Изобретение относится к оборудованию полупроводникового производства, в частности к установкам для совмещения рисунка на подложке с рисунком на фотошаблоне и экспонирования при фотолитографии.
Известны установки для совмещения и зкспонирования, содержащие устройство для совмещения, оптическую систему для визуального контроля совмещения, источник света для экспонирования. Эти установки при использовании их для совмещения рисунков, имеющих элементы размером несколько микрон, не обеспечивают точной и постоянной величины микрозазора между подложкой п фотощаблоном, в частности, из-за перемещения подложки в вертикальной плоскости пневмоприводом.
Целью изобретения является создание установки для совмещения и экспонирования, обеспечивающей более высокую точность установки микрозазора между подложкой и фотошаблоном.
Цель достигается тем, что привод манипулятора для точного вертикального перемещения подложки выполнен в виде электромагнита и двух независимых шарнирно установленных на оси рычагов. Один из рычагов верхним плечом находится в постоянном контакте с нижней клиновой направляющей, а нижним плечом, являющимся якорем электромагнита.
связан с другим рычагом, обеспечивающим точное перемещение нижней клиновой направляющей. На чертел е изображено предлагаемое устройство для совмещения и экспонирования.
Устройство состоит из оптического устройства /, источника света 2, корпуса 3 с фотощаблоном 4, стола 5 со сферической опорой для размещения подложки 6, снабженного
манипулятором 7 с кЛ П10вой направляющей 8 вертикального перемещения п клиновой направляющей 9 горизонтального перемещения подложки. Направляющие скреплены между собой пружиной 10.
Привод перемещения клиновой направляющей 9 состоит из рычага // независимого перемещения, рычага 12, прижатого пружиной 13 к клпновой направляюп ей 9, и рычага 14 с электромагнитом 15, снабженным тумблером 16. Рычаг 14 перемещаться от кулачка 17.
Подлол ка 6 располагается на столе 5, а фотошаблон 4 закрепляется в корпусе 3. Затем рычаг // отводнтся, н клиновая направляющая 9 перемещается в горизонтальной плоскости при помощп пружины 10, поднимая клиновую направляющую 8, которая прилгимает подлол ку 6 к фотощаблону 4. После прижима подложки рычаг 12 останавливает
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ подготовки к контактному экспонированию и устройство для его осуществления | 1977 |
|
SU750614A1 |
Устройство для проекционной печати и совмещения рисунков фотошаблона с подложкой | 1972 |
|
SU481145A1 |
УСТРОЙСТВО для СОВМЕЩЕНИЯ РИСУНКА Фо|с1Щ^ЛрНА '• I С РИСУНКОМ подложки ПРИ КОНТАКТНОЙ ФОТОПЕЧ/СТЙ-^ | 1967 |
|
SU190210A1 |
ПОВТОРНОЕ ИСПОЛЬЗОВАНИЕ КРУПНОРАЗМЕРНОЙ ПОДЛОЖКИ ФОТОШАБЛОНА | 2007 |
|
RU2458378C2 |
Устройство для совмещения рисунков подложки и фотошаблона | 1977 |
|
SU695433A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДВУСТОРОННЕГО СОВМЕЩЕНИЯ РИСУНКОВ ПОДЛОЖКИ С РИСУНКАМИ ФОТОШАБЛОНОВ | 1971 |
|
SU414142A1 |
Устройство для совмещения фотошаблона с подложкой | 1982 |
|
SU1053188A1 |
Устройство для совмещения фотошаблона и заготовки | 1983 |
|
SU1099307A1 |
Устройство для совмещения и экспонирования фотошаблона и подложки | 1989 |
|
SU1675833A1 |
Способ фотолитографии | 1971 |
|
SU656555A3 |
Даты
1972-01-01—Публикация