Установка для очистки флюса Советский патент 1991 года по МПК C25D21/16 

1

(21)4731775/02 (22) 17.08.89 (46)23.07.91. Бюл. №27

(71)Московский научно-производственный кооператив Экология-2000 г

(72)В.Ф. Хромых (53)621.357.7(088.8)

(56)Заявка ФРГ № 3525373,

кл. С 25 D 21/16, опублик. 1986.

(54) УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ ФЛЮСА

(57)Изобретение предназначено для тонкой очистки флюса от примеси железа и может быть использовано в технологии горячего цинкования металлических конструкций и в других отраслях производства. Целью изобретения является повышение производительности и качества очистки флюса. Установка содержит ванну 1 флюсования, центробежный насос 2, отстойник 3 и двух- модульный ультрафильтр, состоящий из ультрафильтрационного 4 и концентрационного 5 модулей. Модуль 4 имеет три манометра: манометр 6 во входной камере, манометр 7 в камере фильтрата и манометр 8 после трубчатых фильтрующих элементов.

Изобретение предназначено для тонкой очистки флюса от примеси железа и может быть использовано в технологии горячего цинкования металлических конструкций и в других отраслях промышленности.

Цель изобретения - повышение производительности и качества очистки флюса.

На чертеже показана схема предлагаемой установки для очистки флюса от приме- си железа.

Модуль 5 оборудован устройством 9 для подачи в систему вспомогательного вещества для улучшения процесса ультрафильтрации и снабжен манометром 10. На линии вывода флюса установлен клапан 11, отстойник имеет клапан 12 для вывода сгущенного осадка, клапан 13 для вывода осветленного флюса, клапан 14 на линии подачи флюса в отстойник и клапан 15 для подачи в отстойник сгущаемой суспензии после модуля 4. Клапан 16 установлен на напорной линии подачи флюса, клапан 17 находится на линии вывода очищенного флюса в ванну 1. Между модулями 4 и 5 расположен клапан 18. Клапан 19 подсоединяет к модулю 5 устройство 9. После модуля 5 установлены клапан 20, служащий для ри- сайкла сгущенного осадка, и клапан 21 для вывода концентрата гидрооксида железа из установки. Клапан 22 предназначен для подачи осветленного флюса из отстойника 3 в ванну 1 при отстойном варианте очистки флюса. Для промывки сгущенного осадка гидрооксида железа служит клапан 23, через который подается промывная жидкость. 1 ил.

Установка содержит ванну 1 флюсования, центробежный насос 2. отстойник 3 и двухмодульный ультрафильтр, состоящий из ультрафильтрационного 4 и концентрационного 5 модулей. Модуль 4 имеет три манометра, расположенных в различных зонах ультрафильтра: манометр 6 - во входной камере, манометр 7 - в камере фильтрата и манометр 8 - после трубчатых фильтрующих элементов. Модуль 5 оборудован устройством 9 для подачи в систему вспомогательно v

Ј

О

а

00 00

Јь

го вещества с целью улучшения процесса ультрафильтрации. Он снабжен манометром 10,

Установка оборудована системой регулирующих и запорных клапанов. На линии вывода флюса из ванны 1 установлен регу- |лирующий клапан 11. Отстойник 3 имеет |клапан 12 для вывода сгущенного осадка |после отстаивания, клапан 13 для вывода осветленного флюса, клапан 14 на линии подачи флюса в отстойник и клапан 15 для подачи в отстойник сгущаемой суспензии после модуля 4. Клапан 16 установлен на напорной линии подачи флюса в ульфиль- трат, клапан 17 находится на линии вывода очищенного флюса в ванну 1. Между моду- |лями 4 и 5 расположен клапан 18. Клапан 19 подсоединяет к модулю 5 устройство 9. После концентрационного модуля 5 установлены клапан 20, предназначенный для рисайкла сгущенного осадка, и клапан 21 для вывода концентрата гидроксида железа установки. Клапан 22 предназначен для подачи осветленного флюса из отстойника 3 в ванну 1 при отстойном варианте очистки флюса. На установке предусмотрена промывка сгущенного осадка гидроксида железа. Для этого модуль 5 снабжен клапаном 23, через который подается промывная жидкость.

1 Установка работает следующим образом.

В процессе работы ванны 1 во флюсе происходит накопление примеси железа, которое в основном попадает в ванну 1 с предыдущей стадии кислотного травления. Содержание железа растет и постепенно достигает предельно допустимой концентрации (01-0,2 мас,%).

