ТЕХНИЧЕСКАЯ ^^ БИБЛИОТЕКА Советский патент 1970 года по МПК C03C17/09 C23C14/06 

Известен способ получения основы с металлическим покрытием для изготовления, например, фотолитографских масок, заключающийся в том, что на поверхность предварительно обезжиренной и очищенной основы, в качестве которой используют стекло, методом вакуумного напыления наносят слой металла, в качестве которого используют хром.

Предлагаемый способ повышает прочность масок и увеличивает точность и четкость получаемых на них изображений.

Это достигается тем, что носле нанесения

СЛОЯ металла толщиной от 400 до 600А удаляют слабо сцепленные с основой металлические частицы струей сжатого воздуха и наращивают путем напыления в вакууме второй слой того же металла, доводя общую толщину

покрытия до 800-1200 А.

Способ состоит в следующем.

Пластину из натриевого стекла подвергают очистке и обезжириван ю нутем кинячения в моющем средстве, носле чего производят доиолнительное кннячение пластины в перек :си водорода, промывают в деионизованной воде и обдувают очищенным воздухом. Оставщуюся на стекле влагу удаляют нутем просушивания иластины в сушильной нечи при температуре около 120°С в течение 30 мин.

Затем пластину помещают в устройство для вакуумного напыления металлов, где наносят слой хрома толщиной примерно 400-

600 А. Требуемая толщина покрытия была достигнута при выдерживании пластины в парах расплавленного хрома в течение 13 сек. После нанесения слоя хрома удаляют частицы металла, имеющие слабое сценление с основой, нутем помещения пластины иод направленно перемещаемую струю сжатого воздуха, подаваемого под давлением 4,22 /сгс/слг-. После этого пластину вновь помещают в устройство для вакуумного напыления и выдерживают в парах расплавленного хрома в течение 13 сек до иолучения одиородного беспористого

нокрытия ТОЛЩ1И-10Й около 1000 А.

Полученные при указанных режимах покрытия используют для иолучения фотолитографских масок. Эти маски имеют минимально допустимое количество пор на единицу иоверхности металла, которое составляет одну пору на каждые 1,3 с.из поверхности металла, при этом срок их превышает в 5-50 раз

срок службы обычных эмульсионных масок, а

хромового покрытия в зависимости от способа дальнейшей обработки пластины после наращивания второго хромового слоя может колебаться в пределах от 800 до 1200 А.

Предмет изобретения

Способ получения основы с металлическим покрытием для изготовления фотолитографских масок, заключающийся в том, что на поверхность предварительно обезжиренной я очищенной основы, в качестве которой используют стекло, .методом вакуумного напыления наносят слой металла, в качестве которого используют хром, отличающийся тем, что, с целью повышения прочности масок и увеличения точности и четкости получаемых на них изображений, после нанесения слоя металла

толщиной от 400 до 600 А удаляют слабо сцепленные с основой металлические частицы струей сжатого воздуха и наращивают путем напыления в вакууме второй слой того же металла, доводя общую толпшну покрытия до

800-1200 А.