Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме.
Известна установка для нанесения покрытий в вакууме, содержащая шлюзовые камеры, соединенные с вакуумной камерой, внутри которой расположены испаритель, манипулятор с нагревателем и кассетами, кассетоприемник, расположенную снаружи вакуумной камеры магнитную систему и пульт управления.
Однако в известной установке невоз.можно осуществить магнитный отжиг пленок непосредственно после их осаждения.
Цель изобретения - создание такой установки, в которой возможно было бы осуществить магнитный отжиг пленок после их осаждения.
Это достигается наличием расположенного внутри вакуумной камеры между манипулятором и кассетоприемником термического блока с ячейками для кассет и с раздельно регулируемыми системами нагрева и о.хлаждения.
На чертеже изображена установка, общий вид.
Установка состоит из шлюзовых камер /, соединенных с вакуумной камерой 2, внутри которой расположены испаритель 3, манипулятор 4 с нагревателем 5 и кассетами 6, кассетоприемника 7, расположенной снаружи вакуумной камеры / магнитной системы 8 в виде катушек Гельмгольца, пульта 9 управления и расположенного внутри вакуумной камеры } между манипулятором 4 и кассетоприемником 7 термического блока 10 с ячейками для
кассет и с раздельно регулируемыми системами нагрева П и охлаждения 12.
Очищенные подложки закладывают в кассеты 6 с масками требуемой конфигурации, далее через шлюзовую камеру / вводят в вакуумную ка.меру 2 и помещают в манипулятор 4. Затем воздух из камеры откачивают до давления около мм рт. ст., а манипулятор с подложками прогревают до требуемой температуры (280-350°С) и после контроля
скорости испарения происходит конденсация пленок на подложки, поочередно перемещаемые в кассетах из манипулятора 4 в термический блок lOj предварительно нагретый до требуемой температуры отжига, где они выдерживаются при заданной температуре в течении требуемого промежутка времени в присутствии ориентирующего магнитного поля. После этого нагревательную систему отключают и включают систему 12 принудительного охлаждения. Термический блок 10 быстро охлаждается и магнитный отжиг на этом заканчивается. Далее подложки с пленками из охлажденного термического блока 10 поочередно перемещают в кассетоприемник 7 и чеПредмет изобретения
Установка для нанесения покрытий в вакууме, содержащая шлюзовые камеры, соединенные с вакуумной камерой, внутри которой расположены испаритель, манипулятор с нагревателем и кассетами, кассетоприемник, расположенную снаружи вакуумной камеры магнитную систему и пульт управления, отличающаяся тем, что, с целью осуществления магнитного отжига пленок после их осаждения, установка снабжена расположенным внутри вакуумной камеры между манипулятором и кассетонриемником термическим блоком с ячейками для кассет и с раздельно регулируемыми системами нагрева и охлаждения.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ИСПАРИТЕЛЬ | 1971 |
|
SU433252A1 |
Вакуумный комплекс термического отжига полупроводниковых пластин | 2021 |
|
RU2764877C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ | 1995 |
|
RU2111291C1 |
УСТРОЙСТВО ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ | 1991 |
|
RU2014670C1 |
ИСПАРИТЕЛЬ | 1991 |
|
RU2031187C1 |
Установка для термообработки пленок на подложках | 1988 |
|
SU1560957A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ | 2004 |
|
RU2270490C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ | 1995 |
|
RU2066706C1 |
СПОСОБ СИНТЕЗА НАНОСТРУКТУРНОЙ ПЛЕНКИ НА ИЗДЕЛИИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ | 2010 |
|
RU2466207C2 |
Способ вакуумного ионно-плазменного осаждения тонкой пленки твердого электролита | 2021 |
|
RU2765563C1 |
Даты
1972-01-01—Публикация