Изобретение относится к приборостроению, электронике и радиоэлектронике и может быть использовано в технологических процессах локального травления для создания рельефа с контролируемым профилем на поверхности пластин из монокристаллических ферритов.
Целью изобретения является обеспечение анизотропности травления.
На фиг. 1-3 представлены геометрия и профили канавок, получаемых при травлении плоскости 100; на фиг. 4-6 представлены геометрия и профили канавок, получаемых при травлении плоскости 110.
П р и м е р 1. Берут полированные пластины 1 из монокристаллического марганец-цинкового феррита марки 500 мк (ПЯО.707.542.ТУ) с ориентацией поверхности травления в плоскости (100) (см. фиг. 1). Травление проводят в течение 1 ч через защитную маску 2 из двуокиси кремния толщиной ≈ 1 мкм, в которой предварительно формуют круглые отверстия 3 диаметром 100 мкм (для упрощения на фиг. 1 показано только одно отверстие).
Состав травителя выбирают следующий, вес.ч. Ортофосфорная кислота 60 Азотная кислота 50 Уксусная кислота 35 Вода дистиллированная 100
Температуру травителя изменяли от 30 до 116оС (116оС температура кипения).
При травлении в диапазоне температур от 30 до 100оС в пластине под круглым отверстием получают углубления, имеющие в плоскости травления форму квадрата 4, стороны квадрата перпендикулярны направлениям медленного травления, которыми являются кристаллографические оси <110>. Что касается рельефа травления, то при температуре 65-100оС образуются углубления, стенки которых представляют плоскости (111), расположенные под углом 54о44' к плоскости травления (100) (см. фиг. 2).
При температуре травителя 30-65оС скорость травления плоскости (100) больше, чем плоскости (100), вследствие чего углубления ограняются плоскостями (100). Получен прямоугольный рельеф (см. фиг. 3).
П р и м е р 2. Процесс травления в том же составе травителя, что в примере 1, проводят на пластинах из того же материала, но с ориентацией поверхности (110) (см. фиг. 4).
При травлении в диапазоне температур от 65 до 100оС в пластине под круглым отверстием получают углубления, имеющие в плоскости травления форму шестиугольника 5, стороны которого перпендикулярны направлениям медленного травления; этими направлениями в данном случае являются кристаллографические оси <100> и (111) (см. фиг. 5). Стенки углублений представляют собой плоскости (111), расположенные под углом 35о16' к плоскости травления (110).
При температуре травителя 30-65оС скорость травления плоскости (110) больше, чем плоскости (111), поэтому углубление ограняется плоскостью (111). Получен прямоугольный рельеф (см. фиг. 6).
П р и м е р 3. Травление проводят, как в примере 1, но отверстия в маске выполняют в виде параллельных полос. При этом кристаллографическую ориентацию поверхности травления и направления полос варьируют. Геометрические характеристики боковых стенок образующихся фигур травления, канавок, приведены в табл. 1.
П р и м е р 4. Травление пластин ориентации (100), (110) и (111) проводят, как в примере 1, но содержание компонентов в травителе варьируют. Характеристики полученных фигур травления приведены в табл. 2.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ЛОКАЛЬНОГО ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ФЕРРИТОВЫХ ПЛАСТИН С ЗАЩИТНОЙ МАСКОЙ | 1983 |
|
SU1159442A1 |
Способ измерения глубины слоев монокристаллического полупроводника | 1974 |
|
SU522462A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСКИ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ СЛОЕВ В МИКРОСТРУКТУРАХ | 2001 |
|
RU2209488C2 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОМЕХАНИЧЕСКИХ УПРУГИХ ЭЛЕМЕНТОВ | 2015 |
|
RU2601219C1 |
Способ изготовления маски для напыления пленочных структур | 1990 |
|
SU1821494A1 |
КАНТИЛЕВЕР С ВИСКЕРНЫМ ЗОНДОМ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 1999 |
|
RU2275591C2 |
Способ формирования плат микроструктурных устройств со сквозными металлизированными отверстиями на монокристаллических кремниевых подложках | 2018 |
|
RU2676240C1 |
Способ изготовления микроигл и массива микроигл | 2017 |
|
RU2677491C1 |
ЗАЩИТНАЯ МАСКА | 1979 |
|
SU795326A1 |
СПОСОБ ЗАЩИТЫ УГЛОВ ТРЕХМЕРНЫХ МИКРОМЕХАНИЧЕСКИХ СТРУКТУР НА КРЕМНИЕВОЙ ПЛАСТИНЕ ПРИ ГЛУБИННОМ АНИЗОТРОПНОМ ТРАВЛЕНИИ | 2014 |
|
RU2568977C1 |
Изобретение относится к приборостроению, электронике и радиоэлектронике, может быть использовано в технологических процессах локального травления и позволяет обеспечить анизотропность травления. Монокристаллические пластины марганец-цинкового феррита, покрытые маской из фоторезиста, помещают в травитель, содержащий, мас. ч: ортофосфорная кислота с уд.в.1,72 1,72 г/см3 55 70; азотная кислота в уд.в.1,51 1,51 г/см3 45 50; уксусная кислота с уд.в. 1,05 1,05 г/см3 35 50; дистиллированная вода 100 140, нагретый до температуры 30 100°С. Зафиксировано огранение фигур травления кристаллографическими плоскостями, угол наклона к поверхности травления которых изменяется в пределах 10 90° при изменении температуры, а также кристаллографической ориентации плоскости травления и направления краев отверстий в маске. 6 ил. 2 табл.
СПОСОБ ЛОКАЛЬНОГО ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛАСТИН МАРГАНЕЦ-ЦИНКОВЫХ ФЕРРИТОВ, включающий нанесение защитной маски на пластины, нагрев травителя, содержащего ортофосфорную кислоту, и выдержку в нем, отличающийся тем, что, с целью обеспечения анизотропности травления, нагрев осуществляют до температуры 30 100oС, выдержку проводят в травителе, дополнительно содержащем азотную и уксусную кислоты при следующем соотношении компонентов, мас.ч.
Ортофосфорная кислота (уд.в. 1,72 г/см3) 55 70
Азотная кислота (уд.в. 1,51 г/см3) 45 50
Уксусная кислота (уд.в. 1,05 г/см3) 35 50
Дистиллированная вода 100 140
СПОСОБ ЛОКАЛЬНОГО ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ФЕРРИТОВЫХ ПЛАСТИН С ЗАЩИТНОЙ МАСКОЙ | 1983 |
|
SU1159442A1 |
Походная разборная печь для варки пищи и печения хлеба | 1920 |
|
SU11A1 |
Авторы
Даты
1995-12-20—Публикация
1985-12-13—Подача