Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых приборов, в частности к способам получения пленок, содержащих бор и фосфор на поверхности полупроводниковых материалов.
Целью изобретения является снижение температуры процесса.
Поставленная цель достигается тем, что в качестве компонентов газовой фазы используют тетрахлорид кремния, кислород, окись азота, трихлорид бора и трихлорид фосфора при следующем соотношении компонентов, об.%:
SiCl4 - 16-17; BCl3- 1,8-3,1; PCl3 - 0,8-1,7; O2 - 16-17; NO - остальное, а температуру подложки поддерживают в интервале 50-200oC.
Сущность способа заключается в том, что на поверхности подложки формируют легированный бором и фосфором слой двуокиси кремния при температурах 50-200oC, осаждением из газовой фазы за счет реакций между тетрахлоридом кремния, трихлорида бора, трихлорида фосфора с кислородом и окисью азота.
Режимы проведения процесса обусловлены тем, что нижний температурный интервал лимитируется температурой возгонки хлоридов. При проведении процесса выше 200oC, все большая часть тетрахлорида кремния окисляется в газовой фазе, засоряя реакционную камеру и ухудшая качество образующейся пленки.
Сущность изобретения подтверждается следующими примерами:
Пример 1: Процесс проводят в реакторе с барабаном, на гранях которого размещены кремниевые пластины. Эти пластины нагревают до температуры 50oС, затем подают гомогенную смесь, состоящую из тетрахлорида кремния, кислорода, трихлорида бора, трихлорида фосфора и окиси азота с последующим соотношением компонентов, об.%: тетрахлорид кремния - 17, кислород - 17; трихлорид бора - 1,2; трихлорид фосфора - 2,3; остальное окись азота.
Метод введения легирующей примеси в реактор заключается в смешивании жидких при комнатной температуре трихлоридов бора и фосфора с жидким тетрахлоридом кремния. Все опыты проводились при атмосферном давлении. При этом на подложке формируется легированный бором и фосфором (5,2%) слой двуокиси кремния. Плотность слоя двуокиси кремния составляет 2,16-2,23 г/см3, показатель преломления 1,43-1,44.
Пример 2: Способ осуществляют аналогично условию примера 1. Процесс проводят при следующем соотношении компонентов, об.%: тетрахлорид кремния - 16,5; кислород - 16,5; трихлорид бора - 1,9; трихлорид фосфора - 6,1; остальное окись азота при температуре 80oC. При этом получают легированный бором и фосфором (10,6%) слой двуокиси кремния с плотностью 2,15-2,21 г/см3 и показателем преломления 1,44-1,46.
Пример 3: Способ осуществляют аналогично условию примера 1. Процесс проводят при следующем соотношении компонентов, об.%: тетрахлорид кремния - 16,0; кислород - 16,0; трихлорид бора - 1,5; трихлорид фосфора - 3,2; остальное окись азота при температуре 200oC. Плотность слоя двуокиси кремния составляет 2,18-2,20 г/см3 и показателем преломления 1,45-1,46, содержание бора 15,05%, содержание фосфора - 8,2.
Таким образом, предлагаемый способ по сравнению с прототипом позволяет снизить температуру осаждения слоя двуокиси кремния, легированного бором и фосфором до 50oC, без ухудшения основных показателей слоя и существенно упрощает технологию процесса.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ БОРСОДЕРЖАЩИХ ПЛЕНОК | 1994 |
|
RU2129321C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ БОРОСОДЕРЖАЩИХ ПЛЕНОК | 2006 |
|
RU2378739C2 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ ПЛЕНОК | 1999 |
|
RU2176421C2 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНОГО ДИЭЛЕКТРИКА ОКСИДА АЛЮМИНИЯ В ПРОИЗВОДСТВЕ МЕТАЛЛ-ДИЭЛЕКТРИК-ПОЛУПРОВОДНИК УСТРОЙСТВ | 1995 |
|
RU2129094C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОСФОРОСИЛИКАТНЫХ ПЛЕНОК | 2008 |
|
RU2407105C2 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК ОКСИДА ЦИРКОНИЯ | 2007 |
|
RU2341849C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ ОКИСИ ГАФНИЯ | 2007 |
|
RU2357320C2 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЯ НА СТЕКЛЯННОЙ ПОДЛОЖКЕ (ВАРИАНТЫ) | 1992 |
|
RU2118302C1 |
СПОСОБ ДИФФУЗИИ ФОСФОРА ИЗ ТВЕРДОГО ПЛАНАРНОГО ИСТОЧНИКА | 2008 |
|
RU2359355C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК ДВУОКИСИ КРЕМНИЯ | 1988 |
|
RU2061095C1 |
Использование: в технологии получения полупроводниковых приборов. Сущность изобретения: на поверхности подложки формируют легированный бором и фосфором слой двуокиси кремния при 50-200°С, осаждением из газовой фазы за счет реакций между тетрахлоридом кремния, трихлорида бора, трихлорида фосфора с кислородом и окисью азота. Техническим результатом изобретения является снижение температуры процесса.
Способ получения борофосфорсиликатных пленок, включающий обработку подложек гомогенной смесью тетрахлорида кремния, соединения бора, фосфора и кислорода при повышенной температуре, отличающийся тем, что обработке подвергают подложки, гомогенную смесь берут с добавкой оксида азота при следующем количественном соотношении компонентов, об.%: тетрахлорид кремния - 16-17, трихлорид бора - 1,2-1,25, трихлорид фосфора - 0,8-1,7, кислород - 16-17, окись азота - остальное, обработку подложек ведут с предварительным нагревом их до 50-200°С.
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ БОРСОДЕРЖАЩИХ ПЛЕНОК | 1994 |
|
RU2129321C1 |
RU 2059323 C1, 27.04.1996 | |||
US 4546016 A, 08.10.1985 | |||
Способполучения полиолефинов | 1974 |
|
SU635877A3 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ВИНИЛАЛКИЛОВЫХ ЭФИРОВ ДИКАРБОНОВЫХ КИСЛОТ | 0 |
|
SU196806A1 |
US 5656556 A, 12.08.1997. |
Авторы
Даты
2001-09-20—Публикация
1999-07-15—Подача