Способ фотохромной записи оптической информации на аморфных пленках высших оксидов переходных металлов с адсорбированным на их поверхности демитилформамидом Советский патент 1989 года по МПК G03G5/04 G03C1/74 

на воздухе или в вакууме происходит быстрая десорбция паров воды с поверхности пленок оксидов с

В результате адсорбции молекул воды и связывания их с молекулами ди метилформамида посредством водородной связи происходит ослабление G-H связей в молекулах диметилформамидао Ослабление С-Н связей приводит к то- му, что молекулы диметипформамида более эффективно отщепляют водород при передаче им возбуждения от поверхности оксидов, активированной квантами света, что и приводит к росту фотохромной светочувствительностио

Пример 1 о Аморфные пленки триоксида вольфрама с адсорбированным диметилформамидом облучают в кювете с кварцевым окном, откачанной до давления Рртк рТоСТо при парциальном давлении паров воды Р ид - 1,0 мм рт.сто Л 1,0 мкмо S 3-10 7Дж.

П р и м е р 2о Облучают аморфные пленки триоксида вольфрама в кювете с кварцевым окном

Примерз (прототип)о Аморфные пленки триоксида вольфрама,триоксида молибдена и пятиоксида ванадия облучают светом ртутной лампы ПРК -4о На поверхности пленок был адсорбирован диметилформамидо Облучение приводят в нормальных условиях на воздухе Дпины волн регистрации фото- индуцированного перепада оптической плотности 5П/оптическую плотность измеряют с помощью спектрофотометра СФ-8/: ,цля пленок триоксида вольфрама Д 1,0 мкм, два триоксида молиб- дена ,А 0,8 мкм, для пятиоксида ванадия А 1,1 мкМо Величина фото

Редактор А„Бер .

Составитель В Аксенов Техред А.Кравчук

Заказ 6883Тираж 412Подписное

ВНИШШ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб,, д. 4/5

Производственно-издательский комбинат Патент, г.Ужгород, ул. агарина,101

Q

о

5

хромной чувствительности для аморфных пленок триоксида вольфрама S 10 м /Дж, для пленок триоксида молибдена S 5-10 MV№, для пленок пятиоксида ванадия S

0

5

З Ю

г2

От k рТоСТо,

Пойме

мм рТоСТо,

S 6-10 Р 4,

-5

Р„ „ 10 мм

1, м7Джо

Облучают пленки Р

OTfc

триоксида вольфрама о

10 мм рТоСТо Рц д 20 мм рТоСТ„5

S A lO- MVflsco

Приме р 5а Облучают аморфные пленки триоксида молибдена с адсорбированным диметилформамидомо Дпина волны регистрации фотоиндуцированно- го перепада оптической плотности А 0,8 мкМо РО-ГК ртост..

J г

PH,JO 1 мм рт.ст., S 2-10 м/Дж.

П р и м е, р 6. Облучают пленки триоксида молибдена РОТК 3 х X 10 мм рт.сто. Р., п 10 мм рт.сто S .

П р и м е р 7 е Облучают пленки триоксида молибдена, Р ., PU - 20 мм рТоСТо, :S 3-10- м,Джо

П р и м е р 8. Облучают аморфные пленки пятиоксида ванадия с адсорби-1 рованным диметилформамидомо Длина волны регистрации фотоинду1щрованно- го перепада оптической плотности

Л 1,1 мкм, РOTk 10 мм рТоСТо,

Рц-го I мм рт.ст., S 4- 0- мVДж„

П р и м е р 9. Облучают пленки пятиоксида ванадия Р от 3 х

X 10 мм рТоСТ, Р ,. f. 10 мм рТоСТ.,

S .

П р и м е р 10 Облучают пленки пя тиоксида ванадия Р отк 10 мм рт.стс,, рт.сто, -10 мVДжc

Корректор А.Обручар