Известен способ .получения фоТо полимермзующихся «омпозиций, заключающийся е том, что к раствору пол:ио.ксиэт илена добавляют полимеризационноспособяый олиго-мер -ол«гоэфиракрйлат и сенсибилизатор, .например бензоин. Предлагают способ получения рельефных фотоизобралсений иа основе .про-мышленных полимеров и олироэфира.крилатов, которые, являя сь хорошо совмест1имым1и материалами, дают хорошие эласТ(Ичиые пленки (после облучения -с хорошей адгезией меди, а до облучения- легко снихмаемые с любой подложки), что в свою очередь .позволяет использовать их в качестве самостоятельной фоточувствительной сухой гибкой легко транспортируемой пленки. О дн ов р ем енл о о гаисьш аем ы и фоточ увстви тельный полимер после воздействия УФ-овета и проявления в воде обладает удовлетворительной водо-термостойкостью и ударопрочиостью. В,качестве линейного полимера .предлагают применять клеевую смолу, маркч ПФЭ 2/10 1на основе метилилполиамида, изготавливаемую еа Рошальскол химко-мбинате. иленгликольфталат, ТГМЗ -диметакрилатэ ни лен гликоль и т. д. Таким образо:М, предлагаемые составы обдают вполне удовлетворительными качестми, необходимыми для изоляторов, а также иемлемы с экономической точки зрения. Состав композиции I, г: Мети поли амид н а я «л еев а я ПФЭ-2/101 Д|имета.крил аттр иэ ти л ен гл и коль (ТГМ-3)0,2-0,5 Триэтаноламвн (ТЭА)0,01 Триметакрилаттриэтаноламин0,01 Бензоие0,005-0,01 Бензантрон0,005-0,01 Этиловый спирт20-30 мл Состав композиции II, г: .ПФЭ-2/101 МДФ-10,2-0,6 ТЭА0,01 Тр им е такр ил а ттриэта но л амин0,01 Бензоин0,005-0,01
ТГМ-30,2-0,4
Димегакрилаттриэтиленгли-г
«ольфталат (МГФ9)0,2-0,4
ТЭА0,01
Гл1ицидилмета1крилат (ГМ)0,01
ЦЬнзоин,0,005-0,01
Б ензавтрон 0,005-0,01
Эниловый спирт20-30 мл
Порядок составления композиций и -получение рельефа.
ПФЭ IB количестве 1 г ipaciiBopHroT в 15 мл этилового спирта, туда же добавляют олигоэфиракрилаты. Отдельно растворяют ,в 5- 10 и лэтилового спирта сенсибилизаторы,подогревая раствор до температуры не выше 40- 50°С.
Посл-е охлаждения растворы сливают. В однородный раствор добавляют остальные компоненты КОМ|ПОЗИЦ1И;И. Вновь все тщательно перемешивают. Затем раствор отстаивают в течение 1 час и поливают на очиш,енные и декапированные медные пластинки (можно использовать любую другую подложку). ПоСле двукратного полива со -стОКом в противоположные Стороны пластинки сушат лод углом 45° 1К горизонтальной поверхноСти при комнатной тем1пературе в отсутствие УФ-света.
Сухую пластинку экспонируют через негатив на расстоянии 25 см от ртутно-кварцевой
лампы iBbicOKoro давления или другого Источника УФ-овета- при охлаждении экспонируем ой noBepxiHOCTH вентилятором или другим
СПОСОбО:М.
Проя1ВленИ:е производят в теплой (40- 50°С) смеси вода : спирт ( : 0,3) или 5%-ном растворе бикарбоната ;Натрия.
Предмет изобретения
Способ получения фотополимеризуюш,«хся композиций на основе полимера, полимеризационноопособного олигомера - олигоэфиракрилата и сенсибилизатора, отличающийся тем, что, с целью получения фотополимеризуюш ихся композиций, обеспечивающих высокую прочно1сть слоя и обладающих хорошими физико-механическими свойствами, в качестве
полимера применяют метилолполиамид.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩИХСЯ КОМПОЗИЦИЙ | 1967 |
|
SU202731A1 |
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ | 1972 |
|
SU421973A1 |
Л..- . iBATtuTira. - ,,,ItlТ^Ш'ЩСКАЯPISJiBiitbRA | 1970 |
|
SU272815A1 |
Фотополимеризующаяся композиция | 1974 |
|
SU584279A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩИХСЯ КОМПОЗИЦИЙ | 1967 |
|
SU197403A1 |
Фотополимеризующаяся композиция | 1976 |
|
SU577505A1 |
СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ МАТЕРИАЛ | 1972 |
|
SU330421A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НЕГАТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА | 1968 |
|
SU211317A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩИХСЯ КОМПОЗИЦИЙ | 1966 |
|
SU181280A1 |
ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ | 1980 |
|
SU893034A1 |
Даты
1969-01-01—Публикация