Изобретение относится к области электротехники, конкретно к способам управления перемещением дугового разряда и может быть использовано, напри- мер, для плазменной обработки дизлект- рических материалов с целью получения низкосорбционных защитно-декоративных покрытий.
Целью изобретения является повышение качества обработки путем равномерного перемещения разряда с заданной скоростью.i
На фиг. 1 показана схема экспериментальной установки, на которой осуществлен данный способ; на фиг, 2 - разрез А-А на фиг. 1; на фиг. 3 и 4 - векторные диаграммы сил, тока дуги и магнитных индукций. Дуговой разряд 1 с силой тока Т между
электродами 2 перемещается силой f при взаимодействии магнитного поля с индукцией Bj, создаваемого соленоидом 3, и током дуги I, Вторым подвижным электромагнитом 4 в зоне дуг ового разряда 1 создается магнитное поле с вектором индукции о ,
- На фиг. 3, F, - вектор силы, дс ; ;ствующей На дуговой разряд с током I При наложении магнитного поля с индукцией Bj. - вектор силы, действующей на дуговой разряд с током I при наложении магнитного поля с индукцией B. F - вектор результирующей силы, действукщей на дугопой piVi- ряд с током i при наложении двух скрещенных магнитных полей,. При зы- поднении условий 180 ь / ij
сл
о
СА СГ5
-ч| 1ЧЭ
ilk.
речультируклцая сшп F, дейгг11,( , , ,-J.
уц|Ц.1Я на дуговой рдзряд, направлена г-рпсидикулярио к поверхности обраба- мплсмого дпэлектрнчог.кого шделия 5, ipn этом действие горизонтальных сил 1-1 ДУ1 оной разряд компенсировано, си- F прижимает дуговой разряд к обра- С ;пьшаемой повв)хности Перемещая t мдгиитное поло В по направлению действия силы F , перемещается с той же скоростью и D ту же сторону дуговой ратояд под аействисм силы F, . Боль- тую скорость перемещения дугового разряда вдоль электродов не позволяет разлить тормозящее поле В, скорость перемещения которого и определяет скорость перемещения дугового разряда.
При /B z./ /B f//со8 и . (см. фиг.З) дуговой разряд перемещается вдоль олектродов в с торону иере
мощения магнитного поля В2, вправо поп действием илы Ру, влево - под дойствием F i FJ «F2. Направление рав- иолойствующей F смещено при выполнении указ-анных условий влево относительно Нормали к поверхности обрабатываемого и;угслия 5 (см. фиг А) ,
При В.,-В (с( 180) сила , т.е., не будет прижима к поверхности обрабатываемого изделия, онижается Ю1Ц дуги. При перемещении В в направлении Т . будет перемещаться и дуговой разряд в этом же направлении
При , / ) при перемещении маг Нитного поля будет перемещаться дуговой разряд в ту же сто
рону
iчто и магнитное поле При / В,/. -- - и O iea paBHoMepCOS «
ного перемещения дугового разряда не происходит, так как результирующая сила направлена вправо от нормали к поверхности (см. фиг.4).
Эксперимент ал ьй ые исследования подтвердили теоретические обоснования способа управления перемещением дугового разряда. На электро;;ы 2 подавалось напряжение постоянного тока 300 В. По всей длтше между электродами создавалось стационарное поле с индукцией В соленоидом 3. Вторым электромагнитом 4 соэдаоалось магнитное поле Bj п зоне дугового раз
ряда. Силоныр липни поля В располагались иод углом 4 22S к силовым линиям магнитного поли В. У1-ол в( задавался угл)М уз расположения электромагнита 4. При неподвижном электромагните А п, следовательно, магнитном поле Bj,, созда1Ш1егося электромагнитом 4, дуговой разряд 1 находился в неподпижном гголожении. При перемещении электромагнитна 4 перемещается в соответствующую сторону по электродам дуговой разряд 1 со скоростью, равной перемещению магнитного поля BI, создающегося электромагнитом 4.
Таким образом, использование двух скрещенных магнитных полей для управления псреметеиием дугового разряда I , ,- /
вдоль электродов (/В / 7,-т-f JT
( 6 270) позволяет paisnri-icpno перемещать дуговой разряд вдол электродов с заданной скороспью.
Использование изобретения обеспечивает рапномерность перемещении дугового разряда вдоль г.чектродоч с заданной скоростью, повышает кячестпо обработки диэлектрических материалов .
Формула изобре1ения
Способ управления перемещением дугового разряда в рельсовом плазмотроне для обработки диэлектрических материалов, при котором воздейстпую на разряд двумя скрещенными магнитными полями, вектор магнитлой индукции
Bv
У одного из которых, равномерно распределенного по всей длине электродов, направлен перпендикулярно плоскости расположения электродов, отличающийся тем, что, с целью повышения качества обработки путем равномерного перемещения разряда с заданной скстростью вдоль электродов, вектор магнитной индукции В второго поля, сконцентрированного в
зоне разряда, располагают под углом/ к вектору магнитной индукции В, в той же плоскости, причем 270, а величины индукций магнитных полей выбирают в соответствии с выражоиием /в;/, 5ь
2 COSo
.f
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
РЕЛЬСОВЫЙ ПЛАЗМАТРОН ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НА ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ | 1998 |
|
RU2124069C1 |
ВАКУУМНО-ДУГОВОЙ ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ | 1994 |
|
RU2072642C1 |
СПОСОБ ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ МЕТАЛЛИЧЕСКОГО ИЗДЕЛИЯ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2004 |
|
RU2280110C2 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ДУГОВОГО РАЗРЯДА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2000 |
|
RU2195517C2 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УСТРОЙСТВА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ | 1989 |
|
RU2176681C2 |
СПОСОБ ВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ВНУТРЕННЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ТРУБ | 1992 |
|
RU2039845C1 |
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ИЗДЕЛИЙ ДУГОВЫМ РАЗРЯДОМ В ВАКУУМЕ | 1998 |
|
RU2144096C1 |
ВАКУУМНО-ДУГОВОЙ ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ | 2000 |
|
RU2180472C2 |
СПОСОБ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННОЙ ПЛАВКИ МЕТАЛЛОВ И СПЛАВОВ В ГАРНИСАЖНОЙ ПЕЧИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2007 |
|
RU2346221C1 |
Способ дуговой зачистки металла | 1985 |
|
SU1379035A1 |
Фие.
fj
fffff ff
. 270 | Sll
I
Фиг.Ъ
/fos.t/
0(-Z25 fSfl ; ...,
Фиг. 2
- // х/ х //
J
18o dлг70 Фие и
Авторы
Даты
1993-04-30—Публикация
1987-12-18—Подача