СПОСОБ ДЕКОРИРОВАНИЯ ПОДЛОЖКИ Российский патент 2023 года по МПК B44C1/22 C23C14/04 

Область техники

Настоящее изобретение относится к способу декорирования подложки. В частности, настоящее изобретение относится к способу, позволяющему выполнять матовое или полуматовое декорирование поверх полированной подложки, в частности, поверх циферблата часов и в более общем смысле поверх любого наружного элемента часов, например, безеля, средней части, задней крышки, звена браслета или же стекла. Настоящее изобретение также относится к любому типу ювелирных изделий, в частности, к браслетам.

Уровень техники

В настоящее время процесс, используемый для придания некоторым участкам подложки, например, циферблату часов, воспринимаемого зрением внешнего вида, который отличается от внешнего вида остальной поверхности подложки, включает в себя, например, воздействие на указанные участки лазерного луча и последующую металлизацию указанных участков. Операция металлизации является сложной, в частности, по той причине, что участки, которые подлежат травлению лазерным лучом и должны быть металлизированы, часто имеют малые размеры, поэтому точное осаждение слоев металлизации поверх указанных участков является сложной задачей. Фактически, слои металлизации иногда превышают размеры участков подложки, обрабатываемых с помощью лазерного луча, поверх которых была выполнена металлизация посредством осаждения, и выходят на прилегающие участки. И наоборот, иногда слои металлизации могут не покрывать полностью участки подложки, подлежащие металлизации, так что эти участки остаются видимыми ниже слоев металлизации. В обоих случаях окончательный внешний вид подложки, обработанной подобным образом, не удовлетворяет требованиям, и немалая часть таких подложек должна подлежать отбраковке. Другой недостаток такого процесса состоит в том, что состояние подложки изменяется в результате операции лазерного травления.

Подобные решения известны, например, из WO 2018114205 A1 (наиболее близкий аналог) или DE 102008046124 A1.

Раскрытие сущности изобретения

Настоящее изобретение служит для устранения вышеуказанных проблем, а также других проблем, с помощью предлагаемого способа, обеспечивающего, в частности, точное декорирование подложки.

С этой целью настоящее изобретение относится к способу декорирования подложки, который включает в себя следующие последовательные этапы:

- обеспечение наличия подложки;

- осаждение, по меньшей мере, одного слоя расходуемого материала по поверхности подложки;

- структурирование слоя расходуемого материала для создания в этом слое расходуемого материала множества полостей для формирования декоративного или специального рисунка;

- удаление слоя расходуемого материала за исключением того места, где выполнен рисунок.

По отдельному варианту выполнения изобретения полости имеют разные глубины.

По другому отдельному варианту выполнения изобретения, по меньшей мере, часть полостей, образованных в слое расходуемого материала, проходит через указанный слой расходуемого материала до подложки.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения слой расходуемого материала осаждается на поверхности подложки с помощью физического осаждения из паровой фазы, химического осаждения из паровой фазы или же электролитического осаждения, когда подложка является электропроводной.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения слой расходуемого материала получают с помощью одного или нескольких металлических материалов или же окислов, нитридов, карбидов или карбоксинитридов этого или этих металлических материалов.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения металлический материал выбирают из группы, образованной из хрома, циркония, титана или алюминия.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения слой расходуемого материала имеет толщину от 100 нм до 10 мкм.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения слой расходуемого материала имеет толщину от 500 нм до 2 мкм.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения полости в слое расходуемого материала образуются посредством влажного или сухого химического травления, лазерной абляции или же фотолитографии.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения влажное или сухое химическое травление воздействует на всю поверхность слоя расходуемого материала или же выполняется через отверстия маски, нанесенной поверх слоя расходуемого материала, контуры которых соответствуют декоративному или специальному рисунку, который должен быть виден в слое расходуемого материала.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения фотолитография состоит в формировании полостей в слое расходуемого материала непосредственно посредством абляции с помощью лазерного луча или посредством светового излучения через отверстия маски, нанесенной поверх слоя расходуемого материала, контуры которых соответствуют декоративному или специальному рисунку, который должен быть виден в слое расходуемого материала.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения после структурирования слоя расходуемого материала для образования в нем полостей и перед удалением слоя расходуемого материала по всей поверхности подложки за исключением того места, где выполнен рисунок, поверх слоя расходуемого материала осаждается, по меньшей мере, один дополнительный отделочный слой.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения дополнительный отделочный слой выполняется с помощью одного или нескольких металличесикх материалов или же окислов, нитридов, карбидов или карбоксинитридов этих металлических материалов.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения металлический материал, из которого выполняется дополнительный отделочный слой, выбирается из группы, образованной из хрома, циркония, золота, титана и алюминия.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения после структурирования слоя расходуемого материала и возможного осаждения дополнительного отделочного слоя выполняются следующие этапы:

