Изобретение относится к испытаниям материалов, а именно к способам исследования микроструктуры образцов эластоме-. ров.
Целью изобретения является повышение чувствительности и упрощение способа.
Способ осуществляется следующим образом.
Образец из испытуемого эластомера нагружают одноосным растяжением по деформации 20 -50% для придания микромолекулам эластомера осевой направленности. После этого растянутый образец помещают в вакуумную камеру для предотвращения действия на образец активных продуктов фотолиза воздуха при деструктивном воздействии. В камере создают вакуум и воздействуют на образец деструктирующим фактором, а именно ультрафиолетовым излучением в диапазоне волн 150-400 нм.
Образец облучают в течение определенного промежутка времени. После облучения образец извлекают из камеры и снимают растягивающую нагрузку. За счет ультрафиолетового воздействия указанных длин волны происходит фотохимическое воздействие, т.е. поглощение молекулами кванта света и их возбуждение с последующей дезактивацией. При этом образуются макрорадикалы, которые создают дополнительные связи, приводящие к увеличению жесткости участка поглощения на глубину длины волны света. Жесткость остального объема образца не меняется. При снятии нагрузки образец сжимается. За счет большей жесткости поверхностного деструктирующего слоя он приобретает складчатую микроструктуру. Величина шага складок зависит от влияния и длины волны деструктирующего фактора и свойств материала (чем короче длина света, тем меньше глубина его проникновения и меньше шаг складок). Образ
Ј
1
зующиеся складки и их шаг изучаются подФормула из обретения
микроскопом.Способ исследования микроструктуры
Пример. Резину на основе каучукаобразцов эластомеров, по которому обраСКТВ-1 растягивают до 30% деформации.зец нагружают одноосным растяжением до Помещают в камеру и создают 5 заданной деформации, воздействуют девакуум 1(И мм рт.ст. Облучают его лам-структирующим фактором, разгружают и изпой ПРК-4 длиной волны 250 - 400 нм вмеряют микроструктуру, отличающийся
течение 30 мин. Снимают нагрузку и подтем, что, с целью повышения чувствительномикроскопом с увеличением в 200 разсти и упрощения способа, нагружения проиэмеряют величину шага, равную 12 мкм.10 изводят до деформации 20 - 50%, а в
По этой величине судят о влиянии светакачестве деструктирующего фактора испольи глубине разрушенного структурногозуют ультрафиолетовое излучение в диэпазослоя.не длин волн 150 -140 нм в вакууме.
| название | год | авторы | номер документа |
|---|---|---|---|
| СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ СЕРЕБРЯНЫХ НАНОЧАСТИЦ В СТЕКЛЕ | 2012 |
|
RU2509062C2 |
| СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОЛИМЕРНЫХ ПОКРЫТИЙ ДЛЯ ЗАЩИТЫ ПОВЕРХНОСТЕЙ ОТ АТМОСФЕРНЫХ ВОЗДЕЙСТВИЙ | 2006 |
|
RU2323239C1 |
| СПОСОБ ДЛЯ ОЦЕНКИ ПОТЕРИ МАССЫ И СОДЕРЖАНИЯ ЛЕТУЧИХ КОНДЕНСИРУЮЩИХСЯ ВЕЩЕСТВ ПРИ ВАКУУМНО-ТЕПЛОВОМ ВОЗДЕЙСТВИИ НА НЕМЕТАЛЛИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ В СОЧЕТАНИИ С ВЫСОКОЭНЕРГЕТИЧЕСКИМ ИЗЛУЧЕНИЕМ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2010 |
|
RU2468970C2 |
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ УГЛЕРОДНЫХ НАНОСТРУКТУР | 2006 |
|
RU2319663C1 |
| Способ упрочнения полимерных скаффолдов из полилактида | 2018 |
|
RU2686106C1 |
| ЭЛАСТОМЕРНЫЕ ПОКРЫТИЯ | 2016 |
|
RU2745046C2 |
| ДИФРАКЦИОННАЯ РЕШЕТКА | 2013 |
|
RU2541495C1 |
| ОПТИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО, СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСТЕР-КОПИИ, ИСПОЛЬЗУЕМОЙ ПРИ ИЗГОТОВЛЕНИИ ОПТИЧЕСКОГО УСТРОЙСТВА, И ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ | 2007 |
|
RU2450294C2 |
| ИЗДЕЛИЯ, ВКЛЮЧАЮЩИЕ МЕМБРАНЫ ИЗ РАСШИРЕННОГО ПОЛИТЕТРАФТОРЭТИЛЕНА С ИЗВИЛИСТЫМИ ТОНКИМИ ВОЛОКНАМИ | 2012 |
|
RU2583395C2 |
| Способ изготовления образца для измерения деформаций прозрачных материалов | 1984 |
|
SU1232940A1 |
Изобретение относится к испытаниям материалов. Целью изобретения является повышение чувствительности и упрощение способа. Образец из испытуемого эластомера нагружают одноосным растяжением по деформации 20 - 50%. После этого образец помещают в вакуум и воздействуют в вакууме на него светом с длиной волны 150 - 400 нм. За счет облучения на поверхности образца образуется хрупкий слой. При снятии нагрузки на поверхности образуются микроскладки, шаг которых определяют под микроскопом. По величине шага судят о влиянии света и глубине структурно-измененного слоя.
