Устройство для очистки газов Советский патент 1986 года по МПК B01D47/10 

2.Уетройс 1 во по п. 1, отличающееся тем, что дополнительный узел орошения выполнен в виде ряда форсунок, уетановленных нара, 1ле;1ьпо внутре 1ней стенке нодводящего iia i рубка.

3.Устройство по пи. н 2, отличающееся тем, что внутренняя боковая стенка подводяf

Изобретение относится к металлургической, химической ripoMbiuiJieHHOCTH и др. н 1грсдназначено д;1я использования в системе мокрой очистки технологических газов.

Целью изобретения является новьпнение экснлуатационной надежности устройства, стеиени очистки газов и сокращение расхода воды.

На фиг. дано предлагаемое устройство, нродольный разрез; на фиг. 2 - то,же, вид сверху.

Уетройство содержит подводящий нат- рубок 1, выполненный в виде конфузора, ус- тановле1П1ый танге1щиально к камере 2, пос- ;1едовательно соединенные конфузор 3, гор- ;1овину 4 с узлом орон1ения 5, диффузор 6. Перед камерой 2 в подводящем натрубке 1 расположен донолнительный узел орошения 7 газового потока с эвольвентными форсунками диаметром 25 мм и более, а сам подво- ДЯН1.ИЙ патрубок состоит из внутренней боковой стенки 8 и наружной боковой стенки 9.

Предло/кешюе устройство работает сле- ду1он1им образом.

Заиылепньп-1 газовый поток через иод- водящий натрубок 1, имеющий внутреннюю 8 и аружную 9 боковые стенки, тангепциальКак видно из табл. 1, ири изменении yi jia наклона внутренней боковой стенки подводя- п;его патрубка и форсунки к ноперечной оси трубы Вептури более 40° степень очистки не иовьппается, по нри этом необходимо учесть, что соиротивлепие трубы Е5ентури

щего патрубка входит в камеру на 1/4 ее диаметра.

4. Устройство но пн. 1-3, отличающееся тем, что нлощадь входного сечения подводя- Hiero натрубка в 1,5 раза больн1е площади его выходного сечения.

5

0

5

но поступает в контактную камеру 2, куда через узел орощения 7 посредством эволь- вентных форсунок в газовый ноток впрыскивается оборотная вода.

За счет закрутки газового нотока в камере и образовавщихся нри этом центробежных сил находян1,иеся в газовом нотоке капли воды отбрасываются к стене камеры и за счет контакта с ней образуют стабильную жесткую пленку на ее стенке, которая зате.м с газовым потоком, соверщаюплим враща- тельно-поступательное движение, «снолза- ет в конфузор 3 и далее в горловину 4, где она дробится на капли и вместе с каплями воды узла орощения 5 участвует в очистке газового нотока от взвещенных чае- тиц, находящихся в ней, зате.м через диффузор 6 газ отводится в газоотводящий тракт.

Необходимым условием для достижения стабильной жесткой плепки является тот факт, что внутренняя боковая стенка 8 нод- водяпхего патрубка должна входить в контактную камеру 2 на 1/4 его диаметра и устанавливаться под углом 30---40° к продольной оеи иодводящего натрубка.

В табл. 1 представлена зависимость угла установки боковой стенки от эф(()ективности очистки. ().

Таблица 1

увеличивается в среднем на 10-15%, что приводит к неоправданным энергетическим потерям.

В табл. 2 представлена зависимость г:п - бинь вхождения натрубка от эффективности очистки.

Таблица 2

Как видно из табл. 2, увеличение глубины вхождения патрубка в контактную камеру более, чем на 1/4 D, не приводит к повышению степени очистки газа, а способствует только повышению сопротивления в среднем на 10-20%, а это в свою оче92-93 94-96 98-99 98-99 97-98 95-96

Как видно из табл. 3, при соотношении площади входа в подводящий патрубок к площади выхода, равной 1,5, степень очистки достигает максимального значения. При дальнейшем увеличении до 1,75 степень очистки не изменяется, хотя при этом начинает повышаться сопротивление трубы Вен- тури, а при достижении соотношения до 2,0 и выше степень очистки понижается за счет срыва пленки с поверхности.

Приведенные данные определены экспериментальным путем и являются оптимальными для достижения максимальной степени очистки трубы Вентури.

Таким образом, в устройстве за счет старедь приводит также к неоправданным энергетическим потерям.

Зависимость соотношения плошадей входа и выхода подводяшего патрубка от эффективности очистки представлена в табл. 3.

Таблица 3

бильной жесткой пленки повышается эксплуатационная надежность пленочного орошения, а вместе с этим и надежность работы устройства. В контактной камере происходит первичный контакт газа с водой, подаваемой на пленочное орошение, в горловине трубы Вентури происходит вторичный контакт газа с водой пленочного орошения. За счет двухразового контакта воды, идущей на пленочное орошение, с газовым потоком сокращается удельный расход воды пленочного орошения. Кроме того, степень-очистки газа за счет двойного контакта и дополнительной

турбулизации газоводяной смеси (за счет придания газовому потоку вращательно-но- ступательного движения) повышается.

«

фиг. 2