АППАРАТ ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ПРОЦЕССОВ В ТОНКОМ СЛОЕ Советский патент 1973 года по МПК B01D1/22 

Изобретение относится к аппаратам для обработки жидкости в тонком слое.

Известны аппараты для проведения процессов в тонком слое, состоящие из вертикального цилиндрического корпуса, внутри которого размещены испарительная труба и пленкообразователь с гладкой поверхностью. Недостатком этих аппаратов применительно к высоковязким продуктам, например расплаву поликапроамида, является неравномерное распределение вязкого продукта по периметру гладкой поверхности пленкообразователя. Образующиеся иаплыБЫ увеличивают продоллсительность процесса и ухудшают качество готового продукта.

С целью получения равномерной пленки вязкого продукта в предлагаемом аппарате поверхность пленкообразователя выполнена гофрированной, причем взаимно пересекающиеся канавки направлены под утлом к оси пленкообразователя. Для вьюоковязких жидкостей оптимальное значение этого угла 45°.

На фиг. 1 представлен предлагаемый аппарат, продольный разрез; на фиг. 2 - схема распределения ;,продукта по стенке пленкообразователя.

Аппарат сост.оит из вертикального коршуса J с греющей рубащкой 2 и испарительной трубой 3, соединевной в нижней части с корпусом аппарата и образующей таким образом кольцевой карман 4.

Корпус / снабжен обогреваемой крышкой 5 со штуцером 6, предназначенным для отвода пизкомолекулярных соединений.

В верхней части аппарата на испарительной

трубе 3 закреплен цилиндрический пленкообразователь 7, на нарулшой поверхности которого, обращенной к испарительной трубе 3, выполнены взаимно пересекающиеся канавки 8. Штуцер 9 служит: для подачи вязкого продукта в кольцевой карман 4, образованный испарительной трубой 3 и корпусом /. Штуцер 10, расположенный в днище аппарата, предназначен для выгрузки готового продукта.

Аппарат работает следующим образом.

Вязкий продукт подается через штуцер 9, заполняет кольцевой карман 4 и, переливаясь через порог испарительной трубы 3, стекает по ее поверхности, касаясь рабочей шоверхности пленкообразователя 7. При этом происходит выравнивание толщины пленки по периметру испарительной трубы 3. Стекая по поверхности испарительной трубы 3, продукт собирается в нижней части аппарата, откуда через штуцер 10 он выгружается.

Предмет изобретения

Аппарат для проведения процессов в тонком слое, наиример, для отгонки низкомолекулярных соединений, содерл ащий вертикальный корпус с греющей рубашкой, испарительную трубу и установленный в верхнем конце трубы цилиндрический пленкообразователь, отличающийся тем, что, с целью получения

равномерной пленки вязкого .продукта, на наружной поверхности пленкообразователя выполнены взаимно пересекающиеся канавки, направленные под углом к его оси.

носитель

L Тепло- -

Hocvmejrt.

Фиг. 2