СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОШАБЛОННЫХ ЗАГОТОВОК Российский патент 2007 года по МПК H05K3/26 

Изобретение относится к микроэлектронике, а, именно к фотошаблонным заготовкам, которые предназначены для формирования отдельных фрагментов интегральных схем с последующим переносом их на полупроводниковую пластину.

Известен способ получения фотошаблонных заготовок (см. Электронная промышленность, 1980 г., №8-9, стр.100), связанный с механическом обработкой стеклянных пластин, обработкой в водных растворах химических реагентов, обработкой в высококачественной проточной деионизованной воде, нанесением маскирующего слоя и слоя резиста.

Недостатком этого метода является большой расход деионизованной воды, связанный с высокими требованиями по чистоте поверхности стеклянных пластин перед нанесением маскирующего слоя. В настоящее время размеры критичных элементов БИС и СБИС лежат в субмикронной области, что предопределяет и степень контроля. В работе отмечается также, что для достижения электронной степени чистоты общее число ванн по всему технологическому циклу достигает 40-45. После ванн с химическими реагентами следуют ванны с деионизованной водой. Опыт показывает, что расход деонизованной воды в таком производстве достигает 4-5 м³/час.

Наиболее близким является способ (см. RU 2208920), включающий механическую обработку стеклянных пластин, обработку в водных растворах органических кислот с показателем кислотности рКа=3,12-3,13 с последующим увеличением рКа от раствора к раствору с ΔрКа=0,7-1,05 с использованием ультразвука с рабочей частотой 20-25 кГц в первом растворе с последующим увеличением частоты до 40-45 кГц при температуре 50-60°С, обработку в нейтральной водной среде с последующим обезвоживанием и сушкой в парах изопропилового спирта, нанесение маскирующего слоя и резиста.

Недостатком этого способа является большой расход деионизованной воды. В этом способе проведена оптимизация процесса отмывки, упорядочены составы моющих компонентов и тем самым облегчен процесс отмывки в нейтральной водной среде. Однако, расход деионизованной воды достигает 3-4 м³/час. Такой расход объясняется отсутствием в технологическом цикле инструментальной интенсификации отмывки.

Другим недостатком является турбулентность потока воды, не позволяющая провести такую интенсификацию, например, ультразвуком.

Предлагается способ, лишенный отмеченных выше недостатков. Положительный эффект достигается тем, что обработку в нейтральной водной среде (обычно это деионизованная вода) проводят в ламинарном потоке с числом Рейнольдса 500-1100 при температуре 15-25°С в течение 4-6 мин при воздействии ультразвука с рабочей частотой 20-50 кГц.

Сущность способа заключается в интенсификации процесса обработки в нейтральной водной среде за счет ультразвукового воздействия. Образование «стоячих» волн инициирует появление эффекта кавитации: образование и схлопывание пузырьков воздуха на поверхности стеклянных пластин.

Интенсивное перемешивание, турбулентность мешают этому процессу и «кавитация» резко падает. Отмывка затрудняется. Образование кавитационных пузырьков происходит главным образом на выступах поверхности (как при кипении воды в чайнике), в том числе на загрязнениях, при схлопывании пузырьков развивается огромное давление и частицы отрываются от поверхности, а наличие ламинарного течения воды позволяет удалить загрязнения из сферы действия ультразвука. При числе Рейнольдса менее 500 удаление частиц замедляется и требуется больше времени для отмывки, что нетехнологично, при числе Рейнольдса больше 1100 уже наблюдается нестабильность стоящих волн в объеме ванны и отмывка затрудняется или происходит неравномерно в объеме ванны, что также недопустимо. Оптимальным временем пребывания отмываемых пластин при групповом способе отмывки составляет 5 мин. Уменьшение времени отмывки до 4 мин приводит к неполному удалению загрязнений и появлению брака в виде светящихся точек, увеличение времени выше 6 мин нежелательно с точки зрения потери производительности, тем более, что качество при этом не улучшается.

Пример.