- осаждение слоя фоточувствительной смолы поверх слоя расходуемого материала, который может быть покрыт дополнительным отделочным слоем;

- избирательное подвергание слоя фоточувствительной смолы непосредственному воздействию лазерного луча или же светового излучения в местах, соответствующих декоративному или специальному рисунку, который должен быть виден в слое расходуемого материала;

- удаление слоя фоточувствительной смолы и нижележащего слоя расходуемого материала, который может быть покрыт дополнительным отделочным слоем, в местах, где слой фоточувствительной смолы не подвергался воздействию излучения;

- удаление слоя фоточувствительной смолы, который остается в местах, где должен быть сохранен слой расходуемого материала.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения подложка является наружным элементом корпуса часов или ювелирного изделия.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения подложка является мостом, платиной, безелем, средней частью, стеклом, циферблатом, задней крышкой или звеном браслета.

По еще одному отдельному варианту выполнения изобретения подложка имеет полированный вид.

Благодаря этим признакам настоящее изобретение предлагает способ, обеспечивающий, в частности, декорирование подложки без модификации или изменения состояния поверхности подложки. В частности, следует понимать, что при условии, когда способ по изобретению состоит в структурировании декорированного или специального рисунка не в подложке, а в слое материала, осаждаемого поверх указанной подложки, поскольку независимо от природы материала, из которого выполнена подложка, структурирование иногда является крайне сложной операцией, существует широкий диапазон материалов для изготовления слоя, в котором рисунок выполняется на поверхности подложки. Кроме того, благодаря множеству отражений окружающего света внутри полостей, образующих рисунок, указанный рисунок имеет вид от матового до полуматового, который заметно отличается от остальной поверхности подложки, особенно, когда подложка имеет полированную поверхность. Также следует отметить, что независимо от рассматриваемого варианта внедрения, способ по изобретению позволяет устранить проблемы точности позиционирования, которые часто встречаются при декорировании таких подложек, как циферблаты часов или стекла часов.

Краткое описание чертежей

Другие признаки и преимущества настоящего изобретения станут более понятными из приведенного ниже подробного описания варианта выполнения способа декорирования по изобретению, причем этот пример приведен только в пояснительных целях без ограничения со ссылкой на приложенные чертежи, на которых:

фиг. 1 – вид в разрезе подложки, на поверхности которой осаждается слой расходуемого материала;

фиг.2 – изготовление полостей в слое расходуемого материала посредством погружения подложки в ванну для химического травления;

фиг. 3 – вид, сходный с видом на фиг. 1, на котором показан этап структурирования слоя расходуемого материала для формирования в указанном слое расходуемого материала множества полостей для создания декоративного или специального рисунка;

фиг. 4 – вид, сходный с видом на фиг. 3, на котором показан этап осаждения дополнительного отделочного слоя поверх слоя расходуемого материала после структурирования указанного слоя расходуемого материала;

фиг. 5 – вид, сходный с видом на фиг. 4, на котором показан этап осаждения слоя фоточувствительной смолы поверх дополнительного отделочного слоя;

фиг. 6 – вид, сходный с видом на фиг. 5, на котором показано удаление слоя фоточувствительной смолы на участках, где слой фоточувствительной смолы не был подвергнут воздействию излучения;

фиг. 7 – вид, сходный с видом на фиг. 6, на котором показан этап удаления слоя расходуемого материала и отделочного слоя на участках, где слой фоточувствительной смолы не был подвергнут воздействию излучения;

