Изобретение относится к области плазменной технологии и может быть использовано для плазменной обработки диэлектрических материалов с целью получения низкосорбциоиных защитно- .де коративних покрытий.
Цель изобретения - повышение равномерности обработки поверхности по - длине дуги.
На фиг. 1 приведена форма магнитного поля, накладываемого на разряд; на фиг. 2 (а,б,в,г) - форма дуги при наложении на него магнитного поля в различные моменты времени. На фиг. 2 изображены дуга 1, катод 2 и анод 3.
Способ плазменной обработки поверхности реализуют следующим образом.
Зажигают разряд между анодов и катодом. Дугу перемещают равномерно вдоль обрабатываемой поверхности путем
перемещения вдоль поверхности плаз- . менного устройства. В катодной области на дугу накладывают магнитное поле, силовые линии которого перпендикулярны направлению тока дуги.
Дуговое пятно, взаимрдействующее с поверхностью под действием магнитного поля в виде однополярных треугольных импульсов, сканирует между анодом и катодом.
Равномерность оплавления поверх- ности достигается согласованием частоты накладываемого магнитного поля со скоростью перемещения дуги и диаметром ее токового канала.
Формула изобретения
о
fpi
3 1,
Способ плазменной обработки поверхности, включающий зажигание дуги, рас-
«1
WtWWUrffWWiWftW/tft
t tt
W//ff/f//fffbffjl)(ff/fti ff/rJfft tt
| название | год | авторы | номер документа |
|---|---|---|---|
| СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОЧИЩЕННЫХ ПОДЛОЖЕК ИЛИ ЧИСТЫХ ПОДЛОЖЕК, ПОДВЕРГАЮЩИХСЯ ДОПОЛНИТЕЛЬНОЙ ОБРАБОТКЕ | 2006 |
|
RU2423754C2 |
| ВАКУУМНОЕ ДУГОВОЕ УСТРОЙСТВО | 2001 |
|
RU2207399C2 |
| СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ИЗДЕЛИЙ ДУГОВЫМ РАЗРЯДОМ В ВАКУУМЕ | 2012 |
|
RU2509824C1 |
| СПОСОБ МОДИФИКАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ МАТЕРИАЛА ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКОЙ | 2011 |
|
RU2478141C2 |
| ВАКУУМНО-ДУГОВОЙ ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ | 1994 |
|
RU2072642C1 |
| Способ управления перемещением дугового разряда в рельсовом плазмотроне | 1987 |
|
SU1503672A1 |
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УСТРОЙСТВА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ | 1989 |
|
RU2176681C2 |
| СПОСОБ ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ МЕТАЛЛИЧЕСКОГО ИЗДЕЛИЯ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2004 |
|
RU2280110C2 |
| ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ С ПОГРУЖЕНИЕМ В ДУГОВУЮ ПЛАЗМУ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ И ИОННАЯ ОБРАБОТКА | 2014 |
|
RU2662912C2 |
| СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ИЗДЕЛИЙ ДУГОВЫМ РАЗРЯДОМ В ВАКУУМЕ | 1998 |
|
RU2144096C1 |
Изобретение относится к области и-с ивдппт дзр cvww. -1ЯСЗЛ11 плазменной технологии и может быть использовано для плазменной обработки диэлектрических материалов с целью получения низкосорбционных, защитно- декоративных покрытий на строительных материалах. Цель изобретения - повышение равномерности обработки поверхности по длине дуги. Это достигается наложением,магнитного поля в виде од- нополярных треугольных импульсов на перемещаемую относительно поверхности дугу, расположенную под углом к этой поверхности. Магнитное поле накладывают в прикатодной области с частотой f V/ds где V - скорость пег-1 ремещения разряда; d - токопроводящий с диаметр дуги. 2 ил. 59
| Авторское свидетельство СССР № 1071187, кл | |||
| Кипятильник для воды | 1921 |
|
SU5A1 |
| Генераторы низкотемпературной плазмы | |||
| Тез | |||
| докл | |||
| X Всесоюзн | |||
| конференции, Каунас, Минск, 1986,с.109- 110. | |||
