УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА НА ПЛАТЫ Советский патент 1995 года по МПК H05K3/00 

Изобретение относится к производству печатных плат.

Цель изобретения расширение функциональных возможностей устройства путем обеспечения возможности утилизации подложки-носителя фоторезиста и ее повторного использования.

На фиг.1 изображена схема устройства; на фиг.2 и 3 варианты расположения опорных валков; на фиг.4-7 варианты установки опорных валков.

Устройство содержит узел 1 размотки рулонов 2 пленочного фоторезиста, состоящего из светочувствительного слоя 3, промежуточного слоя 4 и полимерной подложки-носителя 5 (см.фиг.2 и 3), узел смотки 6 защитной пленки с фоторезистом, механизм напрессовки фоторезиста с прикатывающими валами 7, внутри которых находятся нагреватели 8, узел смотки 9 подложки-носителя 5, опорные валки 10, привод 11 и механизм 12 подачи плат 13 из накопителя 14. Устройство размещено в вакуумной камере 15 с уплотнителем 16 и патрубком откачки 17. Опорные валки 10 установлены с возможностью изменения их положения путем перемещения держателя 18 относительно основания 19 при помощи микрометрического винта 20 (см.фиг.4), винта-фиксатора 21 (см.фиг.5), поворотного закрепления держателя 18 на оси 22 с фиксацией винтом 23 (см.фиг.6) или перестановкой валка 10 в отверстиях 24 основания 19 (см. фиг.7).

Устройство используют следующим образом. Рулоны 2 сухого пленочного фоторезиста устанавливают в узел 1 (верхний и нижний) размотки рулонов фоторезиста. Защитную пленку фоторезиста закрепляют в узле 6 смотки защитной пленки. Платы помещают в накопитель 14. Освобожденные от защитной пленки оба конца (верхний и нижний) сухого пленочного фоторезиста, который одновременно сходит с нижнего и верхнего узлов 1 размотки, пропускают между двумя прокатывающими обрезиненными валками 7 механизма напрессовки. Затем от фоторезиста отделяют подложку-носитель 5, которую, пропустив под опорным валком 10 (верхним и нижним), закрепляют на узле 9 смотки подложки-носителя (верхнем и нижнем соответственно).

Герметично закрывают разъемную вакуумную камеру 15 и вакуумируют ее внутреннее пространство до остаточного давления 0,01-200 мм рт.ст. через патрубок 17. Включают нагрев и устанавливают температуру нагревателя 8 50-120^оС. После нагрева включают привод 11 и механизм 12. При этом в механизме напрессовки светочувствительного слоя происходит нагрев и адгезионный контакт его с поверхностью заготовок печатных плат 13, подаваемых из накопителя 14. Далее заготовки печатных плат с напрессованным на нижнюю и верхнюю поверхности сухим пленочным фоторезистом, выходя из механизма напрессовки, освобождаются от подложки-носителя 5 и поступают в нижнюю часть вакуумной камеры 15 (или в специальную емкость). При этом подложка-носитель 5, огибая опорный валок 10, обеспечивающий оптимальный угол ее отслоения, поступает в узел 9 принудительной смотки. После завершения нанесения фоторезиста выключают нагрев, вакуумную камеру 15 сообщают с атмосферой и производят ее размыкание. Заготовки печатных плат с нанесенным на них сухим пленочным фоторезистом используют для дальнейших операций. С узла 9 смотки снимают рулон полимерной подложки-носителя 5 для повторного использования при изготовлении новой партии сухого пленочного фоторезиста.

Таким образом, при использовании предлагаемого устройства в значительной степени решается вопрос утилизации полимерной подложки-носителя. Использование предлагаемого устройства позволит снимать полимерную подложку-носитель до процесса обрезки фоторезиста и после смотки в рулон повторно использовать для изготовления новой партии сухого пленочного фоторезиста.

Кроме того, полностью исключается процесс снятия полимерной подложки-носителя с плат вручную, что приводит к увеличению производительности труда на стадии нанесения фоторезиста.

Изобретение относится к производству печатных плат. Цель изобретения - расширение функциональных возможностей устройства путем обеспечения возможности утилизации подложки - носителя и ее повторного использования. Пленочный фоторезист сматывается с рулонов 2, защитная пленка удаляется узлом 6 смотки и фоторезист напрессовывается прикатывающими валками 7 на платы 13. Подложка - носитель 5 отделяется и наматывается в рулоны дополнительным узлом 9 смотки. Опорные валки 10 обеспечивают оптимальный угол отделения подложки - носителя 5 от фоторезиста, предотвращающий ее разрывы и отслоение фоторезиста от платы. 7 ил.

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА НА ПЛАТЫ по авт. св. N 1253412, отличающееся тем, что, с целью расширения функциональных возможностей, оно снабжено узлом смотки подложки-носителя пленочного фоторезиста и двумя опорными валками для отделения подложки-носителя от фоторезиста, установленными между узлом смотки подложки-носителя и механизмом напрессовки пленочного фоторезиста с возможностью изменения и фиксации их положения относительно узла смотки подложки-носителя.