СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ АНТИСТАТИЧЕСКОЙ ОСНОВЫ ДЛЯ КИНОФОТОМАТЕРИАЛОВ Советский патент 1972 года по МПК G03C1/85 

I

Известен способ обеспечения антистатической защиты кинопленок путем нанесения на обратную сторону фотоматериала лакового слоя, содержаще-го натриевую соль продукта конденсации п-крезилгликоля с /г-оксибензойной кислотой (лак «ОК) или натриевую соль сополимера Дгетилметакрилата и метакриловой кислоты.

Однако np« нанесении эмульсионнОГО слоя на обе стороны подложки (например, в случае изготовления рентгеновских, фототехнических и других пленок) антистатический лак применять нельзя, так как на обе стороны подложки наносится оодслой для скрепления эмульсионного слоя с подложкой, в этом случае подслой должен ие только обеспечивать скрепление подложки с эмульсионным слоем, но и обладать антистатическими свойствами, чтобы исключить возйикновение зарядов нри поливе эмульсионного слоя.

Отсутствие подслоя с антистатическими свойствами делает практически невозможным полив эмульсионных слоев «а высокоскоростных машинах с интенсивной сушкой эмульсионного слоя..С целью обеспечения универсальной антистатической зашиты кинофотоматериало.в по предлагаемому способу юолимериую основу с подслоем, содержащим вещества с кислыми группами, пропускают через кюяету со спиртовым раствором щелочи. После обра-ботки нленку высушивают лри 70-75°С.

Полимерная подслоированная основа, обработанная таким образом, имеет хорощую адгезию к эмульсионному слою; поверхностное сопротивление основы после обработки 1-10 ож -ЫО ом при относительной влажности 65%. Такая основа имеет хорон1ую прозрачную поверхность. Основа, обработанная 0,01-0,06 н. раствором щелочи, после высушивания при смотке в рулон не слипается.

Пример 1. Подслоированную триацетатную основу обрабатывают в кювете с помощью купающего валика 0,045 н. раствором КОП в метиловом спирте и высушивают при 70-75°С. Затем на антистатический подслой наносят обычным методом фотографический эмульсио 1ный слой. Удельное поверхностное сопротивление антистатического подслоя при влалшости 65% 0,2-Ю ом.

Контрольный образец без обработки: удельное поверхностное сопротивление при относительной влалшости 65% 0,4-10 ом.

Пример 2. Двухосноориентированную и термофиксированную подслоированную полиэтилентерефталатную обнову обрабатывают, как в примере 1, 0,04 н. раствором КОП в этиловом с,пй|рте и высушивают при 70-75°С, 3 после ч&го наносят эмульсионный слой.Электр0:проводность подслоя при относительной влажности 65% 0,9-Ю ом. Контрольный образец без обработки: электропроводность подслоя при относительной влажности 65% 0,1-10 ом. 4 Предмет изобретения Способ изготовленияантистатической осяб вы для кинофотоматериалое, отличающийся тем, что, с целью обеопечения универсальной антистатической защиты кииофотоматериалов, полимерную основу с подслоем, содержащим 1веЩества с кислыми группами, обрабатывают раствором щелочи.