Листовое натрийкальциевое стекло размером 1200×600 мм, толщиной 3-0,5 мм подвергали раскрою на специальном столе на заготовки размером 127×127 мм, при этом режущие ролики закреплены на специальных штангах, предназначенных для горизонтального и вертикального реза. Ролики фиксировали на определенном расстоянии таким образом, что весь лист раскраивали одновременно. Далее проводили операцию шлифования кромок и торцов стеклянных пластин на специальных кругах со связанным алмазным абразивом таким образом, чтобы все торцевые поверхности и фаски были заматованы. Затем для удаления крошки проводили отмывку стеклянных пластин в специальных кассетах групповым методом в 3-ступенчатой линии в деионизованной воде с добавлением поверхностно-активного вещества при воздействии ультразвука в течение 4-х минут и последовательно выдерживали в двух ваннах с проточной умягченной водой в течение 4-х минут.

После этого проводили операции предварительного и финишного полирования на станках одновременной двусторонней полировки. В качестве полировального порошка применяли порошок на основе двуокиси церия «Фторопол» (ТУ 334-97) с содержанием рабочей фракции 0,6-6,0 мксм 85%. Средний размер основной фракции порошка составил 3 мкм (по прибору «Седиграф-600»). В качестве полировального полотна использовали нетканый материал типа «Политан» (ТУ 17-21-40-1-90) на основе синтетических волокон диаметром 8-10 мкм при объемной плотности 0,75 г/см³. Из полировального порошка предварительно готовили водную суспензию плотностью 1,2 г/см³ и фильтровали ее через специальные сита или капроновую сетку. Полировальное полотно приклеивали специальным водоотталктвающим составом. Обработку стеклянных пластин проводили групповым методом в кассетах из нержавеющей стали с пластмассовыми вкладышами для исключения травмирования стекла. Полирующую суспензию подавали периодически по 80-100 мл через отверстие в верхнем полировальнике.

Предварительную полировку проводили в течение 30-40 мин, финишную 15-20 мин. Основным критерием процесса полирования является величина «съема» стекла, которая подбирается опытным путем и в принципе должна быть равна величине нарушенного слоя стекла. После финишного полирования пластины обрабатывали в 3-ступенчатой линии отмывки последовательно в ванне с деионизованной водой с добавкой поверхностно-активных веществ при воздействии ультразвука в течение 5 мин и двух ваннах с умягченной водой, снабженных душевой установкой.

Далее пластины подвергали обработке на предварительной линии отмывки в 10-ти ваннах по 5 мин. В первой ванне проводили обработку стеклянных пластин в 0,7% растворе лимонной кислоты в деионизованной воде при воздействии ультразвука, во второй ванне в проточной деионизованной воде с числом Рейнольдса 800 при воздействии ультразвука с рабочей частотой 35 кГц, в третьей ванне в 0,7% растворе молочной кислоты в деионизованной воде при воздействии ультразвука, в четвертой - в проточной деионизованной воде с числом Рейнольдса 800 при воздействии ультразвука с рабочей частотой 35 кГц, в пятой - в 0,7% растворе уксусной кислоты в деионизованной воде при воздействии ультразвука, в шестой - в проточной деионизованной воде с числом Рейнольдса 800 при воздействии ультразвука с рабочей частотой 35 кГц. Затем проводили операцию обезвоживания и сушки стеклянных пластин в пяти последовательно расположенных ваннах с изопропиловым спиртом в течение 5 мин, причем в четвертой ванне при воздействии ультразвука, а в пятой в парах постоянно кипящего изопропилового спирта.

После операции предварительной отмывки стеклянных пластин проводили контроль на наличие дефектов стекла. Контроль проводили на темном фоне при освещенности 50-60 тыс.люкс. Результаты контроля - 200 образцов: годных 178 шт., брак 22 шт., в т.ч. локальные загрязнения - 12 шт., светящиеся точки - 10 шт.