Для очистки флюса его направляют на ультрафильтрацию. Вначале, при необходимости, открывают клапан 19 и через устройство 9 вводят в модуль 5 расчетное количество вспомогательного вещества. Затем открывают клапаны 11,16,18,20 и включают насос 2 в режиме циркуляции. Режим ультрафильтрации контролируют с помощью манометров 6-8, установленных на модуле 4, а также манометра 10, установленного на модуле 5. Очищенный флюс отбирают из ультрафильтра через клапан 17 и непрерывно подают в ванну 1. В процессе ультрафильтрации в модуле 5 происходит непрерывное накопление осадка гидроксида железа. При этом содержание взвешенных частиц в ванне флюсования постепенно снижается, а концентрация сгущенного осадка в модуле 5 непрерывно возрастает.

После достижения в модуле 5 предельной концентрации сгущенного осадка его

промывают от флюса. Для этого закрывают клапан 11 и открывают клапан 23 для подачи промывной жидкости. После завершения стадии промывки концентрат гидроксида

железа выводят из модуля 5 через клапан 21 и вновь переходят на режим ультрафильтрации флюса, Процесс ультрафильтрации завершают после достижения заданной степени очистки флюса от примеси железа.

На установке предусмотрен второй вариант очистки флюса - отделение взвешенных частиц гидроксида железа в отстойнике 3. Для этого открывают клапаны 11 и 14, включают насос 2 и перекачивают содержимое ванны 1 в отстойник 3. После завершения отстаивания открывают клапан 12 и выводят из отстойника 3 сгущенный осадок гидроксида железа. Затем открывают клапаны 13 и 22, включают насос 2 и перекачивают осветленный флюс из отстойника 3 в ванну 1.

На установке предусмотрен вариант ис- пользования отстойника 3 в качестве сборника концентрированного осадка после

стадий ультрафильтрации и промывки. Для этого открывают клапан 15 и перекачивают в отстойник 3 предельно сгущенный и промытый осадок. После накопления концентрированного осадка в отстойнике 3 его

направляют на переработку.

Применение ультрафильтра с намывными динамическими мембранами обеспечивает практически полное 100%-ное удаление из флюса взвешенных частиц при

сохранении высокой удельной скорости ультрафильтрации-до 0,5 м3/м2 ч. Использование в установке полого модуля для концентрирования и промывки осадка позволяет в 10-15 раз снизить потери флюса

с выводимым осадком гидроксида железа.

Установка универсальна, она позволяет проводить тон кую очистку флюса в широком диапазоне рН (при условии образования гидроксида железа), концентрирование и

промывку осадка в различных режимах в зависимости от предъявляемых технологических требований к процессу.

Формула изобретения Установка для очистки флюса от примеси железа, содержащая ванну флюсования, насос и отстойник, отличающаяся тем, что, с целью повышения производительности и качества очистки флюса, она снабжена двухмодульным ультрафильтром, расположенным между насосом и ванной флюсования, один модуль которого выполнен в виде трубчатых фильтрующих элементов с динамическими намывными мембранами, а другой - полым, предназначенный для концентрирования осадка и последовательно соединенный q первым, причем выход очищенного флюса из первого модуля соединен с ванной флюсования, а выход

сгущенного осадка из второго модуля соединен с входом насоса и выполнен с регулирующим клапаном для вывода концентрированного осадка из установки.

Изобретение предназначено для тонкой очистки флюса от примеси железа и может быть использовано в технологии горячего цинкования металлических конструкций и в других отраслях производства. Целью изобретения является повышение производительности и качества очистки флюса. Установка содержит ванну 1 флюсования, центробежный насос 2, отстойник 3 и двухмодульный ультрафильтр, состоящий из ультрафильтрационного 4 и концентрационного 5 модулей. Модуль 4 имеет три манометра: манометр 6 во входной камере, манометр 7 в камере фильтрата и манометр 8 после трубчатых фильтрующих элементов. Модуль 5 оборудован устройством 9 для подачи в систему вспомогательного вещества для улучшения процесса ультрафильтрации и снабжен манометром 10. На линии вывода флюса установлен клапан 11, отстойник имеет клапан 12 для вывода сгущенного осадка, клапан 13 для вывода осветленного флюса, клапан 14 на линии подачи флюса в отстойник и клапан 15 для подачи в отстойник сгущаемой суспензии после модуля 4. Клапан 16 установлен на напорной линии подачи флюса, клапан 17 находится на линии вывода очищенного флюса в ванну 1. Между модулями 4 и 5 расположен клапан 18. Клапан 19 подсоединяет к модулю 5 устройство 9. После модуля 5 установлены клапан 20, служащий для рисайкла сгущенного осадка, и клапан 21 для вывода концентрата гидрооксида железа из установки. Клапан 22 предназначен для подачи осветленного флюса из отстойника 3 в ванну 1 при отстойном варианте очистки флюса. Для промывки сгущенного осадка гидрооксида железа служит клапан 23, через который подается промывная жидкость. 1 ил.