СПОСЮБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МЕМБРАННЫХПРИБОРОВ С МИКРОЗАЗОРОМ Советский патент 1974 года по МПК F16J3/00 H04R7/02 

Изобретение относится к области микроэлектронной техники и предназначено для использования при. изготовлении микрополостных электромеханических приборов (пленочных электростатических реле, мембранных модуляторов света и др). Известные способы изготовления мембранных приборов с микрозазорол путем последовательного нанесения электродов, изоляционного и буферного слоев, с последующим жидкостным вытравливанием буферного слоя для образования зазора, удалением травящей жидкости и сушкой не обеспечивают повышенного качества изготоъленил из-за залинания мембраны при сушке под действием сил поверхностного натяжения в зазоре, соизмеримых по величине с электростатическими силами, действуюнхими в готовом приборе при его работе. Отличием описываемого способа является то, что сушку производят в электростатическом поле, силы притяжения которого превыН1ают силы поверхностного натяжения в зазоре. Это позволяет повысить качество изготовления прибора. При реал-изации описыв-аемого способа последовательно наносят (напыляют) на подложку прибора тянущие электроды, изоляционный слой, контакты, буферный слой и, мембрану, после чего удаляют буферный слой посредством вытравливания и промывки с сушкой прибора в электростатическом поле, силы притяжения которого превышают силы поверхностного натяжения в зазоре. Последняя операция может быть реализована с помощью приспособления, конструктивная схема которого показана на чертеже. Оно представляет собой диэлектрическую подложку / с нанесенными па нее двумя электродами 2 и несколькнм.и опорными выступами 3. При сушке прибора с подложкой 4 и ме,мбраной 5 устройство устанавливают на подложку опорными выступами так, чтобы электрическое поле между электродами 2 замкнулось через мембрану 5. Во время сушки электростатические силы оттягивают мембрану к электродам 3, и жидкость свободно испаряется из мнкрополости прибора. Предмет изобретения Способ изготовления мембранных приборов с микрозазором путем последовательного нанесен-ия электродов, изоляционного и буферного слоев, с последующим жидкостным вытравливанием буферного слоя для образования зазора, удалением травящей жидкости и сушкой, отличающийся тем, что, с целью 3 повышения качества изготовления, сушку производят в электростатическом поле, силы при4тяжения которого превышают силы поверхкостного натяжения в зазоре.