После предварительной отмывки пластины перед операцией нанесения маскирующего слоя подвергали финишной отмывке в пяти последовательно расположенных ваннах, в каждой из которых выдержка составляла 5 мин. В первой ванне обработку проводили в 0,7% растворе уксусной кислоты в деионизованной воде, ванна снабжена ультразвуком. Во вторую ванну заливали деионизованную воду, устанавливали проток и включали ультразвук (рабочая частота 50-54 кГц). Из трех ванн с изопропиловым спиртом одна оснащена ультразвуком (2-я) и третья поддерживалась в режиме кипения изопропилового спирта. Очищенные таким образом пластины уже не контролировали во избежание возможных загрязнений и передавали в чистом герметичном боксе на операцию нанесения маскирующего слоя.

Загрузку стеклянных пластин производят в специальном обеспыленном боксе, помещая их предварительно на подложкодержатель в количестве 27 шт., одна из которых являлась контрольной. Затем осторожно переносили подложкодержатель в вакуумную камеру напылительной установки. Навеску хрома, предназначенную для напыления, предварительно очищали переплавкой в вольфрамовой лодочке при температуре 2000-2100°С в атмосфере аргона при остаточном давлении 400 мм рт.ст. В испаритель из молибдена помещали очищенный образец хрома, а сам испаритель устанавливали в вакуумной камере. Стенки камеры изолировали алюминиевой фольгой для облегчения последующей очистки камеры. Перед напылением проводили вакуумирование камеры до остаточного давления 1.10^-6 мм рт.ст., нагревали стенки камеры до 80°С и выдерживали в таких условиях 30 мин. Затем стенки камеры охлаждали до комнатной температуры, устанавливали равномерный ток азота с таким расчетом, чтобы давление в камере поддерживалось на уровне 1.10^-4 мм рт.ст., включали нагревание испарителя и вращение подложкодержателя и равномерно повышали температуру испарителя до 1800°С в течение трех минут, после чего повышение температуры приостанавливали на 30 сек и повышали далее температуру источника до 1900°С с таким расчетом, чтобы скорость конденсации хрома на стеклянные пластины была постоянной, примерно, 150 Å/мин. Процесс продолжали до достижения оптической плотности 2,8 отн.ед. Контроль скорости конденсации хрома и увеличение оптической плотности пленки хрома на пластинах осуществляли по специальным приборам и датчикам, вмонтированным в систему. После этого, не отключая нагреватель, постепенно снижали температуру источника в течение трех минут и отключали нагреватель окончательно, выдерживали установку еще в течение 15 мин, проводили разгерметизацию вакуумной камеры и переносили подложкодержатель с пластинами в чистый бокс, в котором перегружали маскированные пластины в межоперационную тару и передавали на операцию контроля и отмывки маскирующего слоя. Из проконтролированных пластин получены 174 шт. годных и 4 пластины забракованы: 2 шт. - проколы и 2 шт. - грязь под слоем.

Отмывку маскирующего слоя хрома проводили на линии отмывки, состоящей из пяти ванн, выдерживали в каждой из них по 4 мин. Первая ванна содержала 0,7% раствор уксусной кислоты в деионизованной воде, ванна снабжена ультразвуком. Вторая ванна заполнялась деионизованной водой и устанавливали проток с расходом 120 л/час (число Re=800), ванна также снабжена ультразвуком с рабочей частотой 50-54 кГц. Кассету с пластинами далее помещали в третью ванну, заполненную изопропиловым спиртом (марки ХЧ), четвертую с изопропиловым спиртом, но снабженную также и ультразвуком (рабочая частота 50-54 кГц) и затем в пятую ванну, содержащую изопропиловый спирт в состоянии постоянного кипения и снабженную системой конденсации и рециркуляции изопропилового спирта.

Далее пластины передавали на операцию нанесения резиста (фоторезист или электронорезист). Нанесение резиста осуществляли методом центрифугирования через дозатор, просматривая предварительно пластины с маскирующим слоем под неактиничным (красным) светом и отбраковывали пластины с видимыми дефектами. Контроль осуществляли также после нанесения резиста, отбраковывая образцы с «кометами», светящимися точками, неоднородностью слоя резиста и другими характерными дефектами. При контроле 174 пластин получено годных 170 штук, забраковано 4 штуки, в т.ч. 2 штуки - кометы, 2 штуки - светящиеся точки. После этого пластины выдерживали в термостате с ламинарным потоком воздуха или азота. Затем пластины охлаждали до комнатной температуры и упаковывали в специальную светонепроницаемую ударопрочную тару.

