Способ копирования фазовых микроизображений Советский патент 1988 года по МПК G03B27/04 

со ел

00

о

Изобретение относится к области фототехники и повьшает производительность и качество при копировании оригиналов, содержащих как растрирован- ные линейчатые растры фазовых микроизображений, так и нера стрированные фазовые микроизображения. Способ заключается в том, что предварительно определяют число вьщеляемых направлений злементов фазового микроизображения на оригинале 1, а количество экспонирований светочувствительного материала 2, размещенного по отношению к оригиналу 1 с зазором 3, лучами 4 направленного регулярного светового потока, формируемого линейчатым источником излучения, равно числу выделяемых направлений злементов фазового микроизображения на оригинале 1. При этом угол расхождения лучей 6 и 7 источника излучения в его поперечной плоскости относительно нормали к плоскости оригинала 1 не более ±10°, и в продольной его плоскости более ±45. При каждом пос- ледукнцем эксдонировании ориентируют плоскость наименьшего расхождения лучей 6 и 7 ортогонально выделенному направлению фазовых микроизображений. Если размер копируемого изображения на оригинале 1 превьшает размер зоны экспонирования, то указанную зону равномерно перемещают в направлении, параллельном направлению плоскости наименьшего расхождения лучей. 1 з.п. ф-лы. 5 ил.: с (Л

и /Фиг. 1

Изобретение относится к фототехнике, конкретно к микрофильмированию.

Целью изобретения является повышение производительности и качества.

На фиг, 1 схематически изображено сечение системы копирования,. реализующей указанный способ;на фиг, 2 - фрагмент зоны экспонирования оригинала; на фиг, 3 - ход луч-ей от источника в зоне копированияJ на фиг,4 - преобразование интенсивности модулированного фазовой записью светового потока в оптическую плотность на регистрирующем материале; на фиг, 5 - зависимость оптической плотности элементов изображения на копии от углового расхождения светового потока вдоль ленточного источника света.

При копировании оригинал с фазовым изображением 1 и светочувствительный материал 2 копии располагают с зазором 3 один относительно другого. Стрелками 4 показаны направления освещающего потока на различных участках оригинала 1 в плоскости наименьшего расхождения лучей X, совпадающей с поперечной плоскостью ленточного источника 5 излучения. Допустимое расхождение пучков в этой плоскости ограничено направлениями 6 и 7, Плоскость максимального, расхождения лучей Y, освещающего направленного светового потока совпадает с продольной плоскостью используемого ленточного (трубчатого) источника 5 излучения,

Оригинал 1 содержит линии микроизображений, например 8-11, различного направления ( (фиг, 2), причем при копировании вьщеляются линии с мксимальным контрастом, например 8, Зона 12 копирования задается щелевой диафрагмой, распологаемой параллельно оси используемой трубчатой лампы 5,

Копирование осуществляют неизотропным световым потоком при многократном экспонировании с изменением ориентации плоскости наименьшего расхождения лучей X светового потока относительно направления,элементов фазового изображения, при этом неизотропный световой поток формируется трубчатой лампой 5 без использования конденсорной системы.

При копировании ограничивают расхождение световых лучей в поперечной

5

0

5

0

5

0

5

0

5

плоскости источника 5 по всему полю копируемой фазовой записи до 10°, и за один этап экспонирования при этом на копии регистрируются все фазовые элементы, направленные ортогонально плоскости наименьшего расхождения лучей X, При повороте на каждом последующем этапе экспонирования указанной плоскости относительно направления фазовых элементов 8-11 можно зарегистрировать и другие нап-равления. Чем меньше расхождение лучей, тем больше направлений можно вьщелить дискретно. Если расхождение достигает предельного значения (10), то число экспонирований практически не должно превьш1ать трех дискретных поворотов указанной плоскости на 60, В том случае, когда размер копируе- мого изображения превьшает размер

.зоны 12 экспонирования, где угол па-.