фиг. 8 – вид, сходный с видом на фиг. 7, на котором показано удаление слоя фоточувствительной смолы, который был подвергнут воздействию излучения, в тех местах, где слой расходуемого материала был структурирован, и где он должен оставаться для создания декоративного рисунка;

фиг. 9 – схематическое изображение подложки, покрытой слоем расходуемого материала, поверх которого осаждается слой фоточувствительной смолы;

фиг. 10 – изображение слоя фоточувствительной смолы, который выборочно подвергается воздействию излучения для создания полостей;

фиг. 11 – обработка слоя фоточувствительной смолы таким образом, что удаляются первые участки, которые не подвергаются воздействию излучения, и остаются только вторые участки, которые были подвергнуты воздействию излучения;

фиг.12 – случай, когда после образования в слое расходуемого материала полостей, предназначенных для создания рисунка, слой расходуемого материала покрывается, по меньшей мере, одним дополнительным отделочным слоем;

фиг. 13 – вид, сходный с видом на фиг. 12, на котором показано осаждение поверх дополнительного отделочного слоя второго слоя светочувствительной смолы, в котором можно различить первый участки, которые не были подвержены воздействию излучения, и вторые участки, которые были непосредственно подвержены воздействию излучения с помощью лазерного луча или через маски, и которые соответствуют рисунку, который должен быть создан в слое расходуемого материала;

фиг. 14 – вид, сходный с видом на фиг. 13, на котором показана обработка слоя фоточувствительной смолы после воздействия на нее излучения непосредственно лазерным лучом или через маску, причем удаляются первые участки, которые не были подвержены воздействию излучения, и остаются только вторые участки, которые были подвержены воздействию излучения и которые соответствуют требуемому рисунку;

фиг. 15 – вид, сходный с видом на фиг. 14, на котором показано удаление участков слоя фоточувствительной смолы, которые были подвержены воздействию излучения.

Осуществление изобретения

Настоящее изобретение основано на общей идее изобретения, которая состоит в создании декоративного или специального рисунка на поверхности подложки без модификации или изменения состояния поверхности указанной подложки. С этой целью настоящее изобретение предлагает осаждение на поверхности подложки так называемого слоя расходуемого материала, в котором выполняется множество, по существу, глубоких полостей согласно компоновке, которая соответствует форме требуемого декоративного или специального рисунка. Указанные группы полостей, которые могут быть покрыты одним или несколькими дополнительными слоями для отделки и регулирования цвета нижележащего слоя расходуемого материала, формируют за счет игры множества отражений падающего окружающего света, который проникает в указанные полости, требуемый рисунок, который можно различить невооруженным глазом. Кроме того, в зависимости от количества и глубины указанных полостей готовый рисунок будет иметь матовый или полуматовый вид, который будет заметно отличаться от окружающей поверхности подложки, поверх которой был структурирован этот рисунок, в частности, когда подложка имеет полированную поверхность.

На фиг. 1 показана подложка, обозначенная в целом номером поз. 1. Предпочтительно, не необязательно указанная подложка 1 имеет полированную поверхность. Указанная подложка 1 может быть любой деталью для изготовления часов, например, без ограничения, мостом, платиной, безелем, средней частью, стеклом, циферблатом, задней крышкой или же звеном браслета. Она также может быть ювелирным изделием, например, браслетом, кольцом или медальоном. В более общем смысле подложку в контексте настоящей патентной заявки следует рассматривать как любой поддерживающий элемент, обеспечивающий внедрение способа по изобретению.

По изобретению и как показано на фиг. 1, подложка покрыта слоем 2 расходуемого материала. Указанный слой 2 расходуемого материала изготовлен из металлического материала, предпочтительно выбранного из группы, образованной хромом, нитридом хрома, оксинитридом хрома, цирконием, нитридом циркония и оксинитридом циркония. Указанный слой 2 расходуемого материала имеет толщину от 100 нм до 10 мкм и предпочтительно от 500 нм до 2 мкм. Разумеется, толщина слоя 2 расходуемого материала может превышать эти значения. Слой 2 расходуемого материала также может состоять из комбинации, по меньшей мере, двух разных металлических материалов или же окислов, нитридов, карбидов или карбоксинитридов этих металлических материалов.

