Маскирующий материал для фотоформ Советский патент 1989 года по МПК C09J7/02 G03F3/06 

Изобретение относится к получению маскирующего материала, используемого в офсетной и глубокой печати в качестве маски при выполнении монтажей фотофом для позитивного и негативного копирования.

Цель изобретения - обеспечение возможности многократного использования материала при монтаже фотоформ и после копирования.

В табл.1 представлены маскирующие материалы по изобретению, в табл.2 - их свойства.

В качестве покровных пленок используют пленки толщиной 18-45 мкм, в качестве подложки толщиной 70- 150 мкм, что обусловлено технологическими особенностями изготовления и использования материала„

В клеевом покрытии: в качестве сополимера используют сополимер бутадиена со стиролом или оЈ -метилстиролом радикальной полимеризации с содержанием стирола или сх -метилетирола 20- 30%, марок СКС-30, АРКП, СКМС-30 АРКПН, СКМС-30 РП, ДСТ-30, ДМСТ-30; в качестве воска используют церезин или полиэтиленовый воск; в качестве пластификатора используют масла индустриальные - вазелиновое, трансформаторное, эфиры фталевой и себаниновой кислот - дибутилфталат, дибутилсеба- цинат. хлорпарафин, или их смесь в любом соотношении; в качестве

4- ОС СО

билизатора используют диметил (4-фе- ниламинофенокси) силан, бис(3,5-ди- трет-бутил-4-гидроксибензил) сульфид диметилбис 4- С(нафтил-2) амино фенок- си|силан; 2,2 -метиленбис (6-трет- бутил-4-метилфенол); продукт взаимодействия диазотированного метаамино- азотолуола с р -нафтолом описывает- ся формулой

СН4СН3Н0

Полученный в соответствии с изобретением маскирующий материал обладает комплексом таких адгезион но-коге- зионных показателей, которые обеспечивают съемному слою (покровной полимерной пленке с клеевым покрытием) отделение от подложки бея разрыва клеевого слоя и оценивается показателем сопротивления отслаиванию съемного слоя от подложки.

Сопротивление отслаиванию определяли на разрывной матине РМБ-3 при скорости движения нижнего зажима 5 100 мм/мин и угле расслаивания 18С .

0

Изобретение относится к получению маскирующего материала, используемого в офсетной и глубокой печати в качестве маски при выполнении монтажей фотоформ для позитивного и негативного копирования. Изобретение позволяет обеспечить возможность многократного использования материала при монтаже фотоформ и после копирования за счет использования клеевого покрытия, содержащего, мас.ч: сополимер бутадиена со стиролом или 98A - метилстиролом 100

глицериновый эфир канифоли 5-50

пластификатор 0,5-30,0

полиэтиленовый воск или церезин 3-10

стабилизатор 0,5-2,0 и продукт взаимодействия диазотированного метааминоазотолуола с β-нафтолом 2-6. В качестве подложки в материале используют полиэтилентерефталатную пленку, в качестве покровной пленки-триацетатцеллюлозу или полиэтилентерефталат. 2 табл.

Для получения маскирующего материала на покровную полимерную пленку наносят на клеенаносной машине с помощью ракельного устройства предвари- тельно изготовленный клеевой состав, который сушат в сушильной камере при 90-150 С в течение 1-2 мин и дублируют с подложкой.

Толщина готового маскирующего ма териала ИОч-220 мкм.

Клей готовят в смесителе с пропеллерной мешалкой при температуре не выше 50°С, куда загружают растворитель (бутилацетат, бензин, о-ксилол, толуол или их смесь в любом соотношении), стабилизатор, продукт взаимодействия диазотированного метаамино- азотолуола с р -нафтолом и, после тщательного перемешивания, сополимер бутадиена со стиролом или oL -метиле тиролом. После их растворения загружают остальные компоненты согласно рецептурам табл.1 и перемешивают до получения однородного состава.

В соответствии с изобретением маскирующий материал используют в качестве маски при выполнении монтажных работ, для чего лист маскирующего ма

териала помещают на монтаж фотоформ. Режущим инструментом надрезают по контуру фотоизображений съемный слой (покровная полимерная пленка с кле- евым покрытием) и удаляют его.

В результате получают позитивную или негативную маску, после чего осуществляют копирование,

При корректировке контуров полученной маски снятый съемный слой повторно приклеивают к подложке и пос- ле копирования маскирующий материал сохраняет свои адгезиокно-когезион- ные показатели, что ч звотнет использовать его повторно.

0

5

0 Q

5

5

0

„

Сопротивления отслаиванию после копирания определяли в жестких условиях. Для чего из образца маскирующего материала вырезали полоски размером 10x150 мм, снимали съемный слой (покровная полимерная пленка с клеевым покрытием) и облучали клеевое покрытие на приборе ОКН-11 лучами ртутно-кварцевой лампы ПРК-4 на расстоянии 20 см в течение 15 мин. Затем образцы прикатывали валиком весом 5 кг и через 60 мин проводили испытание,

Формула изобретения

Маскирующий материал для фотоформ, состоящий из полимерной подложки, клеевого покрытия на основе синтети- ческого каучука, и триацетатцеллюлоз- ной или полиэтилентерефталлтной покровной пленки, о тличающий- с я тем, что, с целью обеспечения возможности многократного использования материала при монтаже фотоформ и ппсле копирования, полимерная подложка выполнена из полиотилентерефта- латной пленки, клеевое покрытие выполнено из композиции, содержащий,мае,ч:

Сополимер бутадиена со стиролом или oi -метил- стиролом1 ОС Глицериновый эфир канифоли

Пла с тифик а то р

Полиэтиленовый воск

или церезин

Стабилизатор

Продукт взаимодействия

диазотированного метааминоазотолуола с

6-нафтолом

5-50 0,5-30,0

3-10 0,5-2,0

2-6

Таблица 1

Показатели сопротивления отслаиванию, Н/м

Первоначальное

После 3-кратногопере- клеива- ния

После копирования

127

232

342

470

5(контрольная)9

6(контрольная)14

735 Известный25

Редактор М.Товтин

Составитель Г.Мишензникова

Техред А.КравчукКорректор О.Кравцова

Заказ 2503/24

Тираж 632

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГМП СССР 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Таблиц

После копирования

23 30 40 60

1

2 31

Подписное