СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩИХСЯ КОМПОЗИЦИЙ Советский патент 1966 года по МПК G03C1/68 C08F228/02 

Известны сиособы иолучения фотонолимернзующихся композиций на основе полимера, полимеризационноснособных соединений и инициаторов нолимеризации.

По предлагаемому способу в качестве иолимеризациоиносиособных соединений нрименяют соединения, содержащие в цени группы

I1

- С - S - С -, например полиэфиракрилаII

ты на основе тиодивалериановой кислоты. Соединения этого класса обладают способностью к полимеризации под действием света или инициаторов неперекисного тииа и является сшивающими агентами. Кроме того, они являются ингибиторами процессов термической (темновой) и инициированной перекисями и гидроперекисями полимеризации и могут служить стабилизаторами в процессе первоначальной переработки и хранения композиций для нолучения фоторельефов. Указанные соединения являются также временными пластификаторами переработки композиций, повышающими пластичность композиций и снижающими температуру предварительной переработки.

Пример 1. Композиция, состоящая из 970/0 иолиэфиракрилата марки МГФ-9, 1% перекиси бензоила и 2% олигомера марки МДГТВ-1 диметакрилат- (бисдиэтиленгликольтиодивалериаиата), выдерживается ири 70°С в течение 6 час. Полимеризации не происходит.

Контрольная композиция, не содержащая олигомера, полностью заполимеризовалась

при нагревании в течение 12 мин ири 70°С.

Пример 2. Плеика, приготовленная из олигомерстирольного сополимера (типа ОС-3,7), содержащего метакрильные двойные связи, с добавкой 3% олигомера МДГТВ- и

3% полиэфиракрилата марки МГФ-9, толщиной 2 МЛ1 хранится в темноте нри комнатной температуре в течение 15 дней.

Растворимость пленки полностью сохраняется. Контрольные образцы, содержащие от

О до 6Vo МГФ-9, теряют растворимость через 3-5 дней вследствие темповой полимеризации.

Пример 3. Из комиозиции, содержащей полимер марки ОС-3,7 (97%), олигомер

МДГТВ-1 (21э/о) и бензил (1%), готовят прессованием при 80°С пленки толщиной 2 мм. Пленки хранятся в темноте на воздухе 1- 15 дней, затем экспонируются 14 мин светом лампы ДРШ-250 (расстояние 20 см) с тепло3Неэкспонированные участки пленки отмываются в толуоле с помощью щетки 2-3 мин. После сушки в течение 10-12 мин в сущильном щкафу при 70°С получаются фоторельефы. -. Предметизобретения Способ получения фотополимеризующихся композиций на основе полимера, полимериза4ционноспособного соединения и инициатора полимеризации, отличающийся тем, что, с целью стабилизации и временной пластификации композиций в процессе переработки, в качестве полимеризационноспособного соединения применяют соединение, содержащее в цег г пи группы - С - S - С -.