Другие примеры в сравнении с прототипом приведены в таблице.

Таблица№№ п/пПредварительная отмывкаФинишная отмывкаЧисло РейнольдсаРабочая частота ультразвука, кГцВремя выдержки, минТемпература, °СРасход деионизованной воды, л/часВыход годных стеклян. пластинВиды бракаЧисло РейнольдсаРабочая частота ультразвука, кГцВремя выдержки, минТемпература, °СРасход деионизованной воды, л/часЗапуск, шт.Годные, шт.Лок. загрязн., шт.Светлые точки, шт.1800355203602001781210800355203602500204154502001761212500204154503110050625480200176101411005062548041300153107202001701614130015310720530060730270200170121230060730270Прототип--4Не контрол.10002001761212--4Не контрол1000

Таблица (продолжение)№№ п/пФинишная отмывкаОтмывка маскированных пластинОбщий выход годныхОбщий расход деионизованной воды, л/часВыход годных маскир. пластинВиды бракаЧисло РейнольдсаРабочая частота ультразвука, кГцВремя выдержки, минТемпература, °СРасход деионизованной воды, л/часВыход годных на операции нанесения фоторезистаВиды бракаЗапуск, шт.Годные, шт.Грязь под слоем, шт.Проколы, шт.Запуск, шт.Годные, шт.Кометы, шт.Точки, шт.шт.%1178174228003552036017417022170851080217617024500204154501701643316482135031761684411005062548016816062160801440417015668130015310720156150421507521605170170423006023027017016055160801080Прототип17617222--4Не кон.100017216813168843000

Из таблицы видно, что при сохранении общего выхода годных пластин на уровне 84-85%, расход деионизованной воды снизился с 3,0 м³/час до 1,08 м³/час, т.е. примерно, в три раза. Это свидетельствует об эффективности воздействия ультразвука при отмывке стеклянных и маскированных пластин при достаточно малых расходах деионизованной воды.

Изобретение относится к области электротехники, в частности к изготовлению фотошаблонных заготовок, предназначенных для формирования интегральных схем. Техническим результатом изобретения является улучшение качества поверхности заготовок при интенсификацияи процесса очистки поверхности стеклянных и маскированных пластин. Способ получения фотошаблонных заготовок содержит операции предварительной и финишной обработки пластин, а также операцию обработки маскированных пластин в нейтральной водной среде, которые осуществляются при ламинарном потоке деионизированной воды с числом Рейнольдса 500-1100, при температуре 15-25°С, в течение 4-6 минут, при воздейстии ультразвука в частотном диапазоне 20-50 кГц. Расход потока воды при проведении очистки стеклянных и маскированных пластин сокращается в 2,5-3 раза. 1 з.п. ф-лы, 1 табл.

1. Способ получения фотошаблонных заготовок, включающий резку листового стекла на пластины требуемого размера, шлифование, полирование стеклянных пластин на полировальном полотне, предварительную обработку в водных растворах органических кислот при воздействии ультразвука, обработку в нейтральной водной среде, обезвоживание и сушку в парах изопропилового спирта, контроль качества стекла, финишную обработку в водных растворах органических кислот при воздействии ультразвука, обработку в нейтральной водной среде, обезвоживание и сушку в парах изопропилового спирта, нанесение маскирующего слоя, контроль качества пластин с маскирующим слоем, обработку маскированных пластин в водных растворах органических кислот при воздействии ультразвука, обработку в нейтральной водной среде, обезвоживание и сушку в парах изопропилового спирта, нанесение и сушку фоторезиста, контроль, отличающийся тем, что предварительную и финишную обработку стеклянных пластин и обработку маскированных пластин в нейтральной водной среде проводят в ламинарном потоке деионизованной воды с числом Рейнольдса 500-1100 при температуре 15-25°С в течение 4-6 мин при воздействии ультразвука.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют ультразвук с рабочей частотой 20-50 кГц.