1
Изобретение относится к технологии производства .полупроводниковых приборов, в частности жремниевых интегральных схем. Оно может быть применено для изготовления легирующих окисных пленок на кремнии, при создании полевых приборов с изолированным затвором и т. д.
Известен способ окисления кремния в открытой системе на воздухе в присутствии окиси свиНца прИ температуре 725° С. Увеличение температуры до 800° С и выше не ускоряет процесса роста окисной пленки.
Предлагаемый способ отличается тем, что в окислительную среду водят пары соедилений элементов Ilia группы, нанример хлоридов галлия и индия. Это ускоряет процесс.
Окисление проводят в реакторе, аналогичном тому, который применяется при известном способе. В качестве окислительной среды используют смесь сухото и влажного кислорода.
Пример. Кремниевые пластины помешают в кварцевую трубу с двумя газовыми вводами. Один служит для подачи увлажненного кислорода непосредственно в зону окисления кремния, другой - для ввода сухого кислорода, транспортируюш,его пары хлоридов галлия и индия к окисляемой поверхности. Трубу помещают в двухзонную печь так, чтобы лодочка с хлоридом, расположенная в непосредственной близости от ввода сухого кислорода, нагревалась до 750-800° С, а окисляемые пластины - до 1050-1150° С.
Скорость роста окисных пленок на кремнии увеличивается в присутствии хлоридов галлия и индия примерно в 2 раза по сравнению с окислением в увлажненном кислороде и в 1,7 раза но сравнению с окислением известным способом.
Предмет изобретения
Способ окисления кремния, предусматривающий введение соединений прнмесных элементов в окислительну1о среду, отличающийся тем, что, с целью повышения скорости окисления, в окислительную среду вводят пары соединений элементов Ilia группы, например хлорида галлия и индия.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СТРУКТУРА МЕТАЛЛ-ДИЭЛЕКТРИК-ПОЛУПРОВОДНИК НА ОСНОВЕ СОЕДИНЕНИЙ AB И СПОСОБ ЕЕ ФОРМИРОВАНИЯ | 2010 |
|
RU2420828C1 |
ПРИМЕНЕНИЕ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ ГЕРМАНИЯ ИЗ ГАЗОВОЙ СРЕДЫ ГЕРМАНА В КАЧЕСТВЕ СПОСОБА УДАЛЕНИЯ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ С РАБОЧЕЙ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКИ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКОЙ ПЛЁНКИ ГЕРМАНИЯ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ, ВКЛЮЧАЮЩИЙ УКАЗАННОЕ ПРИМЕНЕНИЕ | 2016 |
|
RU2622092C1 |
ПОДЛОЖКА ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ НИТРИДА ГАЛЛИЯ | 2007 |
|
RU2369669C2 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СТЕКЛОВИДНОЙ КОМПОЗИЦИИ | 2012 |
|
RU2529443C2 |
Способ определения содержания кислорода | 1976 |
|
SU735571A1 |
ПЛЕНКА ДВУОКИСИ КРЕМНИЯ НА КРЕМНИИ И СПОСОБ ЕЕ ПОЛУЧЕНИЯ | 2017 |
|
RU2660622C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ НАНОСТРУКТУРИРОВАННОГО ЧУВСТВИТЕЛЬНОГО ЭЛЕМЕНТА ДАТЧИКА ВАКУУМА И ДАТЧИК ВАКУУМА | 2013 |
|
RU2539657C1 |
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ ПЛЕНКИ НИТРИДА МЕТАЛЛА ГРУППЫ (III) И ПЛЕНКА НИТРИДА МЕТАЛЛА ГРУППЫ (III) | 2005 |
|
RU2391444C2 |
Способ изготовления МДП-структур на основе InAs | 2015 |
|
RU2611690C1 |
СПОСОБ СОЗДАНИЯ ЛЕГИРОВАННЫХ ОБЛАСТЕЙ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ И ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ | 1982 |
|
RU1083842C |
Авторы
Даты
1974-05-05—Публикация
1972-07-26—Подача