СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ГЕТЕРОСТРУКТУР НА ОСНОВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ Российский патент 1996 года по МПК C30B19/04 C30B29/40 

Описание патента на изобретение RU2064541C1

Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых материалов и может быть использовано для создания оптоэлектронных приборов, работающих в спектральном диапазоне 0,59-0,87 мкм.

В современной технологии жидкофазного эпитаксиального (ЖФЭ) получения полупроводниковых материалов в основном используются трех- или четырехкомпонентные твердые растворы, которые обеспечивают только совпадения параметров решетки с бинарной подложной для определенного спектрального диапазона.

Известен способ выращивания полупроводниковых четырех- или пятикомпонентных сплавов [1] решетка которых совпадает с решеткой подложки, молекулярно-лучевой эпитаксией (МЛЭ). Однако существующий способ является в настоящее время довольно дорогостоящим, а также этим способом невозможно получать толстые, более 100 мкм, эпитаксиальные слои, однородные по составу.

Известен способ получения эпитаксиальных структур на основе твердых растворов AlxGa1-xAsySb1-y методом жидкостной эпитаксии [2] взятый за прототип, где в исходную жидкую фазу, состоящую из компонентов Al, Ga, As и Sb добавляют пятый компонент In для предотвращения подтравливания подложки и улучшения качества слоя. В конечном счете получают четырехкомпонентный твердый раствор AlxGa1-xAsySb1-y изовалентно легированный индием. Поэтому этим способом все же не удается получить полностью согласованный по параметру решетки и КТР эпитаксиальный слой с подложкой, значительно расширить спектральный диапазон материала и получить однородный по толщине слоя полупроводник. Известные способы ЖФЭ не позволят принципиально обеспечить строгое согласование параметра решетки и KТP подложки и эпитаксиального слоя по всему его объему, что и сказывается на характеристиках изготовляемых приборов.

Целью изобретения является повышение качества гетерограницы, расширение ее спектрального диапазона от 0,59 до 0,87 мкм и улучшения однородности эпитаксиального слоя.

Поставленная цель достигается тем, что в кристалл источник вводят дополнительно Al и Р и его компоненты берут в следующем соотношении, ат.

Аl 1,0-17,0
Р 0,5-41,0
As 9,0-49,5
Ga остальное,
а компоненты раствора-расплава берут в следующем соотношении, ат.

Al 0,0019-0,0560
Р 0,0130-2,0500
As 3,5000-22,3000
In 0,8660-92,4065
Ga остальное,
что позволяет избежать дефекты между пятикомпонентным твердым раствором и подложкой, улучшает качество гетероструктуры.

Использование многокомпонентного кристалла-источника, содержащего элементы с коэффициентом распределения больше I, позволяет получать однородные по составу и физико-химическим свойствам полупроводниковые материалы толщиной более 100 мкм. Процесс роста эпитаксиального слоя проводят в поле температурного градиента, где подложка GaAs имеет температуру меньше, чем кристалл-источник.

Пример 1. В кассету кругового типа помещают сэндвич, состоящий из подложки GaAs (n-типа 2oC3 1017 см-3) диаметром 30 мм, ориентации 100, полированные и очищенные по стандартной методике, и поликристаллического источника Al0,25Ga0,75P0,82As0,18. Расстояние между подложкой и источником выставляют графитовыми кольцами толщиной L 300 мкм. Для получения раствора-расплава в отдельную ячейку кассеты загружают исходные компоненты, ат. алюминий 0,0019; галлий 1,6500; индий 78,2981; фосфор 2,0500; мышьяк 18,0000. Эту кассету помещают в печь, создающую плоскооднородное поле температурного градиента. Камеру откачивают до давления 1•10-3мм рт. ст. затем заполняют очищенным водородом до давления 0,4 атм. Температуру в печи поднимают до 865oС, и гомогенизированный расплав продавливают через сэндвич. Процесс выращивания эпитаксиального слоя проводят в течение 2-х часов в градиенте температур 80 град/см. В результате получается эпитаксиальный слой h 96 мкм, состав которого соответствует ат. алюминий 12,5; галлий 17,6; индий 20,0; фосфор 41,0; мышьяк 9,0; соответствующий минимальной длине волны λ = 0,59 мкм..

Пример 2. В ту же кассету помещают аналогичней сэндвич, но с другим составом кристалла-источника Al0,15Ga0,85P0,21As0,79.

