Изобретение относится к оптоэлектронике и может быть использовано в волоконно-оптических линиях связи (ВОЛС), а также в системах оптической обработки информации.
Целью изобретения является уменьшение управляющей мощности, управление диаграммой направленности и повышение граничной частоты модуляции.
На чертеже представлена конструкция лазера с периодической структурой. Лазер содержит подложку 1 из р+-СаАs, двойную гетероструктуру (ДГС), включающую слои 2 из р-Gа1-x Al2As, 3 из р-GаАs и 4 из n-Gа1-у,• АlуАs, первый дополнительный полупроводниковый слой 5 из n-GаАs толщиной 0,3 мкм с концентрацией примесей 1,5•1017 см-3, монокристаллический изолирующий слой 6 из Gа1-2Al2As: O толщиной 0,2 мкм, второй дополнительный полупроводниковый слой 7 из n GаАs толщиной 0,15 мкм с концентрацией легирующей примеси 1,5•10 см-3, электроды в виде барьеров Шоттки 8, выполненные в канавках 9 глубиной 0,3 мкм, расположенных на расстояниях, обеспечивающих фазовую синхронизацию излучения (d ≅ 610 мкм), и омические контакты 10.
Работа лазера осуществляется следующим образом. На подложку 1 и области омических контактов 10 подается инжектирующее напряжение (плюс на подложку), а управление током, протекающим через активные области, осуществляется посредством модуляции проводимости каналов транзисторных областей путем подачи на электроды 8 управляющих напряжений, фазовые соотношения между которыми формируют диаграмму направленности решетки. Субмикронная длина каналов и полевое управление обеспечивают быстродействие в непичковом режиме порядка пяти гигагерц.
Предлагаемый мощный лазер обеспечивает рабочую полосу частот порядка 5ГГц и позволяет выполнить излучатель и схемы обрамления в одном кристалле. Возможность управления диаграммой направленности позволяет при решении ряда задач, связанных с оптической обработкой информации, обойтись без дефлекторов излучения.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ЛАЗЕР С ПОЛЕВЫМ УПРАВЛЕНИЕМ | 1986 |
|
SU1391424A1 |
ЛАЗЕР С ПОЛЕВЫМ УПРАВЛЕНИЕМ | 1986 |
|
SU1393291A1 |
ОПТОЭЛЕКТРОННЫЙ ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ | 1985 |
|
SU1284439A1 |
ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ (ЕГО ВАРИАНТЫ) | 1984 |
|
SU1153769A1 |
ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ | 1984 |
|
SU1153768A1 |
ДВУХСЕКЦИОННЫЙ ЛАЗЕР | 2008 |
|
RU2383093C1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ЛАЗЕР | 1989 |
|
RU2007804C1 |
Способ получения многослойной гетероэпитаксиальной p-i-n структуры в системе AlGaAs методом жидкофазной эпитаксии | 2017 |
|
RU2647209C1 |
СТРУКТУРА ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ СУБТЕРАГЕРЦОВОГО И ТЕРАГЕРЦОВОГО ЧАСТОТНОГО ДИАПАЗОНА | 2012 |
|
RU2503091C1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ПРИБОР | 1997 |
|
RU2186447C2 |
Изобретение относится к оптоэлектронике и может использоваться в системах оптической обработки информации и в ВОЛС. Цель изобретения - уменьшение управляющей мощности, управление диаграммой направленности и повышение граничной частоты модуляции. Лазер содержит подложку, например p+-GaAs, слой p - Ga1-хAlхAs, слой p-GaAs, слой n - Ga1-уAl4As, первый дополнительный полупроводниковый слой пGaAs толщиной 0,3 мкм с концентрацией примеcи 1,5•1017 см -3, монокристаллический изолирующий слой Ga1-zAlzAs : O (2 ≈ 0,25 толщиной 0,2 мкм, второй дополнительный полупроводниковый слой пGaAs толщиной 0,15 мкм с концентрацией легирующей примеси 1,5•1017см-3, полевые электроды, выполненные в канавках с наклонными стенками глубиной 0,3 мкм, расположенными на расстояниях, обеспечивающих фазовую синхронизацию излучения (≲ = 10 мкм), и истоки. Лазер обеспечивает рабочую полосу частот порядка 5 ГГц и позволяет выполнить излучатель и схемы обрамления в одном кристалле. 1 ил.
Лазер с периодической структурой, включающий полупроводниковую подложку с расположенной на ней двойной гетероструктурой (ДГС) и омические контакты, отличающийся тем, что, с целью уменьшения управляющей мощности, управления диаграммой направленности и повышения граничной частоты модуляции, на верхнем слое ДГС расположен первый дополнительный слой того же типа проводимости, что и у прилегающего к нему слоя ДГС, на первом дополнительном слое расположен монокристаллический изолирующий слой Ga1-zAlzAs:O, в котором выполнены параллельные канавки с наклонными стенками, глубина канавок больше толщины изолирующего, но меньше суммы толщин изолирующего и первого дополнительного слоев, расстояние между канавками меньше 10 мкм, поверх изолирующего слоя и канавок расположен второй дополнительный слой того же типа проводимости, что и первый, в канавках расположены электроды в виде барьеров Шоттки, а омические контакты выполнены к второму дополнительному полупроводниковому слою.
Fikuzawa T | |||
and oth | |||
Monolitic integration of GaAlAs injection laser with a Schottkygate field effeet transistor | |||
Appl | |||
Phys | |||
Lett | |||
Способ получения фтористых солей | 1914 |
|
SU1980A1 |
Гош Д | |||
Лазер с периодической структурой | |||
- Электроника, 1985, т.58, N 15, с.26-28. |
Авторы
Даты
1996-07-20—Публикация
1986-04-03—Подача