АНТИСТАТИЧЕСКАЯ КОМПОЗИЦИЯ Российский патент 1997 года по МПК G03C1/89 

Изобретение касается антистатической композиции, которая может быть использована при изготовлении фотографических материалов, в том числе черно-белых негативных, прямых позитивных ж цветных материалов.

Известно, что проблема антистатической защиты светочувствительных материалов является в настоящее время чрезвычайно актуальной в связи с применением в химико-фотографической промышленности сильно электризующихся триацетатной (и особенно полиэтилентерефталатной) пленок. Большая склонность к электризации данных типов подложек обуславливается их высоким объемным и поверхностным сопротивлением (>10¹⁶ ом).

В то же время резкое возрастание скоростей полива на основу эмульсионных слоев, все повышающаяся светочувствительность фотоматериалов и, что особенно важно, необходимость их применения в условиях пониженной относительной влажности и повышенной температуры являются благоприятными обстоятельствами для возникновения на поверхностях пленок высоких электростатических потенциалов и в связи с этим возникновения искровых разрядов.

Возникновение искровых разрядов, а также загрязнение наэлектризованной пленки частичками пыли и других загрязнений, оставшихся впоследствии в эмульсионных и вспомогательных слоях фотоматериала, естественно, существенно снижает качество последних и выход годной продукции.

Кроме того, высокие электростатические потенциалы весьма опасны, с точки зрения техники безопасности.

Известна антистатическая композиция, содержащая полимерный электролит, например полистиролсульфонат натрия, дисперсию частиц полиолефина, например, полипропилена, с размером не менее 0,5 мкм, воду и смесь органических растворителей, например, ацетона с метанолом (Франц. пат. N 2281593, опублик. 5.03.76 г. кл. G O3 C 1/82).

Недостатками известной композиции являются необходимость нанесения ее на контрслой в виде отдельного слоя, многокомпонентность и применение больших количеств органических растворителей, невозможность нанесения со стороны эмульсионного слоя.

Цель изобретения устранение вышеуказанных недостатков.

Цель достигается тем, что предлагается антистатическая композиция, содержащая дисперсию сферических гранул полиметилметакрилата или полистирола в воде с размером частиц не менее 1 мкм, и антистатическое вещество - изооктилфеноксиполигликоль, тетранатриевую соль смешанного полиглицерида додецилянтарных и сульфоянтарных кислот и декаглицерид додецилянтарной кислоты со следующим соотношением компонентов, на 1 г желатины: полимер 0,2 10; антистатическое вещество 3 15.

Пример 1. Введение антистатической композиции в раствор для контрслоя.

Вначале готовят раствор для обычно применяющегося желатинового контрслоя следующего состава: 100 г желатины, 267 мл. 1-ного раствора 4хлор-4^I-ди(2-оксиэтил)-амино-4^II-ди(2-оксиэтил)-аммоний хлорид трифенилметана; 23 мл 15 -ного раствора дикалиевой соли 2-бензаль-3-окситионафтен-2',4'-дисульфокислоты; 33 мл 8-ного смеси калиевых солей моно-, ди-и трисульфокислот парарозанилина; 76 мл 4%-ного раствора натриевой соли ди-α--этилгексилового эфира сульфоянтарной кислоты; 24 мл 5-ного раствора хромацетата нейтрального; 23 мл 4-ного раствора формалина и 1300 мл воды. Затем приготовленный раствор делят на две части.

Образец А.

Одну часть выше указанного раствора для контрслоя наносят на подслоированную полиэтилентерефталатную основу, толщина наноса сухого контрслоя 6 мкм.

Образец Б.

Во вторую часть раствора для контрслоя вводят (из расчета на один кг раствора контрслоя) 10 мл 25-ной дисперсии гранул полиметилметакрилата в воде с размером не менее 1 мкм и 135 мл 4-ного раствора изооктилфеноксиполигликоля, затем раствор для контрслоя с антистатической композицией наносят на подслоированную полиэтилентерефталатную основу, толщина сухого контрслоя 6 мкм.

Образец В. (получают согласно патенту Франции N 2281593).

На одну часть образца А наносят антистатическое покрытие по прототипу (из расчета 0,11 г раствора на м²) следующего состава:
5 г полистиролсульфоната натрия;
5 мл 40-ной дисперсии полиэтилена с размером гранул 0,1 мкм;
225 мл метанола;
650 мл ацетона и 120 мл воды.

Образцы А, Б и В подвергают испытаниям на трение.

Результаты испытаний представлены в табл. 1.

Пример 2. Готовят раствор желатинового контрслоя аналогично примеру 1. В раствор для контрслоя вводят (из расчета на один кг раствора контрслоя) 22 мл 25-ной дисперсии гранул полиметилметакрилата в воде с размером не менее 1 мкм и 155 мл 4-ного раствора декаглицерида додецилянтарной кислоты; раствор для контрслоя с антистатической композицией наносят на подслоированную полиэтилентерефталатную основу, толщиной сухого контрслоя 6 мкм. Затем образец подвергают испытаниям на трение.