Слой 2 расходуемого материала осаждается на поверхности подложки 1 с помощью любого пригодного процесса, такого как физическое осаждение из паровой фазы, химическое осаждение из паровой фазы или же электролитическое осаждение, когда подложка 1 является электропроводной.

После осаждения слоя 2 расходуемого материала на поверхности подложки 1 этот слой 2 расходуемого материала структурируется с образованием в нем множества полостей 4.

Структурирование полостей 4 в слое 2 расходуемого материала может выполняться с помощью пригодного процесса. В качестве примера, показанного на фиг. 2, подложка 1, покрытая слоем 2 расходуемого материала, погружается в ванну 6 для химического травления, причем на некоторые участки слоя 2 расходуемого материала при необходимости могут быть нанесены маски, чтобы указанные участки не подвергались действию ванны. Таким образом, поверхность слоя 2 расходуемого материала подвергается коррозионному воздействию ванны 6. Поскольку указанное химическое травление не является полностью равномерным, и его результаты зависят, в частности, от времени, в течение которого подложка 1 находится в ванной 6, не все полости 4, образующиеся в слое 2 расходуемого материала, будут иметь одинаковую глубину.

Как показано на фиг. 3, после удаления подложки 1 из ванной 6 для химического травления полости 4 по всей поверхности слоя 2 расходуемого материала, который был подвергнут химическому травлению, образуются полости 4 различной глубины, некоторые из которых даже могут проходить по всей толщине слоя 2 расходуемого материала сверху донизу до подложки 1.

По другому варианту выполнения изобретения, который не показан, вместо влажного травления слоя 2 расходуемого материала может выполняться сухое травление указанного слоя 2 расходуемого материала посредством размещения подложки 1 в коррозионно-газовой атмосфере для образования полостей 4.

По еще одному варианту выполнения изобретения, который не показан, вместо химического травления слоя 2 расходуемого материала также существует возможность структурирования указанного слоя 2 расходуемого материала посредством абляции с помощью лазерного луча.

После структурирования полостей 4 в слое 2 расходуемого материала последний предпочтительно, но необязательно, может быть покрыт, по меньшей мере, одним дополнительным отделочным слоем, как показано на фиг. 4. Указанный дополнительный отделочный слой 8 может осаждаться, например, с помощью физического или химического осаждения из паровой фазы. Указанный дополнительный отделочный слой 8 может быть выполнен из такого же материала, как и слой 2 расходуемого материала. Указанный дополнительный отделочный слой 8 изготавливается из металлического материала, оксинитрида металлического материала или сплава металлических материалов; в частности, он может быть выполнен из золота, хрома, циркония, титана или алюминия. Указанный, по меньшей мере, один дополнительный отделочный слой 8 предназначен для отделки поверхности и регулирования цвета нижележащего слоя 2 расходуемого материала.

Как показано на фиг. 5, после осаждения дополнительного отделочного слоя 8 поверх указанного дополнительного отделочного слоя 8 осаждается слой 10 фоточувствительной смолы. После этого слой 10 фоточувствительной смолы выборочно подвергается воздействию светового излучения в тех местах, которые соответствуют декоративному или специальному рисунку 12, который должен быть виден в слое 2 расходуемого материала. Таким образом, в слое 10 фоточувствительной смолы можно различить первые участки 10A, которые не были подвергнуты воздействию светового излучения, и вторые участки 10B, которые были подвергнуты воздействию светового излучения и соответствуют требуемому рисунку 12. Слой 10 фоточувствительной смолы может выборочно подвергаться воздействию излучения, например, непосредственно с помощью лазерного луча, перемещения которого управляются компьютером, или же с помощью светового излучения, например, ультрафиолетового излучения, используя маску, отверстия в которой соответствуют участкам слоя 2 расходуемого материала, которые должны быть сохранены для создания декоративного или специального рисунка 12, который должен быть виден на поверхности подложки 1.

