Способ получения покрытия Советский патент 1990 года по МПК B05D1/38 

Изобретение относится к технологии получения защитного покрытия внутренней поверхности изделия в вакуумных электронных устройствах, в частности внутренней поверхности накопительной колбы квантового водородного генератора, и может быть использовано при исследовании физических и химических процессов в квантовой электронике и радиофизике, в физической химии, в вакуумной технике.

Целью изобретения является повышение эксплуатационных свойств покрытия за счет уменьшения коэффициента рекомбинации атомов водорода на стенках колбы.

Пример I. Изделие смачивают водной суспензией порошка политетрафторэтилена, сушат и спекают при 360-380°С.

После спекания изделие подвергают обработке атомарным водородом. В качестве источника атомарного водорода используют диссоциатор, представляющий собой разрядную камеру, на которой возбуждают высокочастотный газовый разряд. В диссоциатор непрерывно подают молекулярный водород в количестве, необходимом для создания парционного давления атомарного водорода в объеме изделия 10 Па. Газовый разряд в диссоциаторе включают на 3 ч, в течение которого происходит обработка внутренней поверхности объема атомами водорода при комнатной температуре. Отработанный газ эффу- зирует из объема изделия в вакуумную камеру и откачивается вакуумным насосом. После обработки изделия диссоциатор включают, подача водорода и откачка вакуумной камеры прекращается.

В объем вакуумной камеры и изделия для его консервации напускакУг сухой азот.

Пример 2. Внутренняя поверхность колбы смачивается водной суспензией порошка политетрафторэтилена, сушится и спекается в атмосфере кислорода при темперетуре 360°С. Покрытие двухслойное со смачиванием первого слоя 1%-ным водным раствором ПАВ (ОП-10). После смачивания ПАВом на поверхность наносится второй слой суспензии и осуществляется окончательное спекание при температуре 360-380°С в атмосфере кислорода. Колба устанавливается в вакуумную камеру 2. Обеспечивается требуемый

СП 4

со ел vj

w

режим обработки поверхности атомами водорода (давление 5 Па) в течение 5 ч.

В нашем случае для экспериментального выбора режима обработки проводился периодический контроль времени жизни атомов в колбе, для чего на короткое время прекращалась подача водорода. Аналогичные измерения проводились и перед началом обработки поверхности.

Температура спекания в пределах 360- 380°С не сказывается существенно на качестве покрытия (значения начального - до обработки водорода времени жизни атомов

водорода не коррелировались с температурой спекания 360-380°С и имели незначительный разброс в зависимости от партии суспензии и геометрии колб). По замеренным временам жизни атомов рассчитывался коэффициент рекомбинации атомов на поверхности накопительной колбы.

Результаты для двух накопительных колб водородного генератора с двухслойным покрытием из различных партий суспензии и отличающимися геометрическими размерами приведены в таблице.

Изобретение относится к технологии получения покрытий поверхности изделий в вакуумных электронных устройствах, в частности внутренней поверхности накопительной колбы квантового водородного генератора, и может быть использовано при исследовании физических и химических процессов в вакуумной технике, квантовой электронике и радиофизике. Изобретение позволяет повысить эксплуатационные свойства покрытий на внутренней поверхности накопительной колбы квантового водородного генератора за счет уменьшения коэффициента рекомбинации атомов водорода на стенках колбы. Для этого по предлагаемому способу наносят водную суспензию порошка политетрафторэтилена на поверхность изделия (колбы), сушат, спекают при 360 - 380°С и затем обрабатывают покрытие в атмосфере атомарного водорода при давлении 5 - 10 Па и комнатной температуре в течение 3 - 5 ч. 1 табл.

Полученное покрытие обладает улучшенными эксплуатационными свойствами в час- ти увеличения времени жизни атомов водо- рода (в 2 раза).

Формула изобретения

Способ получения покрытия на внутренней поверхности изделия путем нанесения водной суспензии порошка политеграфтор

этилена, сушки и последующего спекания при 360-380°С, отличающийся тем, что, с целью повышения эксплуатационных свойств покрытия, нанесенного на внутреннюю поверхность накопительной колбы квантового водородного генератора, покрытие после спекания обрабатывают в атмосфере атомарного водорода при давлении 5-10 Па и комнатной температуре в течение 3-5 ч.