Фиг.1
Изобретение относится к пайке, а именно к технологическому оборудованию для лужения изделий радиоэлектронной аппаратуры и может быть использовано в радиотехнической, электротехнической и других отраслях промышленности.
Целью изобретения является расширение функциональных возможностей устройства и повышение его производительности за счет обеспечения возможности одновременного лужения всех планарных выводов радиоэлемента.
На фиг. 1 изображено устройство для лужения с ваннами, находящимися в рабочем положении облуживания выводов, разрез; на фиг. 2 - то же, с ваннами в крайнем нижнем положении; на фиг. 3 - разрез А-А на фиг. 2.
Устройство для лужения содержит резервуар 1 с расплавленным припоем 2. Две или более малые подвижные ванны 3 располагаются внутри резервуара и имеют возможность перемеш,ения из крайнего нижнего положения вертикально вверх и горизонтально в сторону обрабатываемых выводов радиоэлементов 4, находящихся, в захвате 5 (как указано стрелками на фиг. 2),
При дальнейшем подъеме Г-образная планка 7 касается поверхности припоя. Пленка нагара зависает на выступающей части и растягивается на наружной боковой поверхности планки 7 до разрыва. Наличие рифлений способствует увеличению площади растягивающего участка. Таким образом плоскость щели появляется над уровнем припоя, когда пленка окислов и нагара либо разорвана, либо сильно растянута, что сни- 10 жает удельную концентрацию примесей в рабочей зоне щели. Выступы 12 на внутренней поверхности планки 7 позволяют за счет повышенной контактной поверхности создать одинаковые условия для удержания мениска припоя по всей длине щели 9, стабильного заполнения полости щели 9 и уменьшения опасности стекания припоя, находящегося в щели 9, к одному краю из-за перекоса.
После подъема подвижных ванн 3 на нуж- 20 ную высоту происходит горизонтальное перемещение и полость щели 9 вводится на выводы радиоэлемента 4.
Обратно ванны 3 возвращаются как указано стрелками на фиг. 1. Нагар от флюса и шлаки при опускании подвижных ванн 3
15
и после лужения обратно в сторону от вы- ниже уровня припоя 2 остаются на поверхводов радиоэлементов 4 и вниз (как указано стрелками на фиг. 1). Подвижная ванна 3 собрана из корпуса 6, Г-образной планки 7 и крыщки 8. Планка 7 установлена с зазором относительно горизонтальной стенки корпуса 6, образуют полость щели 9 такой длины, какая необходима для обработки всех выводов самого большого радиоэлемента. Причем наружная боковая поверхность планки выполнена с рифлением и в сбо30
ности. Облуживание последующих радиоэлементов 4, подаваемых в захватах 5, аналогично.
Формула изобретения
Устройство для лужения, содержащее резервуар с расплавленным припоем и расположенную внутри него с возможностью перемещения малую ванну с наклонной крыш- ре с корпусом 6 установлена так, что на- ., кой, отличающееся тем, что, с целью расши- ружная боковая поверхность 10 планки 7рения функциональных возможностей уствыступает относительно вертикальной стен-ройства и повышения производительности за
ки 11 корпуса 6 на 0,1-0,3 мм. Внутрен-счет обеспечения одновременного лужения
няя боковая поверхность планки 7 имеет ряд всех планарных выводов, оно снабжено по выступов 12. Крышка 8 в плане перекры- крайней мере одной дополнительной малой вает проекцию корпуса 6 с планкой 7, имеет 40 ванной и механизмами горизонтального переПри дальнейшем подъеме Г-образная планка 7 касается поверхности припоя. Пленка нагара зависает на выступающей части и растягивается на наружной боковой поверхности планки 7 до разрыва. Наличие рифлений способствует увеличению площади растягивающего участка. Таким образом плоскость щели появляется над уровнем припоя, когда пленка окислов и нагара либо разорвана, либо сильно растянута, что сни- жает удельную концентрацию примесей в рабочей зоне щели. Выступы 12 на внутренней поверхности планки 7 позволяют за счет повышенной контактной поверхности создать одинаковые условия для удержания мениска припоя по всей длине щели 9, стабильного заполнения полости щели 9 и уменьшения опасности стекания припоя, находящегося в щели 9, к одному краю из-за перекоса.
