Изобретение относится rf опрг делр- ним реальной структуры монокристаллов и физическому материяловеленню и может быть испокьэопано для контроля качества монокристяллов.
Цель изобретения - обеспечение возможности количестренньгх характеристик fикpoдeфeктoв в объеме монокристалла .
На фиг. 1 изображена схема трех- кристального рентгеновского дифракто- метра, реализующая предлагаемый способ; на фиг. 2 - кристалл-анализатор П-образной формы, поперечное сечение.
Схема включает источник 1 рентгеновского излучения, кристалл-монохро- матор 2, исследуемый кристалл 3, кристалл-анализатор А П-образной формы, детекторы 5 и 6 рентгеновского излучения.
Предлагаемый способ осуществляется следующим образом.
Пучок рентгеновских лучей от ис20 ностями П-образного кристалла-анализатора составляет f-6 см. Для того чтобы зтот кристалл мог отразить оба пучка, он устанавливается на расстоянии t/2ctg6 20 см от исследуемого
точника 1 коллимируется при отражении 25 кристалла. Дпя определения распредеот кристалла-монохроматора 2 и падает на исследуемый кристалл 3. В результате дифракции на исследуемом кристалле из него выходят прошедший и дифрагированный пучки, содержащие диффузно рассеянные на микродефектах Волны. В отличт1е от известного случая кинематической дифракции, когда диффузная составляющая в проходящем пуч30
ления интенсивности диффуэно рассеянных волн в зависимости от величины и направления переданного импульса производится вращение исследуемого кристалла 3 и кристалла-анализатора 4.
Предложенный способ определения микродефектов в монокристаллах позволяет определить количественные харак- ке мала (малоугловое рассеяние), при j теристики микродефектов в объеме мо- дияамической дифракции в кристаллах нокристалла, а именно их концентрацию, тип и размеры. Суммирование ин- тенсивностей двух диффузно рассеянвысокой степени совершенства диффузные составляющие в обоих пучках соизмеримы. В этом случае энергия падаю- цего пучка распределяется между про- 40 ь влияние явлений динамической ходящей и дифрагированной волнами, дифракции и определить с помощью ме- перекачиваясь из одной волны в другую и обратно по мере распространения волн вглубь к)исталла (маятниковые колебания интенсивности). Поэтому диффузная Составляющая в дифрагироных волн дает возможность компенсирогодов, развитых в кинематической теории диффузного рассеяния, количественные характеристики микродефектов, 5 По величине интенсивности диффузного рассеяния определяют концентрацию
ванном пучке, оп1 €деляемая рассеянием проходящей волны на дефектах исследуемого кристалла и регистрируемикродефектов. По ориентационной зависимости интенсивности для различных отражений определяют тип микро- мая после отражения от кристалла-ана- дефектов и компоненты дипольного тен- лнэатора 4 детектором 5, уменьшается. зора. По размерам области хуанговско- Недостаюшая часть интенсивности опре- го диффузного рассеяния определяют деляется рассеян ием дифрагированной размер микродефектов, волны в диффузную составляющую проходящего пучка и регистрируется после Формула изобретения отражения от кристалла-анализатора 4
детектором 6. Вращение исследуемого Способ определения микродефектов жрнсталла 3 и кристалла-анализатора 4 в монокристаллах, включающий облу- поэволяет исследовать распределение Ч1;ние исследуемого монокристалла пучинтс исиппогти диффутно рясгоянммх волн в i.THHCHMotTH от величины и на- праплонмя переданного импульса. Пример реализа1и и предлагаемого
способа.
Пучок рентгеновск тх лучей от источника 1 излучения (фиг. 1) колпимируется при отражении от крис- т,1ллп-монохроматора 2 и падает на исслрлуемый кристалл 3 кремния. Крис- талл-монохроматор также изготовлен ия кремния, используется отражение (220) . Н исследуемом кристалле содержатся микродефекты. В результате дифракции на исследуемом кристалле из него выходят прошедший и дифрагированный пучки, содержащие диффузно рассеянные на микродефектах волны. Расстояние между внутренними поверхностями П-образного кристалла-анализатора составляет f-6 см. Для того чтобы зтот кристалл мог отразить оба пучка, он устанавливается на расстоянии t/2ctg6 20 см от исследуемого
кристалла. Дпя определения распреде
ления интенсивности диффуэно рассеянных волн в зависимости от величины и направления переданного импульса производится вращение исследуемого кристалла 3 и кристалла-анализатора 4.
