Электродуговой плазматрон Советский патент 1993 года по МПК H05B7/22 

ОаЗ}

MV

)1 ,

i

US

Изобретение относится к электротехнике, в частности к конструкциям электродуго- вык плазмотронов, и может быть использовано в металлургической, химической и машиностроительной промышленности. . -

Целью изобретения является повышение надежности,

На чертехче представлена схема предлагаемого плазматрона.

Электродуговой плазматрои состоит из анода 1, межэлектродной вставки 2, катодного узла, включающего корпус 3, в котором располохшна обойма 4 с электродными вставками 5. Обойма закреплена на катодо- держател.е 6, установленном на двухкоорди- натной платформе 7 с .приводами поступательного перемещения 8. КатодО держатель с обоймой герметизирован на катодном узле при помощи гибкой стенки 9, выпoл eннoй в виде сильфона и герметично соединенной с диафрагмой 10 и верхней частью катододержателя 6. В корпусе 3 расположен узел 11 ввода газа. Обойма 4 выполнена сменной и уплотняется на катододержателе 6 при помощи уплотниуе

.ля 12. . , :

Плазматрон работает следующим образом.: .

Обойма 4 устанавливается на катододержателе 6 и герметизируется уплотнителем 12. Приводами 8 (привод координаты, перпендикулярной плоскости чертежа, не показан) при по.мощи двухкоординатной платформы 7 одна из электродных вставок 5 выставляется на рабочую позицию соосно санодом 1. При пере мещении платформы 7 и обоймы 4: относительно, корпуса 3 катодного узла его герметичность сохраняется за счет упругой деформации гибкой разделительной стенки 9. Между анодом м катодрм зажигается электрическая дуга. Фиксация катодного пятна на электродной вставке

осуществляется при помощи узла 11 ввода газа. При выработке ресурса одной электродной 1зставки включается один из механизмов поступательного перемещения

платформы 7, и обойма 4 перемещается на шаг, равный расстоянию между электродными вставками. Процесс перемещения электродных вставок происходит без перерыва в работе плазматрона. После выработки электродных вставок одного ряда обоймы (на чертеже четыре электродных вставки) приводом координаты, перпендикулярной плоскости чертежа включаются в работу вставки параллельно ряда.

В результате исключения из конструкции подвижных уплотнений, повышается наде;«ность плазматрона. Следствием этого являются отсутствие утечек защитного газа, повышение взрывобезопасности плазматрона и экономия дорогостоящих газов.

В связи С отсутствием необходимости регулировки подвижных уплотнений и периодического их обслуживания .упрощается

эксплуатация гглазматрона. Каждая такая регулировка связана с остановкой плазматрона с соответствующими экономическими .потерями.

Существенным фактором повышения

надежности является наличие двух степё- ней подвижности обоймы с автономными приводами на каждой. Отказодного из приводов с меньшей вероятностью приводит к остановке плазматрона, так как плазматрон

некоторое время будет продолжать работать в пределах одного ряда электродных вставок, что может составлять до 25% общего ресурса обоймы..

(56) Фарнасов Г.А. Плазменная плавка. - М.: 1968, с. 92.

Авторское свидетельство СССР N2 1066442. кл. И 05 В 7/22, 1981;

Изобретение относится к электротехнике. Цель изобретения ,- повышение надежноаи. Обойма 4 в форме пластины с электродными вставками устанавливается перпендикул1р- 0 оси анода 1 на катододержателе (К) 6. К б соединен с двухко- ординатной платформой 7, которая с помощью внешних приводов 8 перемещает обойму 4 в двух направлениях. Это позволяет поочередно устанавливать электродные вставки в рабочее положение при их незначительном максимальном удалении от oci/i плазмотрона. К 6 окружен гибкой стенкой 9 (сильфоном), герметизирующей катодный узеа 1 иа