После выборочного воздействия излучения, которому был подвергнут слой 10 фоточувствительной смолы, указанный слой 10 фоточувствительной смолы обрабатывается таким образом, что первые участки 10A, которые не подвергаются воздействию ультрафиолетового излучения, удаляются, и остаются только вторые участки 10B, подвергнутые воздействию светового излучения, которые соответствуют требуемому рисунку 12 (см. фиг. 6).

Далее, как показано на фиг. 7, участки слоя 2 расходуемого материала и дополнительного отделочного слоя 8, которые не были покрыты слоем 10 фоточувствительной смолы, удаляются до тех пор, пока снова не будет видна подложка 1.

И, наконец (фиг. 8), в, свою очередь, удаляются вторые участки 10B слоя 10 фоточувствительной смолы, которые были подвергнуты воздействию ультрафиолетового излучения.

Не все полости 4, образованные в участках слоя 2 расходуемого материала, которые остаются на поверхности подложки 1, имеют одинаковую глубину, так что за счет множества отражений падающего света, который проникает в указанные полости 4, декоративный или специальный рисунок 12, образованный сетью полостей 4, будет иметь матовый или полуматовый вид, который будет заметно отличаться от остальной поверхности подложки 1, в частности, когда последняя имеет полированную поверхность. Фактически, декоративный или специальный рисунки 12, образованные комбинацией полостей 4, имеют, в зависимости от глубины указанных полостей 4, матовый или полуматовый вид, который создает заметный зрительный контраст с блеском остальной поверхности подложки 1, которая не покрыта слоем 2 расходуемого материала.

Также следует отметить, что предпочтительно полости 4 структурируются в слое 2 расходуемого материала после того, как поверхность слоя 2 расходуемого материала подвергается, например, коррозионному воздействию ванны 6 для формирования сети, имеющей размеры больше размеров требуемого окончательного рисунка 12. Далее для надлежащего позиционирования рисунка 12 относительно подложки 1 обеспечивается определенный диапазон для надлежащего выравнивания указанной подложки 1 относительно маски, с помощью которой слой фоточувствительной смолы подвергается воздействию излучения, что является существенным преимуществом.

Другой вариант выполнения изобретения показан на фиг. 9 – 15. На фиг. 9 подложка 1 покрыта слоем 2 расходуемого материала, поверх которого осаждается первый слой 14 фоточувствительной смолы.

После этого, как показано на фиг. 10, первый слой 14 фоточувствительной смолы выборочно подвергается воздействию излучения для образования полостей 4. Это выборочное воздействие излучения на первый слой 14 фоточувствительной смолы может выполняться, например, непосредственно с помощью лазерного луча или маски, отверстия в которой соответствуют участкам слоя 2 расходуемого материала, которые должны быть сохранены. Таким образом, в слое 14 фоточувствительной смолы можно различить первые участки 14A, которые не были подвергнуты выборочному воздействию светового излучения, и вторые участки 14B, которые были подвергнуты выборочному воздействию светового излучения и соответствуют участкам слоя 2 расходуемого материала, которые должны быть сохранены.

После выборочного воздействия излучения слой 14 фоточувствительной смолы обрабатывается таким образом, что первые участки 14A удаляются, и остаются только вторые участки 14B, подвергнутые воздействию светового излучения, как показано на фиг. 11. Далее участки слоя 2 расходуемого материала, которые не покрыты слоем 14 фоточувствительной смолы, удаляются посредством химического травления до тех пор, пока снова не будет видна подложка 1. И, наконец, вторые участки 14B слоя 14 фоточувствительной смолы, которые были подвергнуты выборочному воздействию излучения, в свою очередь удаляются, так что остаются только участки слоя 2 расходуемого материала, в котором были структурированы полости 4.

После этого, как схематически показано на фиг. 12, подложка 1 покрывается, по меньшей мере, одним дополнительным отделочным слоем 16, который сам покрыт вторым слоем 18 фоточувствительной смолы, как показано на фиг. 13. После этого указанный второй слой 18 фоточувствительной смолы выборочно подвергается воздействию излучения, например, с помощью лазерного луча или маски, отверстия в которой соответствуют участкам слоя 2 расходуемого материала, которые должны быть сохранены для создания декоративного или специального рисунка 20, который должен быть виден на поверхности подложки 1.