ь влияние явлений динамической дифракции и определить с помощью ме-
ных волн дает возможность компенсиро40 ь влияние явлений динамической дифракции и определить с помощью ме-
годов, развитых в кинематической теории диффузного рассеяния, количественные характеристики микродефектов, 5 По величине интенсивности диффузного рассеяния определяют концентрацию
ком рентгеновских лучей, сколлимиро - ванным при отражении от кристалла- нонохроматора, и измерение вблизи дифрагированного пучка распределения интенсивности лиффузно рассеянных на монокристалле волн при врашении исследуемого монокристалла и кристалла- анализатора, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности определения количественных ха- 10 рактеристик микродефектов в объеме монокристалла, в качестве кристаллаанализатора используют кристалл П-ов- разной формы, устанавливают РГО в положение, обеспечивающее одновременяое отражение проходящего и дифрагированного пучков от исследуемого монокристалла, дополнительно измеряют распределение интенсивности диффузно рассеянного излучения вблизи прошедшего пучка и по сумме измеренных интенсивностей определяют характеристики микро- дефектов.
Составитель Т.Владимирова Редактор Г.Наджарян Техред М.Дидык ;.;г.-; Корректор А.Тяско
Заказ 3385Тираж 847 . Подписное
ВНИИПИ Государственяого комитета СССР
по делам изобретений и открытий ПЗОЗЗ, Москва, Ж-Э5, Раушская наб., д. 4/5
Производственно-полиграфическое предприятие, г.Ужгород, ул.Проектная, 4
9U9.1
Pui 2
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ исследования структурного совершенства поверхностного слоя монокристалла | 1980 |
|
SU894500A1 |
Способ определения структурных характеристик тонких приповерхностных слоев монокристаллов | 1983 |
|
SU1103126A1 |
Способ определения параметров поверхностного слоя реального монокристалла | 1984 |
|
SU1303913A1 |
Способ контроля поверхностного слоя полупроводникового монокристалла и трехкристалльный рентгеновский спектрометр для осуществления способа | 1980 |
|
SU894501A2 |
Высокотемпературный рентгеновский дифрактометр | 1983 |
|
SU1151874A1 |
Способ определения микродефектов в монокристаллах | 1985 |
|
SU1322796A1 |
Способ дифрактометрического анализа распределения дефектов в монокристаллах | 1985 |
|
SU1312460A1 |
Рентгеновский спектрометр | 1980 |
|
SU920480A1 |
Способ исследования структурного совершенства монокристаллов | 1986 |
|
SU1402873A1 |
СПОСОБ ФАЗОВОЙ РЕНТГЕНОГРАФИИ ОБЪЕКТОВ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ (ВАРИАНТЫ) | 1997 |
|
RU2115943C1 |
Изобретение относится к определению реальной структуры монокристаллов и физическо14у материаловедению и может быть использовано для опреде- ления количественных характеристик никродефектов в объеме монокристалла. а именно их концентрации, типа и размеров. Способ реализуется на трех- кпистальнон рентгеновском спектрометре. Исследуемый монокрнсталл облучают пучком рентгеновских лучей, кол- лимирсванньм при отражении от крис- талла-монохроматора. Измеряют распределение интенсивности диффуэно рассеянных волн в проходящем и дифрагированном пучках при вращении исследуемого кристалла и кристалла-анализатора. Кристалл-анализатор выполнен П-образной формы и установлен за исследуемым кристаллов в положении, обеспечивающем одновременное отражение приходящего и дифрагированного пучков от исследуемого кристалла. При таком положении кристалла-анализатора происходит одновременное отражение диффузных волн, содержащихся в прохо- дящем н дифрагированном пучках, ста- навливают два детектора для регистрации интенсивностей двух отраженных от кристалла-анализатора пучков и сумму этих интенснвяостей используют для определения характеристик микродефектов. 2 ил. i (Л иэ N0 S5 м х J
Кривоглаз М.А | |||
Дифракция рентгеновских лучей и нейтронов в неидеаль- нък кристаллах | |||
Киев: Наукова думка, 1983 | |||
lida А | |||
Applicatione of X-ray triple cryetal diffractometry to st u- diea on the diffusion-induced defects in silicon crystals | |||
- Phys.Stat.Sol | |||
(a), 1979, V | |||
Видоизменение прибора для получения стереоскопических впечатлений от двух изображений различного масштаба | 1919 |
|
SU54A1 |
701-706. |
Авторы
Даты
1988-05-23—Публикация
1985-07-29—Подача