Способ обработки электронно-лучевой трубки Советский патент 1988 года по МПК H01J29/88 H01J9/20 

,

Изобретение относится к электровакуумной тезшике и может использоваться в технологии производства электронно-лучевых трубок (ЭЛТ).

Цель изобретения уменьшение количества темных точек, окруженных ореолом на люминесцентном экране, з счет придания электрической проводимости заряженным диэлектрическим частицам, припипшим к маске ЭЛТ, чт достигается нанесением на них пленк металлического бария при повторном распылении газопоглотителя.

Способ осуществляют следующим образом.

При изготовлении ЭЛТ осуществляю операции сборки, откачки и герметизации. Размещенный внутри колбы ЭЛТ держатель газопоглотителя нагревают с помощью индукционной катушки. На- : ходящайся в- держателе смесь никеля и бариево-апюминиевого сплава после нагревания реагирует экзотермически испаряет металлический барий и остаток, из алюминиево-никелевого сплава и металлического бария остается в держателе. Пары бария осаждаются в виде газопоглощающего слоя металлического бария в основном на внутренней поверхности маски ЭЛТ, а так на части покрытия конуса ЭЛТ. Общее количество используемого металлического бария, заключенного в держателе, обычно-составляет 265 мг. экзотермическая реакция выделяет в среднем примерно 80 мг бария, Дпя того, чтобы обеспечить количество бария, достаточное для газопоглощения, необходимо, чтобы во время распьтения выделялось.примерно 50-70% имеющихся 265 мг бария. Общее количество вьщеляемого брия регулируется изменением времени индукционного нагрева после начала экзотермической реакции.

Во время последующих операций обработки и испьТтаний ЭЛТ, включающих высоковольтньй прожиг разрядног промежутка, начальную стадию активи ровки, прокалку катода при повы- щенном напряжении накала, первую низковольтную тренировку, первоначальные испытания, проверку на взры вобезопасность,-контроль наружного покрытия, контроль прочности щва склейки оболочки ЭЛТ, высокочастотный высоковольтньй прожиг, окончательную низковольтную тренировку и

o

5

0

5

0

5

0

5

0

5

заключительные испытания, ЭЛТ переворачивается и подвергается воздействию высоких напряжений, В это время механически или под действием электрических сил различные частицы могут перемещаться к маске ЭЛТ. Попавшие на маску электропроводные частицы могут быть удалены механической вибрацией, нагревом маски переменным магнитнйтм полем и механическим перемещением под действием управляемого внешнего магнита. Однако указанные методы являются малоэф-( фективными в смещении диэлектрических частиц, например стеклянных. Стеклянные частицы могут крепко прилипнуть к маске или благодаря взаимодействию электростатических зарядов, или за счет адгезии между диэлектрическими частицами и маской, обусловленной взаимной диффузией атомов у границы раздела между стеклом и металлом под действием приложенного электрического поля. Поскольку результирующая сила адгезии стекла с металлом может увеличиваться при поверхностной обработке компонентов, пленка металлического бария, покрывающая маску после первичного распьше- ния газопоглотителя, способствует прилипанию стеклянных частиц за счет создания гладкой, чистой проводящей металлической поверхности.

Диэлектрические частииы, прилипающие к маске ЭЛТ, становятся отрицательно заряженными под действием электронных лучей и отклонЖот эти лучи от соответствующих апертурных отверстий маски, вызьгоая появление блокированных апертурных отверстий маски и, как следствие, появление черных пятен, окруженных ореолом (блокированные ореолом апертурные отверстия) на экране ЭЛТ,

Эксперименты показали, что ЭЛТ, в которые были исскуственно введены стеклянные частицы, демонстрировали сотни блокированных ореолом апертзф- нык отверстий,

В связи с невозможностью удаления стеклянных и других диэлектрических частиц из ЭЛТ без нарушения вакуумной монолитности оболочки способ включает дополнительную операцию обработки, направленную на создание на диэлектрических частицах, прилипших к теневой маске, электропроводного покрытия, позволяющего исключить

отклонение электронных лучей отрицательно заряженньгми частицами.

