СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОРАЗМЕРНЫХ ВОРСИСТЫХ МАТЕРИАЛОВ Российский патент 2019 года по МПК C09J7/29 B29C35/04 B32B37/00 B29C59/02 B81C3/00 

Описание патента на изобретение RU2690816C1

Настоящее изобретение относится к области изготовления сухих адгезивов для создания достаточно прочной связи между поверхностями соединяемых тел, когда на поверхности как минимум одного тела создается массив отдельно стоящих ворсинок соответствующих размеров, каждая из которых при сближении контактных поверхностей начинает взаимодействовать с атомами или молекулами на опорной поверхности второго тела при достижении соответствующей дистанции между ними, которая имеет наноразмерный масштаб.

Известен способ получения НВМ с помощью наноимпритинга или нанопечати, который включает следующие операции:

(a) - с помощью специально подготовленного зонда атомно-силового микроскопа формируется топологический рисунок в исходной матрице (воск или парафин). Зонд выполняет роль штампа;

(b) - полученную матрицу заливают полимером, затем сшивают его;

(c) - отслаивают полимерную пленку с образовавшейся на ней структурой.

Существуют различные модификации этого способа получения НВМ. Например, метод, в котором формирование «формы для отливки» было выполнено при помощи литографии и плазмохимического травления кремниевой подложки.

Другой способ получения НВМ основан непосредственно на электронной литографии и плазмохимическом травлении, которые являются базовыми в микроэлектроники и поэтому на сегодняшний день наиболее отработаны. С помощью электронной литографии на полиимидной структуре формируется маска, после чего проводится изотропное плазмохимическое травление полиимида, в результате чего получается массив ворсинок микронного размера. Минимальные размеры ворсинок, получаемых по этой технологии, диаметр - 0,4 мкм, высота - 2 мкм, шаг - 1 мкм.

Общий недостаток приведенных способов, состоит в том, что формируемые ворсинки представляют собой столбики расположенные перпендикулярно поверхности, относительно короткие, толстые и редко стоящие в массиве по площади. Это связано с тем что, в случае формирования сравнительно длинных, тонких и близко стоящие ворсинок они слипаются между собой, как показано на рисунке ниже, под действием тех же сил Ван дер Ваальса, которые определяют полезную «липучесть» ворсинок к опорной поверхности. Отсюда получаем сравнительно низкий уровень сил адгезии обусловленный относительно низкой плотностью ворсинок на поверхности.

Наиболее близким способом, принятым за прототип, является способ по патенту US 2006005362 согласно которому для повышения адгезионных сил на поверхности формируются согласно патенту, так называемые, «иерархические структуры», представляющие собой массив многоуровневых ворсинкок, в частности двух-трехуровневых. Такие ворсинки представляют собой отдельно стоящие на базовой поверхности первого тела «столбики - ножки» первого уровня на которых на поверхности обращенной в сторону контактного тела сформированы «столбики - ножки» второго уровня меньшей высоты и диаметра, чем на первом уровне, а на ножках второго уровня выполнены аналогичные структуры третьего уровня, соответственно, меньшей высоты и диаметра, чем на втором уровне. Формирование таких структур согласно патенту прототипа может быть выполнено последовательным выполнением целого ряда технологических операций, формирующих последовательно первый второй и последующие уровни многоуровневых ворсинок.

Недостатком способа получения нановорсистого материала, описанного в прототипе, является сложность процесса получения материала, требующего выполнения многих операций. При этом геометрические параметры структур ворсинок, как минимум углы наклона, на одном уровне получаются одинаковыми.

Задачей предлагаемого изобретения является разработка способа получения нановорсистого материала, упрощающего процедуру формирования массива ворсинок, при повышении сил адгезии и адаптивности к опорной поверхности.

Поставленная задача решается за счет того, что массивы микро- и наноразмерных ворсинок формируют с применением методов 3-х мерного структурирования с помощью трехмерного 3-D литографа, варьируя топологию - высоту, форму и углы наклона многоуровневых ворсинок таким образом, чтобы обеспечить высокий уровень адгезии к поверхностям с различным рельефом и повысить адаптивности массива ворсинок к рельефу опорной поверхности за счет увеличения общей высоты ворсинок и общего числа точек соприкосновения с возникающими контактными силами притяжения между поверхностями. При этом каждой ворсинке, или группам ворсинок в общем массиве может быть задано индивидуальное распределение высот, диаметров и углов наклонов ножек по структурным уровням ворсинок путем программирования работы 3-D литографа.

Существенным признаком, отличающий заявленное изобретение, является возможность создания на слое фоточувствительного полимера массива 3-х мерно структурированных ворсинок с использованием трехмерного 3-D литографа, позволяющего в одном процессе формировать массивы двух - трех уровневых структур с заданными индивидуальными геометрическими параметрами каждой ворсинки или групп ворсинок в общем массиве.

Предложенный способ формирует массивы 3-х мерно структурированных ворсинок с заданными геометрическими параметрами - распределением по структурным уровням высот, диаметров и углов наклона. При этом каждой ворсинке, или группам ворсинок в общем массиве может быть задано индивидуальное распределение высот, диаметров и углов наклонов ножек по структурным уровням ворсинок. Способ формирования многоуровневых ворсинок реализуется путем выполнения следующих операций - формирование слоя фоточувствительного полимера, например, IP-L780 с помощью любой из известных процедур, формирование с помощью 3-D литографа структур ворсинок с заданными высотами, диаметрами и углами наклонов в каждом уровне, проявление структур ворсинок путем «вымывания» остатков полимера с помощью растворителей.