После воздействия светового излучения в слое 18 фоточувствительной смолы можно различить первые участки 18A, которые не были подвергнуты выборочному воздействию светового излучения, и вторые участки 18B, которые были подвергнуты выборочному воздействию светового излучения и соответствуют участкам слоя 2 расходуемого материала и дополнительного отделочного слоя 8, которые должны быть сохранены. После этого слой 18 фоточувствительной смолы обрабатывается таким образом, что первые участки 18A удаляются, и остаются только вторые участки 18B, подвергнутые воздействию светового излучения, как показано на фиг. 14.

После этого подложка 1 подвергается химическому травлению для удаления участков дополнительного отделочного слоя 16 и слоя 2 расходуемого материала, которые не покрыты фоточувствительной смолой. И, наконец, как показано на фиг. 15, получают подложку 1, несколько участков которой открыты и имеют полированный вид, в то время как другие участки подложки 1 покрыты слоем 2 расходуемого материала с дополнительным отделочным слоем 16, в котором структурированы полости 4 для формирования декоративного или специального рисунка 20, имеющего полуматовый или матовый вид.

Само собой разумеется, что настоящее изобретение не ограничивается до варианта выполнения, который был описан выше, и специалист в указанной области может рассмотреть ряд простых модификаций и изменений без отклонения от объема изобретения, установленного в приложенной формуле изобретения. В частности, следует понимать, что первый слой, осаждаемый поверх подложки 1, именуется слоем 2 расходуемого материала, поскольку он предназначен для полного удаления за исключением места, где структурируется декоративный или специальный рисунок 20. Именно поэтому слой 2 расходуемого материала изготавливается из прочного недорогого материала. Кроме того, следует отметить, что чем больше толщина слоя 2 расходуемого материала, тем легче выполнять структурирование полостей 4. Однако следует обеспечить, чтобы указанный слой 2 расходуемого материала не был слишком толстым во избежание риска возникновения в этом слое внутренних механических напряжений, которые могли бы вызвать проблемы расслаивания. Также следует отметить, что подложка 1 предпочтительно является полированной и/или непрозрачной.

Перечень номеров позиций

1 – подложка

2 – слой расходуемого материала

4 – полости

6 – ванна

8 – дополнительный отделочный слой

10 – слой фоточувствительной смолы

10A – первые участки

10B – вторые участки

12 – рисунок

14 – первый слой фоточувствительной смолы

14A – первые участки

14B – вторые участки

16 – дополнительный отделочный слой

18 – первый слой фоточувствительной смолы

18A – первые участки

18B – вторые участки

20 – рисунок

Изобретение относится к способу декорирования подложки (1), который включает в себя последовательность следующих этапов: обеспечение наличия подложки (1); осаждение слоя (2) расходуемого материала по поверхности подложки (1), при этом осуществляют структурирование слоя (2) расходуемого материала для формирования в этом слое (2) расходуемого материала множества полостей (4) для создания декоративного или технического рисунка (12; 20); удаление слоя (2) расходуемого материала за исключением того места, где выполнен рисунок (12; 20). При этом после структурирования слоя (2) расходуемого материала выполняют следующие этапы: осаждение слоя (18) фоточувствительной смолы поверх слоя (2) расходуемого материала; избирательное подвергание слоя (18) фоточувствительной смолы непосредственному воздействию лазерного луча или же светового излучения в местах, соответствующих декоративному или техническому рисунку (12; 20), который должен быть виден в слое (2) расходуемого материала; удаление слоя (18) фоточувствительной смолы и нижележащего слоя (2) расходуемого материала в местах, где слой (18) фоточувствительной смолы не подвергался воздействию излучения; удаление слоя (18) фоточувствительной смолы, который остается в местах, где должен быть сохранен слой (2) расходуемого материала. 16 з.п. ф-лы, 15 ил.

