Известна интегральная схема с нерегулярной металлической .разводкой трехслойной структу1ры, выполненной в виде токоведущих нин и перемычек.
Цель изобретения - .получение большей крат1ности тюлвречных сечений токоведущич шин и перемычек. Для этого разводка изготовлена из алюмнння-ванадия-алюмнния, причем :1еремычки сделаны из нижнего слоя алюминия указанной структуры. При этом плош;адь полеречного сечения перемычек меньше плош,л дн сечения трехслойной структуры.
На фиг. 1 изображена интегральная схема, общий вид; на фиг. 2 - 1К01НСТ1рукция разводки ьо новой методике.
Поверх (кремниевых полос /, в которых сформированы диодные структуры 2 и разделенных изолируюшнми промежутками из ситалла 3, располагают токо,ведуш,ие шины 4, перемычки 5 и контактные плош,адки 6. Шпны и ко тактные плош,адки выполнены в виде трехслойной структуры алюминий-ванадий-алюминий с толиинной слоев 0,1-0,3-0,6 мк соотвегсгвенно и соедипены между собой перемычками 5, изготовленными в нижнем слое алюмикия толш,иной 0,1 мк. Нанесение трехслойной структуры алюминий-вападий-алюминий осуществляют вакуумным напылением. На фого.резисте, на1неоенном поверх указанной структуры, создают рисунок Т01козедуш,их шин i
контактных плош,адок. Травлением в ортофосфорной кислоте, не воздействующей на ванадий, удаляют алюминий (верхний слой) Б областях, не защищенных фоторезистом, используя слой ванадия в качестве стопорною слоя, предотвращающего подтравливание нижнего слоя алюми1ния. Удалив старый Слой фоторезиста и нанеся новый, создают рисунок разводки с перемычками; травлением в азогкой, а затем в ортофосфорной кислоте CTipaisливают ванадий и нижний слой алюминия I: областях, не закрытых фоторезистом. Сняв фоторезист, осуществляют травление ванадил о азотной кислоте. Поскольку алюминий н . зотной кислоте практически не травится, после удаления ванадия нижний слой алюминия в области перемычек оказывается вскрытым.
Предмет и з о б р е т е ;i и я
Интегральная схема с нерегулярной металлической разводкой трехслойной структуры, выполненной В виде токоведущих щин и перемычек, отличающаяся тем, что, с целью получения большей кратности поперечных сечении токоведущих шин и перемычек, упомянутая разводка изготовлена из алюминия-ванадияалюминия, причем перемычки выполнены и
нижнего СЛОЯ алюминия указанной структуры, при этом площадь поперечного сечення ;пер-мычек меньше площади сечения трехслойной структуры.
4/
Ф;г..2