В результате реализации предложенного метода могут быть получены структурированные многоуровневые ворсинки общей высотой до 300 мкм, с заданным числом на последнем уровне контактных ворсинок диаметром до 100 нм и высотой до (1-10) мкм, причем предложенный метод позволяет изменять соотношения высот, диаметров и наклона ворсинок в любом структурном уровне каждой из ворсинок или групп ворсинок в общем массиве путем программирования работы 3-D литографа.

Похожие патенты RU2690816C1

название год авторы номер документа
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ЗАРЯЖЕННЫХ КАПЕЛЬ ЖИДКОСТИ 2010
  • Уилли Алан Дэвид
  • Хорни Джеймс С.
  • Гарштейн Владимир
  • Йейтс Клер Ребекка
RU2509610C2
ФОТОКАТОДНЫЙ УЗЕЛ 2014
  • Беспалов Владимир Александрович
  • Ильичев Эдуард Анатольевич
  • Рычков Геннадий Сергеевич
  • Петрухин Георгий Николаевич
  • Куклев Сергей Владимирович
  • Соколов Дмитрий Сергеевич
  • Соколова Наталья Викторовна
  • Якушов Сергей Станиславович
  • Белянченко Сергей Александрович
RU2574214C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОРЕЛЬЕФА НА ПОВЕРХНОСТИ ПЛЕНОК 2002
  • Смирнов В.К.
  • Кибалов Д.С.
RU2204179C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ НАНОПРОВОДНИКОВ В МАТРИЦЕ ИЗ СОБСТВЕННОГО ОКСИДА 2012
  • Гурович Борис Аронович
  • Приходько Кирилл Евгеньевич
RU2503084C1
СПОСОБ ПОВЫШЕНИЯ ПРОНИЦАЕМОСТИ ЭПИТЕЛИАЛЬНОГО БАРЬЕРА 2011
  • Росс Расселл Фредерик
RU2574137C2
ТРАНСДЕРМАЛЬНАЯ ДОСТАВКА ВЫСОКОВЯЗКИХ БИОАКТИВНЫХ АГЕНТОВ 2012
  • Росс Расселл Ф.
RU2630610C2
ГЕТЕРОСТРУКТУРА ДЛЯ ФОТОКАТОДА 2006
  • Ильичев Эдуард Анатольевич
  • Полторацкий Эдуард Алексеевич
  • Рычков Геннадий Сергеевич
  • Негодаев Михаил Александрович
  • Немировский Владимир Эдуардович
RU2335031C1
ЗАЩИТНЫЙ ЭЛЕМЕНТ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНОГО ЭЛЕМЕНТА СО СВЕТОРАССЕИВАЮЩИМИ СТРУКТУРАМИ 2015
  • Трасль Штефан
  • Шмидегг Клаус
  • Белегратис Мария
  • Шмидт Фолькер
  • Штайндорфер Михаэль
  • Штадлобер Барбара
RU2705635C2
НАНОРАЗМЕРНАЯ СТРУКТУРА С КВАЗИОДНОМЕРНЫМИ ПРОВОДЯЩИМИ НИТЯМИ ОЛОВА В РЕШЕТКЕ GaAs 2012
  • Сеничкин Алексей Петрович
  • Бугаев Александр Сергеевич
  • Ячменев Александр Эдуардович
  • Клочков Алексей Николаевич
RU2520538C1
Способ изготовления вкладыша пресс-формы или литьевой формы 2019
  • Генцелев Александр Николаевич
  • Дульцев Федор Николаевич
RU2721975C1

Реферат патента 2019 года СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОРАЗМЕРНЫХ ВОРСИСТЫХ МАТЕРИАЛОВ

Способ по изобретению относится к области изготовления сухих адгезивов для создания достаточно прочной связи между поверхностями соединяемых тел, когда на поверхности как минимум одного тела создается массив отдельно стоящих ворсинок. Способ получения наноразмерных ворсистых материалов, который реализуется путем выполнения следующих операций - формирование слоя многоуровневых ворсинок из фоточувствительного полимера формированием с помощью 3-D литографа структур ворсинок с заданными высотами, диаметрами и углами наклонов в каждом уровне, проявление структур ворсинок путем «вымывания» остатков полимера с помощью растворителей. Технический результат, достигаемый при использовании способа по изобретению, заключается в том, что упрощается процедура формирования массива ворсинок при повышении сил адгезии и адаптивности к опорной поверхности.

Формула изобретения RU 2 690 816 C1

Способ получения наноразмерных ворсистых материалов, заключающийся в формировании слоя полимера, формировании двух-трехуровневой структуры ворсинок, отличающийся тем, что процесс формирования массива многоуровневых 3-х мерно структурированных ворсинок с индивидуальным заданием распределения высот, диаметров и углов наклона ворсинок или групп ворсинок по уровням выполняют с помощью 3-D литографа с последующим проявлением структур ворсинок путем вымывания остатков полимера с помощью растворителей.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 2019 года RU2690816C1

US 2006005362 A1, 12.01.2006
WO 2001049776 A2, 12.07.2001
US 4545831 A, 08.10.1985
US 5843657 A, 01.12.1998
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ НАНОВОЛОКОН ИЗ ПОЛИМЕРНОГО РАСТВОРА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 2004
  • Иржак Ольдрих
  • Санетрник Филип
  • Лукас Давид
  • Котек Вацлав
  • Мартинова Ленка
  • Халоупек Ири
RU2365686C2

RU 2 690 816 C1

Авторы

Шаповал Сергей Юрьевич

Полушкин Евгений Анатольевич

Ковальчук Анатолий Викторович

Даты

2019-06-05Публикация

2018-03-22Подача