Результаты испытаний представлены в табл. 1.

Пример 3. Готовят раствор для обычно применяемого желатинового контрслоя аналогично примеру 1. Затем в раствор для контрслоя вводят (из расчета на один кг раствора для контрслоя) 4 мл 25-ной дисперсии гранул полистирола в воде с размером не менее 0,5 мкм и 50 мл 4-ного раствора изооктилфеноксиполигликоля; раствор для контрслоя с антистатической композицией наносят на подслоированную полиэтилентерефталатную основу, толщина сухого контрслоя 6 мкм. После этого образец подвергают испытаниям на трение.

Результаты испытаний представлены в табл. 1.

Пример 4. Образец готовят аналогично примеру 3, однако, вместо раствора изооктилфеноксиполигликоля вводят в раствор для контрслоя 200 мл 4-ного раствора тетранатриевой соли смешанного полиглицерида додецилянтарной и сульфоянтарной кислот. Затем образец подвергается испытаниям на трение.

Результаты испытаний представлены в табл. 1.

Как следует из полученных данных, введение предлагаемой антистатической композиции в раствор для контрслоя (без нанесения дополнительных слоев по прототипу) обеспечивает коэффициент трения несколько меньший, чем в прототипе, при этом полностью исключается использование органических растворителей и существенно упрощается технологический процесс (нанесения контрслоя за один прогон).

Пример 5. Введение антистатической композиции в защитный слой.

Вначале готовят раствор для желатинового защитного слоя следующего состава: 100 г желатины, 76 мл 4-ного раствора натриевой соли ди-α--этилгексилового эфира сульфоянтарной кислоты; 66 мл 4-ного раствора формалина и 3330 мл воды. Затем приготовленный образец делят на две части.

Образец А.

Одну часть вышеуказанного раствора для защитного слоя наносят на эмульсионный слой, толщиной сухого защитного слоя 1 мкм.

Образец Б.

Во вторую часть раствора для защитного слоя вводят (из расчета на один кг раствора для защитного слоя) 1 мл 25-ной дисперсии гранул полиметилметакрилата в воде с размером не менее 1 мкм и 70 мл 4-ного раствора тетранатриевой соли смешанного полиглицерида додецилянтарных и сульфоянтарных кислот, затем раствор защитного слоя с антистатической композицией наносят на эмульсионный слой аэрофотопленки тип 27Т, толщина сухого защитного слоя 1 мкм.

Образцы. А и Б подвергают испытаниям на фотографические и резкостные свойства, на трение. Результаты испытаний представлены в таблице 2.

Пример 6. Готовят раствор для желатинового защитного слоя аналогично примеру 5. В раствор для защитного слоя вводят (из расчета на один кг раствора для защитного слоя) 0,2 мл 25-ной дисперсии гранул полистирола в воде с размером не менее 0,5 мкм и 70 мл 4-ного раствора декаглицерида додецилянтарной кислоты; раствор защитного слоя с антистатической композицией наносят и испытывают аналогично примеру 5Б.

Результаты испытаний представлены в табл. 2.

Необходимо отметить, что в прототипе отсутствуют рекомендации по применению антистатического покрытия со стороны эмульсионного слоя. Это объясняется тем, что дополнительный слой (который необходимо наносить по прототипу) может привести к существенному нарушению светового режима в эмульсионном слое и потере как фотографических, так и резкостных характеристик.

Как следует из полученных данных, введение предлагаемой антистатической композиции в защитный слой никаким образом не сказывается на фотографических и резкостных характеристиках аэрофотопленки тип 27Т. Однако, при этом существенно (62 раза) уменьшается коэффициент трения.

Таким образом, на основе представленных примеров можно сделать следующее заключение: предлагаемая антистатическая композиция помимо отмеченных выше преимуществ перед прототипом характеризуется еще универсальностью и может быть применена не только в контрслое, но и в защитном слое. В последнем случае обеспечивается не только антистатическая защита, но и устраняется возможность появления "колец Ньютона" при плотном контакте с оптическими стеклами.

Использование: химико-фотографической промышленности. Сущность изобретения: антистатическая композиция, включающая мас. % на 1 г желатины дисперсию полимера: полиметилметакрилата или полистирола 0,2 - 10; антистатическое вещество (изооктилфеноксиполигликоль, тетранатриевую соль смешанного полиглицерида додецилянтарных и сульфоянтарных кислот) 3 - 15, растворитель - остальное. 2 табл.

Антистатическая композиция, включающая дисперсию полимера и антистатическое вещество в растворителе, отличающаяся тем, что, с целью обеспечения возможности использования композиций в желатиновых защитном и/или контроле кинофотоматериалов и упрощения технологии ее изготовления, она содержит в качестве полимера полиметилметакрилат или полистирол, а в качестве антистатического вещества изооктилфеноксиполигликоль, тетранатриевую соль смешанного полиглицерида додецилянтарных и сульфоянтарных кислот при следующем соотношении компонентов, мас. на 1 г желатины:
Дисперсия полимера 0,2 10
Антистатическое вещество 3 15
Растворитель Остальноеф