Устройство для фокусировки гауссова пучка в прямоугольник с равномерным распределением интенсивности Советский патент 1991 года по МПК G02B27/44 

)-2)L

/ 2

+ ехр(-

где Up, Vp - декартовые координаты в плоскости оптического элемента 1;

Я - длина волны падающего монохроматического излучения 3;

в - угол между оптической осью устройства и нормалью к плоскости оптического элемента 1;

modm/ (x) - фугкция. равная наименьшему положительному остатку деления х на тА;

m - заданное целое число;

f - заданное фокусное расстояние оптического элемента 1;

а- параметр гауссова пучка;

45h(Up,V0) modm x

Гир2соз2 + Ур2

50

erf (d/cr) x (a Up cos в erf f MP °s в + b vp erf (Vp/a55

-d(exp()

V,

+ exp()-2)J,

где Up, Vp -декартовы координаты е плоскости оптического элемента;

А- длина волны падающего монохроматического излучения;

в- угол между оптической осью устройства и нормалью к плоскости оптического элемента;

modmA (x) - функция, равная наименьшему положительному остатку от деления х на m А;

m - заданное целое число;

f - заданное фокусное расстояние оптического элемента:

а- параметр гауссова пучка;

2d - размер стороны оптического элемента;

2а, 2Ь - заданные размеры сторон фокусируемого прямоугольника.

Изобретение относится к оптике и может быть использовано в установках, предназначенных для освещения или обработки различного рода изделий пучками сконцентрированного лазерного излучения. Цель изобретения - повышение равномерности распределения Интенсивности а фокусируемом прямоугольнике. Устройство выполнено в виде фазового оптического элемента 1 - пропускающей зонной пластинки с микрорельефом 2. Приведено соотношение для определения высоты микрорельефа зон пластинки, обеспечивающее повышение равномерности распределения интенсивности в фокусируемом прямоугольнике 2 ил.

&м.Ј