Стекло Советский патент 1989 года по МПК C03C3/85 

Изобретение относится к химически устойчивым стеклам, предназначенным для производства фотошаблонов.

Цель изобретения - сужение температурного интервала кристаллизации стекла.

Конкретные составы стекол приведены в табл. 1, свойства стекол - в табл. 2.

Шихта для конкретных составов готовится, в основном, из материалов номенклатуры ч (СаО - через метаси- ликат кальция), пропущенных через сито (сетка № 0315).

Варка проводится в 0,5-1 ,0-литровых кварцевьк тиглях в шахтной печи.

Стекло, кроме меньшего температур- -ного интервала кристаллизации, имеет еще ряд преимуществ, а именно низкий ТКЛР, что повышает четкость изображения топологического слоя при экспонировании, а также меньшую температуру варки, что повышает длительность

эксплуатации печи и качество вырабатываемого стекла.

Варку стекла можно проводить в электростекловаренной печи как с гра- фитовыьш электродами, так и с электродами из другого материала (молибден, платинородий).

Формула изобретения

Стекло, включающее SiO, , MgO, СаО, ZnO, , отличаю- |щ е е с я тем, что, с целью сужения температурного интервала кристалли- зации, оно дополнительно содержит MoOj при следующем соотношении компо-

(Л

нентов, мае. Sic а

А1гОз . MgO СаО ZnO Na.0 . МоОз

54,599-68,998 6,5-16,5 5,0-12,0 1,0-11,3 5,0-15,5 0,1-3,0

0,0005-0,005

Таблица 1

Изобретение относится к химически устойчивым стеклам, предназначенным для производства фотошаблонов. С целью сужения температурного интервала кристаллизации стекло содержит, мас.%:SIO₂ 54,599-68,998

AL₂O₃ 6,5-16,5

MGO 5,0-12,0

CAO 1,0-11,3

ZNO 5,0-15,5

NA₂O 0,1-3,0

MO O₃ 0,0005-0,005. Температурный интервал кристаллизации 900-1110°С, ТКЛР (20-300°С)Α(39-45^.10^-7 град^-1, температура варки 1410-1440°С, температура выработки 1200-1260°С, химическая устойчивость (потери массы) к H₂O 0,01-0,02%, светопропускание для длин волн 365 нм 80-82% и 405 нм 85,5-88%. 2 табл.