После подъема подвижных ванн 3 на нуж- ную высоту происходит горизонтальное перемещение и полость щели 9 вводится на выводы радиоэлемента 4.
Обратно ванны 3 возвращаются как указано стрелками на фиг. 1. Нагар от флюса и шлаки при опускании подвижных ванн 3
ниже уровня припоя 2 остаются на поверхниже уровня припоя 2 остаются на поверх
ности. Облуживание последующих радиоэлементов 4, подаваемых в захватах 5, аналогично.
Формула изобретения
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Устройство для лужения | 1982 |
|
SU1016101A1 |
СПОСОБ ЛУЖЕНИЯ ВЫВОДОВ РАДИОЭЛЕМЕНТОВ | 2009 |
|
RU2386521C1 |
Устройство для нанесения покрытия на выводы радиоэлементов | 1982 |
|
SU1121796A1 |
Устройство для лужения выводов радиоэлементов | 1974 |
|
SU534042A1 |
Устройство для лужения | 1984 |
|
SU1212725A1 |
Способ лужения выводов радиоэлементов | 1987 |
|
SU1666277A1 |
Устройство для лужения выводов радиоэлементов | 1990 |
|
SU1787717A1 |
Устройство для лужения радиоэлементов | 1979 |
|
SU841830A1 |
Устройство для обработки выводов радиоэлементов | 1988 |
|
SU1580604A1 |
Способ лужения выводов радиоэлементов | 1988 |
|
SU1555074A1 |
Изобретение относится к пайке, а точнее к технологическому оборудованию для лужения изделий радиоэлектронной аппаратуры, и может быть использовано в радиотехнической, электротехнической и других смежных отраслях промышленности. Целью изобретения является расширение функциональных возможностей устройства и повышение его производительности за счет обеспечения возможности одновременного лужения всех планарных выводов радиоэлемента. Устройство для лужения представляет собой стационарную ванну с размещенными в ней подвижными щелевыми ваннами 3, установленными с возможностью перемещения навстречу друг другу. При этом конструкция малой ванны обеспечивает разрыв окисной пленки и отвод ее от зоны лужения при выходе из стационарной ванны с припоем за счет зависания пленки нагара на Г-образ- ной планке. Наличие рифлений способствует увеличению площади растягивающего участка. Наличие выступов на планке 7 позволяет создать одинаковые условия для удержания припоя по всей длине щели. 3 ил. (Л 1 оо 00 00 to О5
верхнюю поверхность, не смачиваемую припоем, и установлена с наклоном к горизонтальной плоскости.
Устройство для лужения работает следующим образом.
Подвижные ванны 3, поднимаясь из резервуара 1, крыщкой 8 касаются поверхности расплавленного припоя 2. Окислы, попадая на не смачиваемую поверхность крышки 8, скатываются по наклонной поверхности крышки в сторону, противоположную той, где имеется щель. Таким образом, корпус 6 с планкой 7 выходят в окно, очищенное от окислов и частично от нагара флюса.
5
0
мещения малых ванн навстречу одна другой, малые ванны выполнены составными в виде ступенчатых корпусов с жестко связанными с ними Г-образными планками, торцы вертикальных полок которых установлены с зазором относительно донных частей корпусов, боковые наружные поверхности расположены со смещением относительно наружных боковых стенок корпусов и выполнены рифлеными, а внутренние поверхности выполнены с выступами, торцы которых установлены с упором в вертикальные стенки корпусов, крышки закреплены с зазором на корпусах ванн, а их наружная поверхность выполнена из материала, не смачиваемого припоем.
Фиг.2
1
Устройство для лужения и пайки погружением в расплавленный припой | 1977 |
|
SU671041A1 |
Прибор для равномерного смешения зерна и одновременного отбирания нескольких одинаковых по объему проб | 1921 |
|
SU23A1 |
Авторы
Даты
1988-04-15—Публикация
1986-09-15—Подача