Количество блокированных ореолом апертурных отверстий уменьшается за счет повторного распьшения газопоглотителя в последней стадии обра- зования частиц в производственном ,Процессе, Поскольку в держателе газопоглотителя содержится металлический барий, оставшийся после первоначального экзотермического распыления, барий может эндотермически освобождаться из держателя и осаждаться в качестве вторичной ппенки-газопоглотителя на внутренней поверхности маски и на части покрытия конуса ЭЛТ, а также на заряженных частицах, прилипших к маске. Это осуществляется за счет индуктивного нагрева держателя газопоглотителя в течение времени, достаточного для испарения оставшегося металлического бария. Это небольшое количество металлического бария является достаточным для того, чтобы сделать электропроводны- ми диэлектрические частицы, прилипшие к маске ЭЛТ, После первоначального управляемого распьиения газопоглотителя в держателе остается 25- 50% металлического бария .для повторного распьшения.

Стадию повторного распьшения осуществляют непосредственно после высокочастотного высоковольтного прожига и перед окончательной низковольтной тренировкой. При этом держатель газопоглотителя индуктивно нагревают в течение 30-60 с, В течение этого времени Металлический барий осаждается в качестве вторичной пленки газопоглотителя на первичной пленке, ранее нанесенной на внутреннюю поверхность маски и на часть покрытия конуса ЭЛТ Вторичная пленка газопоглотителя осаждается также на любые диэлектрические частицы, прилипшие к первичной пленке газопоглотителя, обеспечивая электропроводность этих частиц Вторичная пленка газопоглотителя может содержать до 60 мг бария, 06

шли выход бария при повторном распылении газопоглотителя может меняться от ЭЛТ к ЭЛТ и зависит от того, как осуществлено соединение между индукционной катушкой и держателем газопоглотителя, от количества оставшегося бария в держателе газопоглотителя, доступного для повторного распыления газопоглотителя, и от времени нагрева при повторном распылении га- ;зопоглотителя,

Прёдлагаемьй способ может применяться к ЭЛТ, имеющей- теневую маску с апертурными отверстиями, и другим ЭЛТ, имеюшлм различные типы масок с отверстиями,

Формула изобретения

Способ обработки электронно-лучевой трубки с герметичной вакууми- рованной оболочкой, маской с апертурными отверстиями, расположенной вблизи люминесцентного экрана, средствами для создания по крайней мере одного электронного луча для облучения люминесцентного экрана и средствами

для нанесения пленки газопоглотителя на внутреннкло поверхность маски, включающий индуктивный нагрев газопоглотителя, напьшение пленки газопоглотителя на внутреннюю поверхность маски,

испытание прочности склейки оболочки, высокочастотный высоковольтный прожиг и окончательную низковольтную тренировку, отли-чающийся тем, что, с целью уменьшения количества темных точек, окруженных ореолом на люминесцентном экране, за счет придания электрической проводимости заряженным диэлектрическим частицам, прилиппшм к маске, первоначально

напыляют пленку газопоглотителя, содержащую 50-75% материала гаэопоглог тителя, а после высокочастотного высоковольтного прожига и перед окончательной низковольтной тренировкой

осуществляют распыление оставшегося материала газопоглотителя.

Изобретение относится к электро- закуумной технике и может быть использовано в технологии производства электронно-лучевых трубок (ЭЛТ). Цель изобретения - уменьшение количества темных точек, окруженных ореолом на люминесцентном экране, - достигается за счет придания электрической проводимости заряженным диэлектрическим частицам, прилипшим к маске ЭЛТ, путем нанесения на них пленки металлического бария при повторном распьтении газопоглотителя, Согласно способу после сборки, откачки и герметизации размещенный внутри колбы ЭЛТ держатель газопоглотителя нагревают с помои ью индукционной ка- тутки. Смесь никеля и бариево-алюминиевого сплава, находящаяся в держателе, после нагревания реагирует экзотермически, испаряет.металлический барий и остаток этого сплава и металлического бария остается в держателе, Описан1л ш способ-может применяться для обработки ЗЛТ, имеюп. маску с апертурными отверстиями, и других ЭЛТ, имеющих различные типы масок с отверстиями. «3 С