. дения лучей не превьштает 10°, то зону 12 экспонирования необходимо перемещать равномерно в направлении, параллельном направлению плоскости наименьшего расхождения лучей освещающего светового потока X,

При копировании растрированного линейчатым растром фазового изображения фазовую запись ориентируют ортогонально плоскости наименьшего расхождения лучей, т,е, при копировании выделяемое направление фазовых элементов совпадает с направлением элементов растра. Если копируют не- растрированное фазовое изображение, то для устранения искажений полностью подавляют модуляцию света фазовыми элементами, направленными ортогонально к выделяемым. Это достигается тем, что расхо кдение световых лучей в плоскости, ортогональной попереч™ ной плоскости трубчатого источника 5,, ограничивают снизу, т,е, в неизотропном световом потоке в плоскости, совпадающей по направлению с направлением вьщеляемых при копировании элементов фазовой записи, не допускают снижения угдового расхождения лучей ниже 45, При таком расхождении лучей фазовая запись практически не создает ощутимой модуляции интенсивности5 поскольку контраст линий, не совпадающих с выбранным направлением, снижается относительно фона до уровня пороговой чувствительности регистрирующего материала, тем самым не возникают искажения.

вносимые в амплитудное изображение потоком с расхождением лучей более 10, Выделяемое направление в раст- рированном изображении совмещают с направлением линейчатого растра, который впечатан в фазовое изображение при записи самого фазового изображения. В этом случае с максимальным контрастом передаются элементы фазового растра, являющегося пространственной несущей изображения, которое и фиксируется на светочувствительном материале копии с максимальным контрастом.

Копирование нерастрированных фазовых изображений без искажений, связанных с вьщелением линий, перпенди- кулярных плоскости наименьшего расхождения лучей, проводят в несколько экспонирований, при каждом из которых изменяют вьщеляемое направление При двухкратном экспонировании при проведении второго экспонирования наравление плоскости минимального рас- хождения менают на , при трехкратном - последовательно на 60.

Проведение экспонирования более чем в три этапа (экспозиции) нецеласообразно, так как падение контраста при незначительном отклонении направлений фазовых элементов от оптимального (до ЗО) компенсирует- ся нелинейностью передачи изображе- ния на высококонтрастных материалах Запись синтезированного изображения требует определенных соотношений общей экспозиции, полученной светочувствительным материалом, с пороговой экспозицией, приводящей к ощутимому фотографическому эффекту.

Необходимо, чтобы суммарная экспозиция фона Нф при многократном экспонировании с изменением относи- тельного положения копируемого оригинала относительно источника 5 излучения не превосходила Н.-экспози- цию, соответствующую допустимому изменению плотности фона относительно плотности неэкспонированного материала (обычно не более 0,2 Б).

Во всех случаях копирования мик- роизображений происходит преобразование интенсивности модулированного фазовой записью светового потока - кривая А (фиг. 4) в распределение оптической плотности на регистр1фу- нщем материале (например, везикулярная пленка) на участке скопирован-

0

5

0

5

0

5

0

5

0

5

ного фазового растра - крняая В путем наложения на кривую А характеристической кривой регистрирующего материала - кривая С.

При этом минимальная 13 и максимальная 14 оптические плотности D, линий растра, ориентированного ортогонально оси лампы 5 зависят от углового размера af,, тела свечения при постоянном угловом размере лампы, принимаемом порядка 7 при постоянной плотности фона - кривая 15 (фиг. 5). Пунктирные линии 16 и 17 отражают максимальную и минимальную оптические плотности линий растра, ориентированного вдоль оси лампы 5, и показывают на полное снижение контраста в диапазоне углов расхождения 10 и 40 , в связи с чем для выделения какого-либо направления необходимо ограничить расхождение пучков в поперечной плоскости лампы 5 до 10°, а для полного устранения контраста на копии расхождение пучков в продольной плоскости лампы 5 должно превышать 45 .

Формула изобретений

вании оригинал и светочувствительный материал равномерно перемещают относительно зоны копирования в направлении, параллельном поперечной плоскости источника излучения.

./

Фиг, 2

Фиг.З

Редактор Т.Лазорёнко

ТО 20 JO kQ ч-у

Фие. 5

Составитель С.Шигалович .Техред М.Дидык Корректор Н.Король