СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МУЛЬТИПЛИЦИРОВАННЫХ ФОТОШАБЛОНОВ Советский патент 1973 года по МПК G03F5/06 

1

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано для изготовления фотошаблонов пленочных микросхем.

Известен способ изготовления .мультиплицированных фотошаблонов лосредством фотонабора повторяющегося рисунка с одновременной его мультипликацией с помош ью растрового объектива.

Однако известный способ не позволяет изготавливать фотошаблон с различным шагом мультипликации с одним объективом.

По предлагаемому способу с целью обеспечения возможности изготовления фотошаблонов с различным шагом мультипликации с одним объективом, перед растровым объективом размещают сменную маску из набора масок, каждая из которых обеспечивает необходимый шаг мультипликации.

На чертеже изображена функциональная схема, поясняющая предлагаемый способ изготовления мультиплицированных фотошаблонов.

Предлагаемый способ заключается в следующем. Совокупность структур 1-3 на фотошаблоне 4 создается фотонабором дискретных элементов 5 с использованием растрового объектива 6.

Маскирование внутришаговых элементов растра достигается установкой пластины-маски 7, 8 или 9 перед или за растром на определенные механические базы (например, два цилиндрических штифта 10).

Работающими элементами растра будут те, против которых на пластине-маске имеются отверстия П диаметром не менее шага элемента растра.

Для использования такого способа при большой номенклатуре изделий потребуются сменные пластины-маски, позволяющие оставить работающими в оптической схеме оптические элементы, расстояние между которыми равно предполагаемому щагу 12 мультипликации.

Таких пластин должно быть столько, сколько типоразмеров шагов на фотошаблонах.

Приступая к изготовлению комплекта фотошаблонов, необходимо изготавливать пластину-имаску, т. е. в пластине, толщина которой 0,5 мм, просверлить отверстия диаметром не менее шага элементов растра с точностью

±0.1 -WAI, с такой же точностью на пластинемаске соблюдается шаг этих отверстий в требуемых координатах. Готовая пластина-маска устанавливается в узел, где сбазирован растр. Затем производится генерация всех структур

фотошаблона методом фотонабора.

Предлагаемый способ изготовления фотошаблонов для пленочных микросхем свободен от недостатков, присущнх известному способу, так как фотонабор через линзы растра позволяет создать структуру с размером, равным ходу стола, а узел растра, имеющего шаг оптическнх элементов, кратный ряду типоразмеров тонкопленочных схем, с помощью пластины-маски позволяет оставить работаюндими нужные элементы растра (в противном случае рисунки будут Прерываться и портить друг друга).

Для реализации предлагаемого способа требуется фотонаборная установка, оснащенная растровым объективом с шагом расположения оптических элементов, кратным типоразмерам

шагов на фотошаблонах пленочных схем и устройством смены пластин-масок.

Пред,мет изобретения

Способ изготовления мультиплицированных фотошаблонов посредством фотонабора повторяющегося рисунка с одновременной его мультипликацией с помощью растрового объектива, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности изготовления фотощаблонов с различным шагом мультипликации с одним объективом, перед или за растровым объективом размещают сменную маску из набора масок, каждая из которых обеспечивает необходимый шаг мультипликации.

32}