1. Способ декорирования подложки (1), который включает в себя последовательность следующих этапов:

обеспечение наличия подложки (1);

осаждение слоя (2) расходуемого материала по поверхности подложки (1);

отличающийся тем, что осуществляют структурирование слоя (2) расходуемого материала для формирования в этом слое (2) расходуемого материала множества полостей (4) для создания декоративного или технического рисунка (12; 20);

удаление слоя (2) расходуемого материала за исключением того места, где выполнен рисунок (12; 20),

при этом после структурирования слоя (2) расходуемого материала выполняют следующие этапы:

осаждение слоя (18) фоточувствительной смолы поверх слоя (2) расходуемого материала;

избирательное подвергание слоя (18) фоточувствительной смолы непосредственному воздействию лазерного луча или же светового излучения в местах, соответствующих декоративному или техническому рисунку (12; 20), который должен быть виден в слое (2) расходуемого материала;

удаление слоя (18) фоточувствительной смолы и нижележащего слоя (2) расходуемого материала в местах, где слой (18) фоточувствительной смолы не подвергался воздействию излучения;

удаление слоя (18) фоточувствительной смолы, который остается в местах, где должен быть сохранен слой (2) расходуемого материала.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что после структурирования слоя (2) расходуемого материала для образования в нем полостей (4) и перед удалением слоя (2) расходуемого материала по всей поверхности подложки (1) за исключением того места, где выполнен рисунок (12; 20), поверх слоя (2) расходуемого материала осаждают по меньшей мере один дополнительный отделочный слой (8).

3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что дополнительный отделочный слой (8) выполнен из одного или нескольких металлических материалов или же окислов, нитридов, карбидов или карбоксинитридов этих металлических материалов.

4. Способ по п. 3, отличающийся тем, что металлические материалы, из которых выполнен дополнительный отделочный слой (8), выбирают из группы, образованной из хрома, циркония, золота, титана или алюминия.

5. Способ по любому из пп. 1–4, отличающийся тем, что полости (4) имеют различные глубины.

6. Способ по любому из пп. 1–5, отличающийся тем, что по меньшей мере часть полостей (4), образованных в слое (2) расходуемого материала, проходит через этот слой (2) расходуемого материала до подложки (1).

7. Способ по любому из пп. 1–6, отличающийся тем, что слой (2) расходуемого материала осаждают на поверхность подложки (1) с помощью физического осаждения из паровой фазы, химического осаждения из паровой фазы или же электролитического осаждения, когда подложка (1) является электропроводной.

8. Способ по любому из пп. 1–7, отличающийся тем, что слой (2) расходуемого материала получают с помощью одного или нескольких металлических материалов или же окислов, нитридов, карбидов или карбоксинитридов этого или этих металлических материалов.

9. Способ по п. 8, отличающийся тем, что металлический материал выбирают из группы, образованной из хрома, циркония, титана и алюминия.

10. Способ по п. 8 или 9, отличающийся тем, что слой (2) расходуемого материала имеет толщину от 100 нм до 10 мкм.

11. Способ по п. 10, отличающийся тем, что слой (2) расходуемого материала имеет толщину от 500 нм до 2 мкм.

12. Способ по любому из пп. 1–11, отличающийся тем, что полости (4) в слое (2) расходуемого материала образуют посредством влажного или сухого химического травления, лазерной абляции или же фотолитографии.

13. Способ по п. 12, отличающийся тем, что влажным или сухим химическим травлением воздействуют на всю поверхность слоя (2) расходуемого материала или же выполняют через отверстия маски, нанесенной поверх слоя расходуемого материала, контуры которых соответствуют декоративному или техническому рисунку (12; 20), который должен быть виден в слое (2) расходуемого материала.

14. Способ по п. 12, отличающийся тем, что фотолитография состоит в формировании полостей (4) в слое (2) расходуемого материала непосредственно посредством абляции с помощью лазерного луча или посредством светового излучения через отверстия маски, нанесенной поверх слоя (2) расходуемого материала, контуры которых соответствуют декоративному или техническому рисунку (12; 20), который должен быть виден в слое расходуемого материала.

15. Способ по любому из пп. 1–14, отличающийся тем, что подложка (1) является наружным элементом корпуса часов или ювелирного изделия.

16. Способ по п. 15, отличающийся тем, что подложка (1) является мостом, платиной, безелем, средней частью, стеклом, циферблатом, задней крышкой или звеном браслета.

17. Способ по п. 15 или 16, отличающийся тем, что подложка (1) имеет полированный и/или непрозрачный вид.