Изобретение относится к области гальваностегии и может нрименяться для контроля и регулирования средней катодной плотности тока нри нанесенйи гальванопокрытий. Известен способ автоматического контроля и регулирования средней катодной плотности тока в гальванической ванне. Однако известный способ требует предварительного снятия зависимости между напряжением на ванне и суммарным током ванны при неизменной плотности гока и меняющейся нагрузке. Точность снятия данной кривой и способа ее аппроксимации влияет па точность измерения и регулирования катодной плотности тока. Целью изобретения являемся повышение точности измерения и улучшение качества покрытий. Это достигается тем, что катодную плотность тока определяют нутем измерения тока разряда электрической емкости между источником питания ванны и ее заземленным корпусом, причем заданную катодную плотность тока поддерживают путем воздействия на регулируемый источник питания ванны обратной связью по току разряда данной электрической емкости. На чертеже приведена функциональная электрическая схема для реализации предлагаемого способа. В процессе электролиза между анодными пластинами / и 2 и обрабатываемой деталью- дом 3 относительно заземленного корпуса ы 4 создается результирующая емкость С, деляемая по формуле (±J Г2 , 1а Ci - емкость, создаваемая анодными пластинами / и 2 относите.тьно заземленного корпуса ванны 4; Cz - емкость, создаваемая обрабатываемой деталью - катодом 3 относительно заземленного корпуса ванны 4; е - электрическая постоянная; 5i - общая площадь анодов / и 2; Sz - общая площадь обрабатываемой детали - катода 3; /1 - расстояние анодов 1 и 2 до корпуса ванны 4; /2-расстояние обрабатываемой детали - катода 3 до корпуса ванны 4. к разряда i электрической емкости, проющий между анодами / и 2 и заземленкорпусом ванны по зашунтированной церибора 5, характеризуется формулой Уе(- . v(C,-Ct) 1
где V
напряжение регулируемого источника питания 6 t - время.
По шкале прибора 5, проградуированной в а1дм, проводится измерение и установка заданной плотности тока /. Заданная катодная плотность тока поддерживается воздействием на регулируемый источник питания 6 обратной связью по току разряда указанной электрической емкости.
Плотность тока / на обрабатываемой детали катоде 3 определяется по формуле
/5,
где / - ТОК регулируемого источника питания 6.
Ток регулируемого источника питания связан с током разряда электрической емкости передаточным коэффициентом К
(4)
Из формул (3) и (4) устанавливают, что ,,(5)
т. е. ток i разряда электрической емкости пропорционален площади S2 обрабатываемой детали - катода 3.
При изменении илощади 52 обрабатываемой детали - катода и в начальный момент после включения регулируемого источника иитаиия
4 ik /Sj
(6)
В переходной период ток t разряда, протекающий по цепи прибора 5, воздействует на орган автоматического контроля и регулирования, который через псиолиительный механизм регулируемого источника питания восстанавливает плотнссть тока / на обрабатываел-юй детали - катоде до заданной веллчипы.
Сопротивлением 7 настраивают показание прибора 5 по известной площади обрабатываемой детали - катода 3 в ванне. Футеровку ванны изготавливают из диэлектрического материала.
Предмет изобретения
Способ автоматического контроля и регулирования средней катодной плотности тока в гальванической Bainie, отличающийся тем, что, с целью иоБышення точности измерения и улучпгення качества покрытий, плотность тока определяют путем измерения тока разряда электрической емкости меЖлДу источником питания ва)1ны и ее заземленным корпусом, причем заданную катодную нлотность тока поддерживают путем воздействия на регулируемый источник питания ванны обратной связью по току разряда данной электрической емкости.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
УСТРОЙСТВО для КОНТРОЛЯ и РЕГУЛИРОВАНИЯКАТОДНОЙ плотности | 1972 |
|
SU339596A1 |
Способ автоматического контроля плотности тока при гальванических процессах | 1975 |
|
SU565080A1 |
Способ контроля средней катодной плотности тока в гальванической ванне | 1980 |
|
SU943336A1 |
Устройство для электрохимического формирования керамикоподобных покрытий на поверхностях изделий из вентильных металлов | 2020 |
|
RU2746192C1 |
Устройство для плазменно-электролитной обработки изделий из вентильных металлов и их сплавов | 2021 |
|
RU2773771C1 |
Устройство контроля и автоматического регулирования плотности тока в гальванической ванне | 1975 |
|
SU565955A1 |
СПОСОБ МИКРОДУГОВОГО ОКСИДИРОВАНИЯ | 2008 |
|
RU2389830C2 |
Способ измерения площади деталей при гальваническом процессе | 1980 |
|
SU883197A2 |
Устройство контроля и автоматического регулирования плотности тока в гальванической ванне | 1985 |
|
SU1271917A1 |
Способ регулировки силы тока и соотношения анодной и катодной составляющих тока в конденсаторной установке микродугового оксидирования | 2023 |
|
RU2812068C1 |
Авторы
Даты
1973-01-01—Публикация