Толщина жидкой зоны также бралась l 300 мкм, но в ячейку кассеты загружалась шихта следующего состава, ат. алюминий 0,0034; галлий 13,5000; индий 71,1766; фосфор 0,1200; мышьяк 14,6000. Температурно-временной режим соответствовал рассмотренному в первом примере. В результате получается эпитаксиальный слой толщиной h 78 мкм, состав которого имел следующее значение ат. алюминий 7,5; галлий 37,5; индий 5,0; фосфор 10,5; мышьяк 39,5; соответствующий среднему значению длины волны λ = 0,73 мкм..

Пример 3. В этом случае применялась та же технология получения многокомпонентных твердых растворов, что описано выше. Только использовался кристалл-источник Al0,02Ga0,98P0,02As0,98 а для получения раствора-расплава использовались следующие компоненты; ат. алюминий 0,0200; галлий 95,6000; индий 0,8660; фосфор 0,0140; мышьяк 3,5000. В результате был получен эпитаксиальный слой толщиной h 62 мим следующего состава, ат. алюминий 1,0; галлий 48,9; индий 0,1; фосфор 1,0; мышьяк 49,0. В этом случае длина волны соответствовала максимальному значению λ = 0,87 мкм..

В табл. 1 представлен количественный состав раствора-расплава и полученного из него эпитаксиального слоя, согласно примерам 1-3, а также для промежуточных составов.

Спектральный диапазон оптических свойств слоев различного состава, полученных из растворов-расплавов, представлены в табл.2. Данные, отраженные в табл. показывают, что полученные слои полупроводникового материала позволяют расширить спектральный диапазон от 0,59 до 0,87 мкм.

Исследования состава эпитаксиального слоя AlxGayIn1-x-yPzAs1-z показали, что в случае подпитки его из кристалла-источника получались слои с однородным распределением компонентов по толщине от 5 до 96 мкм (см. табл. 2). Плотность дислокаций в таких слоях коррелирует с составом соответствующих трех- и четырехкомпонентных полупроводников (см. табл. 2). Рентгеноструктурные и люминесцентные исследования пятикомпонентных эпитаксиальных слоев показали улучшение структурного совершенства гетерограницы по сравнению с четырехкомпонентным твердым раствором (см. табл. 2 полуширина дифракционного максимума, механические напряжения, полуширина краевой полосы излучения).

Похожие патенты RU2064541C1

название год авторы номер документа
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ШИРОКОЗОННОГО ОКНА В ЛАЗЕРНОЙ ГЕТЕРОСТРУКТУРЕ НА ОСНОВЕ СОЕДИНЕНИЙ AB И ИХ ТВЕРДЫХ РАСТВОРОВ 1992
  • Лунин Л.С.
  • Пак Г.Т.
  • Кобякова М.Ш.
  • Сысоев И.А.
RU2032776C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ НА ОСНОВЕ GaInAsSb 2023
  • Васильев Владислав Изосимович
  • Сорокина Светлана Валерьевна
  • Хвостиков Владимир Петрович
RU2805140C1
Способ изготовления полупроводниковых гетероструктур с атомарно гладкими стоп-слоями InGaP и InP на подложках GaAs и InP 2018
  • Гладышев Андрей Геннадьевич
  • Егоров Антон Юрьевич
RU2690859C1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СТРУКТУРЫ МНОГОСЛОЙНОГО ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ 2008
  • Андреев Вячеслав Михайлович
  • Калюжный Николай Александрович
  • Лантратов Владимир Михайлович
  • Минтаиров Сергей Александрович
RU2366035C1
Способ гетероэпитаксиального наращивания слоев твердого раствора на основе арсенида индия-алюминия 1990
  • Литвак Александр Маркович
  • Моисеев Константин Дмитриевич
  • Чарыков Николай Александрович
  • Яковлев Юрий Павлович
SU1785048A1
СПОСОБ ЭПИТАКСИАЛЬНОГО ВЫРАЩИВАНИЯ ГРАНИЦЫ РАЗДЕЛА МЕЖДУ МАТЕРИАЛАМИ ИЗ III-V ГРУПП И КРЕМНИЕВОЙ ПЛАСТИНОЙ, ОБЕСПЕЧИВАЮЩИЙ НЕЙТРАЛИЗАЦИЮ ОСТАТОЧНЫХ ДЕФОРМАЦИЙ 2015
  • Бугге Ренато
  • Мюрвогнес Йейр
RU2696352C2
СПОСОБ ЭПИТАКСИАЛЬНОГО НАРАЩИВАНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ТВЕРДЫХ РАСТВОРОВ 1988
  • Абрамов А.В.
  • Долганов А.В.
  • Мизеров М.Н.
  • Селиверстов О.В.
  • Дерягин Н.Г.
  • Третьяков Д.Н.
SU1559970A1
ГЕТЕРОСТРУКТУРА НА ОСНОВЕ АРСЕНИДА - АНТИМОНИДА - ВИСМУТИДА ИНДИЯ И СПОСОБ ЕЕ ПОЛУЧЕНИЯ 1992
  • Акчурин Р.Х.
  • Жегалин В.А.
  • Сахарова Т.В.
  • Уфимцев В.Б.
RU2035799C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ p-i-n СТРУКТУРЫ НА ОСНОВЕ СОЕДИНЕНИЙ GaAs-AlGaAs МЕТОДОМ ЖИДКОФАЗНОЙ ЭПИТАКСИИ 2020
  • Солдатенков Федор Юрьевич
RU2744350C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СТРУКТУР С P-N-ПЕРЕХОДОМ В СИСТЕМЕ INAS - INGAAS 1985
  • Билинец Ю.Ю.
  • Головач И.И.
  • Матвеев Б.А.
  • Стусь Н.М.
  • Талалакин Г.Н.
SU1433324A1

