Способ гравитационного дозирования сыпучих материалов Советский патент 1988 года по МПК G01F13/00 

со

О) 00 Од 4 СО

Изобретение относится к дозирова- шш сьшучих материалов и может быть использовано в промышленности строительных материалов, а также в хими- ческой и металлургической промьшшен- ности.

Цель изобретения - повьшение равномерности подачи сыпучих материалов склонных к сводообразованиго и спрее- сойанию.

На чертеже изображено устройство, поясняющее предлагаемый способ дозирования.

Устройство состоит из бункера 1, вибрационного питателя, подающая поверхность которого выполнена в виде лотка 2 и снабжена вибратором 3, взвешивающего устройства 4 с автоматическим регулятором производитель- кости (не показан) и заслонки 5 на поперечной оси 6 с устройством, сообщающим ей регулирующее перемещение и вибрационные колебания (не показано). Материал поступающий из буккера 1, располагается на лотке 2 под углом естественного откоса. Регулирование интенсивности подачи производится путем перемещения заслонки 5 ориентированной плоскостью вдоль подающей поверхности вибрационного питателя.

Расположение заслонки 5 предпага емьм способом обеспечивает постоянство соотношения площадей выпускного отверстия бункера 1 и поперечного сечения потока материала на лотке 2 в зоне выхода материала из-под бункера 1, снижая тем самым возможность сводообразования и спрессова- кия материала, а вибрационные колебания заслонки 5 активизируют поток материала, увеличивая равномерность его подачи.

Способ осуществляется следующим способом.

Поток сыпучего материала, поступающий из бункера 1, располагается на лотке 2 вибрационного питателя под углом естественного откоса, за счет гармонических колебаний, воз- буждаемьге вибратором 3, перемещается по лотку, уменьшая этот угол и вызывая тем самым новые поступления материала из бункера 1.

Регулирунхцими перемещениями пО заданной траектории заслонки 5 ориентированной плоскостью вдоль подающей поверхности лотка 2 вибрационного питателя изменяют производительность питателя за счет смещения границы естественного откоса материала по отношению к выходной кромке лотка 2 , а вибрационными колебаниями заслонки 5, например относительно ее поперечной оси 6 ( стрелки А и Б или вдоль подающей поверхности лотка 2 вибрационного питателя (стрелки В и Г) активизируют поток дозируемого материала, увеличивая равномерности его подачи.

Формула изобретения

Способ гравитационного дозирования сыпучих материалов, в котором материалы подают под углом меньше угла их естественного откоса вибрационным питателем с регулированием интенсивности подачи путем перемещения заслонки, отличающий- с я тем, что, с целью повьшения равномерности подачи сыпучих материалов склонных к сводообразованию и спрес- сованию, заслонку ориентируют плоскостью вдоль подающей поверхности вибрационного питателя и сообщают ей вибрационные колебания. .

Изобретение относится к измерительной технике и позволяет повысить равномерность подачи сыпучих материалов, склонных к сводообразованию и спрессованию. Поступающий из бункера 1 сьтучий материал располагается на лотке 2 вибрационного питателя под углом естественного откоса и перемещается по лотку за счет гармонических колебаний, возбуждаемых вибратором 3. Колебания заслонки 5 активизируют поток дозируемого материала, увеличивая равномерность его подачи. Регулирование интенсивности подачи материала осуществляется перемещением заслонки 5. Ориентирование заслонки 5 плоскостью вдоль подающей поверхности вибрационного питателя обеспечивает постоянство соотношения площадей выпускного отверстия бункера 1 и поперечного сечения потока материала на лотке 2 в зоне его выхода из- под бункера 1. 1 ил. о (Л