильтров путем осаждения дисперсных частиц на поверхности патронов при пропускании потока суспензии фильтрующего материала через фильтр, отличающийся тем, что, с целью повышения сорбционной емкости фильтрующего материала за счет образования равномерной толщины слоя по всей фильтрующей поверхности.

слой формируют последовательно по высоте патрона сверху вниз, при этом в верхней части при скорости потока We Wcp, а в нижней части при скорости потока

,

где We - скорость потока в рабочем сечении фильтра (на уровне нижней кромки патронов); WCP - скорость срыва частиц с поверхности патронов;

WB - скорость витания частиц фильтроматериала. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Дурчак X. Очистка конденсата на ядерных электростанциях с реакторами охлаждаемыми кипяц1ей водой.. - VGB Kraftwerks lechnik Haft, 1971, № 3, с. 199-202.