Распределитель жидкости Советский патент 1992 года по МПК F28F25/02 B01D3/00 

Изобретение относится к устройствам для распределения жидкости и может быть использовано в испарителях, контактных тепломассообменных аппаратах.

Цель изобретения - обеспечение устойчивой пленки стекающей жидкости в условиях ее переменных расходов.

На фиг о 1 показан распределитель жидкости, общий вид5 на фиг. 2 - разрез А -А на фиг. 1 о

Распределитель содержит горизонтальный коллектор 1 с установленным в верхней срединной его части под водя щим штуцером 2. В верхней части коллектора 1 вдоль образующей выполнены выпускные отверстия 3. Над коллекторо i1 установлен прикрепленный к подводя- щему. штуцеру 2 отражатель 4, на торцах которого размещены пластины 5, контактирующие с коллектором 1„ В нижней части коллектора 1 закреплена продольная пластина 6, служащая для разделения пленки жидкости, стекающей по коллектору 1 На наружной поверхности коллектора 1 выполнены продольные равнорасположенные по окружности выступы в виде гофр 7. Высота гофр 7 выполняется из условия обеспечения ими удерживающей капиллярной способности, т.е. высота не превышает величину капиллярной постоянной 1 для применяемой жидкости, которая определяется выражением

1 .IC /P где б коэффициент поверхностного натяжения жидкости; р,р - плотность жидкости и ее

пара, соотаетственно; g - 9,81 м/с - ускорение силы тяжести.,

20

25

.. 35

45

50

5

При этом, исходя из тех же условий, шаг между гофр ами 7 не превышает величины 7,0 .. h° , где h - высота гофр 7, мм о .Ширина а отражателя ( не превышает диаметра окружности, описанной по вершинам гофр 7о Отражатель 4 установлен относительно коллектора 1 с зазором Ь, не превышающим диаметр выпускных отверстий 3.

):{идкость, подлежащая распределению, например, на поверхности контактного аппарата для упаривания, подается по штуцеру 2 в коллектор 1 и вытекает через отверстия 3. В зависимости от дав-- ления жидкости струи вытекающей жидкости либо попадают на отражатель 4, либо сразу на наружную поверхность коллектора 1, на которой формируется сплошная жидкостная пленка Благодаря оптимальному выполнению гофр 7 обеспечивается полная смачиваемость по.- ,. верхности и безотрывное стекание пленки по поверхности коллектора 1 Жидкостная пленка движется по поверхности коллектора 1 к .нижней образующей и стекает по пластине б вниз, например, на теплообменную поверхность.

Формула изобретения 1. Распределитель жидкости, содержащий горизонтальный трубчатый коллектор с подводящим штуцером, выполненные в верхней части коллектора вдоль образу1и1:;ей выпускные отверстия, установленный над коллектором отражатель, отличающийся тем, что, с целью обеспечения устойчивой пленки стекающей жидкости в условиях ее переменных расходов, на наружной. - поверхности коллектора выполнены про-, дольные равнорасположенные по окружности выступь; 3 виде гофр с высотой, не превы1иа1сщей 3e.nH4viHy капиллярной

шагом, ,0,5

не

постоянной для жидкости, превышающим величины 7,0 , где h - высота гофр, а минимальный зазор между отражателем и гофрами коллекто- ра не превышает диаметра выпускных отверстий, а ширина отражателя не превышает диаметра окружности, описанной по вершинам гофр,

2. Распределитель по По 1, о т - личающийся тем, что подво

10

дящий штуцер установлен в верхней срединной части коллектора о

3. Распределитель по п. 1 о т - л и ч а ю uj и и с я. тем, что, с целью снижения трудоемкости его изготов ления, отражатель снабжен пластинами на торцах, контактирующих с коллектором, и прикреплен к подводящему штуцеру.

Изобретение может быть использовано в испарителях, контактных тепломассообменных аппаратах и позволяет обеспечить устойчивую пленку стекающей жидкости в условиях ее переменных расходов. На наружной поверхности горизонтти в условиального трубчатого коллектора (К) 1 выполнены продольные рати в условивнорасположенные по окружности выступы в виде гофр 7 с высотой, не превышающей величину капиллярной постоянной для жидкости, и шагом, не превышающим величины 7,0^.H°^,5, где H - высота гофр. Минимальный зазор между отражателем 4, установленным над К, и гофрами не превышает диаметра выпускных отверстий, выполненных в верхней части К вдоль образующей. Ширина отражателя 4 не превышает диаметра окружности, описанной по вершинам гофр. Подводящий штуцер 2 установлен в верхней срединной части К. В зависимости от давления жидкости ее вытекающие струи либо попадают на отражатель, либо сразу на наружную поверхность, на которой формируется сплошная жидкостная пленка. Гофры обеспечивают полную смачиваемость поверхности и безотрывное стекание пленки по поверхности К. С целью снижения трудоемкости изготовления распределителя отражатель снабжен пластинами 6 на торцах, контактирующих с К, и прикреплен к штуцеру. 2 з.п. фл-лы, 2 ил.

Ф .1