Иллюстрации к изобретению RU 2 064 541 C1

Реферат патента 1996 года СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ГЕТЕРОСТРУКТУР НА ОСНОВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ

Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых материалов и может быть использовано для создания оптоэлектронных приборов, работающих в спектральном диапазоне 0,59-0,87 мкм. Изобретение обеспечивает повышение качества гетерограницы, расширение спектрального диапазона материала от 0,59 до 0,87 мкм и получение однородного по составу эпитаксиального слоя. Способ включает осаждение эпитаксиального слоя на подложку GaAs из раствора-расплава с подпиткой его из кристалла-источника, следующего состава ,ат. %: Аl - 1,0-17,0, Р - 0,5-41,0, As - 9,0- 49,5, Ga - остальное. Состав раствора-расплава, ат. %: Al - 0,0019 -0,0560; P-0,0130-2,0500; As - 3,580-22,300; In - 0,8660-92,4065; Ga - остальное. Процесс ведут в поле с температурным градиентом между источником и подложкой. Получены слои толщиной 62-96 мкм однородные по составу. 2 табл.

Формула изобретения RU 2 064 541 C1

Способ получения гетероструктур на основе полупроводниковых соединений AIIIBV путем осаждения эпитаксиального слоя на подложку GaAs из раствора расплава, содержащего Аl, Ga, As, Zn и Р, с подпиткой его из кристалла-источника, содержащего Ga и A, отличающийся тем, что, с целью повышения качества гетерограницы, улучшения однородности эпитаксиального слоя и расширения спектрального диапазона гетерограницы от 0,59 до 0,87 мкм, в кристалл-источник вводят дополнительно Al и Р и его компоненты берут в следующем соотношении, ат. Аl 1 17; Р 0,5 41,0; As 9,0 49,5; Ga остальное, а компоненты раствора-расплава берут в следующем соотношении, ат. А1 0,0019 0,0560; Р 0,0130 2,0500; As 3,500 22,3000; Zn 0,8660 - 92,4065; Ga остальное.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 1996 года RU2064541C1

Печь для непрерывного получения сернистого натрия 1921
  • Настюков А.М.
  • Настюков К.И.
SU1A1
ЕПВ 0229263, кл
Прибор для равномерного смешения зерна и одновременного отбирания нескольких одинаковых по объему проб 1921
  • Игнатенко Ф.Я.
  • Смирнов Е.П.
SU23A1
Аппарат для очищения воды при помощи химических реактивов 1917
  • Гордон И.Д.
SU2A1
Лозовский В.Н
и др
Особенности роста пятикомпонентных твердых растворов AlGaInPA- арсенида галлия из раствора-расплава с подпиткой
Способ восстановления хромовой кислоты, в частности для получения хромовых квасцов 1921
  • Ланговой С.П.
  • Рейзнек А.Р.
SU7A1
по росту кристаллов: Симп
по молекул.-луч.эпитаксии, 14-19 ноября 1988
Расш.тез
Аппарат для очищения воды при помощи химических реактивов 1917
  • Гордон И.Д.
SU2A1
Способ искусственного получения акустического резонанса 1922
  • Коваленков В.И.
SU334A1

RU 2 064 541 C1

Авторы

Лозовский В.Н.

Лунин Л.С.

Сысоев И.А.

Даты

1996-07-27Публикация

1991-04-08Подача