Изобретение относится к области радиотехники, а и.менно к области технологии изготовления нленочных конденсаторов постоянной . емкости для пленочных схем.
Известен способ изготовления нленочных конденсаторов постоянной емкости, основанный на послойном осаждении на подложку термическим испарением в вакууме из резистивного испарителя сублимата, содержащего двуокись кремния и алюминия.
Однако этот способ очень критичен к температуре испарения, что затрудняет получение конденсаторов с высокими и повторяющи.мися электрическими параметрами.
Цель изобретения - изготовление тонкопленочных конденсаторов, обеспечивающих высокую воспроизводимость их параметров в процессе производства и уменьщение влияния температуры испарителя на параметры изготавливаемых конденсаторов.
Для этого используют сублимат, состоящий из 30-70% двуокиси кремния, 5-40% окиси алюминия, до 10% двуокиси титана, до 15% окиси кальция и до 15% окиси магния, который (Превращают в порощок и непрерывно подают на ниобиевую или танталовую ленту, нагретую до 1700-1950°С, с последующей термообработкой полученных конденсаторов на воздухе при температуре 100-250°С.
В качестве подложки используют ситалловую или стеклянную цластинку, обработанную по 14 классу точности. Подложку очищают в перекиси водорода. Температуру ее при испаренни поддерживают в пределах от 50 до 70°С и размещают на расстоянии около 200 .им от испарителя. Скорость осаждения составляет 5-10 А/сек. После напыления диэлектрика напыляют алюминий, повторяя этот процесс
0 до получения конденсатора требуемой емкости.
Воспроизводимость параметров конденсаторов составляет 93% при 15%-ном допуске. При
5 испытании на термоциклирование полученные конденсаторы легко выдерживают 50-кратные перегрузки от -60 до +125°С, так как температурный коэффициент расщирения диэлектрической пленки близок к коэффициенту расщн0рения подложки.
Предмет изобретения
Способ изготовления конденсаторов постоянной емкости, основанный на последовательном напылении в вакууме диэлектрических слоев из сублимата, содержащего двуокись кремния, и металлических слоев, например слоев алюминия, отличающийся тем, что, с целью улучшения электрических цараметров онден§сатбров и уменьшения разброса этих параметров в процессе массового производства, сублимат состоит из 30-70% двуокиси кремния, 5-40% окиси алюминия, до 10% двуокиси титана, до 15% окиси магния и до 15% окиси5 4 кальция, а испарение его производят при непрерывной подаче на нагретую до 1700- 1950°С танталовую или ииобиевую ленту с иоследующим термообжигом диэлектрических слоев на воздухе при температуре 100-250С.
